专利名称：曝光装置、曝光方法以及器件制造方法
技术领域：
本发明涉及在投影光学系统和基板之间形成有液浸区域的状态 下在基板上曝光图案的曝光装置和器件制造方法。
背景技术：
半导体器件和液晶显示器件用把形成在掩模上的图案转印到感 光性的基板上的所谓的光刻法的方法制造。在该光刻法工序中使用的 曝光装置具有支撑掩模的掩模载台和支撑基板的基板载台，是一边逐 次移动掩模载台以及基板载台一边经由投影光学系统把掩模的图案转 印到基板上的装置。近年，为了与器件图案的进一步的高集成化对应， 希望投影光学系统的进一 步的高解像度化。所使用的膝光波长越短， 或者投影光学系统的数值孔径越大，投影光学系统的解像度越高。因 此，在曝光装置中使用的曝光波长一年年在短波长化，投影光学系统 的数值孔径也在增大。然而，现在主流曝光波长是KrF准分子激光的 248nm，而更短波长的ArF准分子激光的193nm也已实用化。此外， 在进行瀑光时，焦深(DOF)也和解像度一样重要。解像度R以及焦 深S分别用以下的式子表示。
R=krX/NA (1)
S=±k2'X/NA2 ( 2 )
在此，人是膝光波长，NA是投影光学系统的数值孔径，、、k2 是工艺系数。从(1)式、(2)式可知，为了提高解像度R，如果缩 短膝光波长X，增大数值孔径NA，则焦深S变窄。
如果焦深S过窄，则难以相对投影光学系统的像面来匹配基板表 面，曝光动作时的裕度有可能不足，因而，作为实际缩短曝光波长， 并且扩大焦深的方法，例如，提出了在国际公开第99/49504号公报中 公开的液浸法。该液浸法的方法是，用水和有机溶剂等的液体充满投 影光学系统的下面和基板表面之间形成液浸区域，在利用在液体中的 曝光光束的波长是空气中的1/n (n是液体的折射率， 一般是1.2-1.6 左右)这一点提高解像度的同时，把焦深扩大约n倍。
可是，在上述以往技术中存在以下所述的问题。上述以往技术因 为在一边向规定方向移动基板一边扫描膝光时可以在投影光学系统和 基板之间形成液浸区域所以有效，而其结构是相对基板的移动方向， 在投影掩模的图案的像的投影区域跟前提供液体，液体从投影区域的 跟前侧沿着基板的移动方向在单方向上流动。然而也可以是这样的结 构，在从上述规定方向向相反方向切换基板的移动方向时，也可以切 换提供液体的位置(喷嘴)。可是已明确知道的是，因为在该切换时 对投影区域迅速停止来自一方向的液体提供，开始来自另一方向的液 体的提供，所以在投影光学系统和基板之间发生液体的振动(所谓的 水锤现象)，或者在液体供给装置自身(供给管和供给喷嘴等)间发 生振动，产生引起图案像的劣化的问题，此外，因为其结构是相对投 影区域从单一方向流过液体，所以还存在在投影光学系统和基板之间 不能充分形成液浸区域这样的问题。
此外，在上述以往技术中，因为其结构是回收液体的回收部只在 上述基板的移动方向上流动液体的下游侧回收液体，所以还产生不能 充分回收液体的问题。如果不能充分回收液体则在基板上残存液体， 由该残存的液体的原因引起发生曝光模糊的可能。此外，如果不能彻 底回收液体，则残存的液体飞溅到周边的机械部件上，还产生使其生 锈等的异常。进而，如果液体残存或者飞溅，则随着放置基板的环境 (湿度等)的变化，由于引起在载台位置测量中使用的光干涉计的检 测光的光路上的折射率的变化等原因，还有产生不能得到所希望的图
案转印精度的危险。
此外，在用液体回收喷嘴回收基板上的液体时，有可能在液体回 收装置自身(回收管和回收喷嘴等)间发生振动。该振动如果传递到 投影光学系统和基板载台，或者用于测量基板载台的位置的干涉计的 光学部件等上，则有可能不能在基板上高精度地形成电路图案。
发明内容
本发明就是鉴于上述情况而提出的，其目的在于提供一种在投影 光学系统和基板之间形成有液浸区域的状态下进行曝光处理时，在稳 定地形成液浸区域的同时可以良好地回收该液体，防止液体向周边的 流出或飞賊等可以高精度曝光处理的膝光装置、曝光方法以及器件制 造方法。此外，本发明的目的在于提供一种在投影光学系统和基板之 间形成有液浸区域的状态下曝光处理时，不受在液体的供给或者回收 时产生的振动的影响，可以高精度曝光处理的曝光装置以及器件制造 方法。
为了解决上述问题，本发明釆用与实施方式所示的图1~图21 对应的以下的结构。但是，附加在各要素上的带括号的符号只不过是 该要素的示例，没有限定各要素的意图。
如果采用本发明的第1形态，则提供一种曝光装置(EX)，它 通过隔着液体(1)把规定的图案的像投影到基板(P)上曝光基板， 包括
在基板上投影上述图案的像的投影光学系统(PL);
为了在包含投影光学系统(PL)的投影区域(AR1)的基板(P) 上的一部分上形成液浸区域(AR2),从在不同的多个方向上与投影 区域(AR1)隔开的多个位置上，向基板(P)上同时进行液体(1) 的供给的液体供给机构(10、 11、 12、 13、 13A、 14、 14A)。
如果采用本发明，则用于形成液浸区域的液体供给机构因为从在 不同的多个方向上与投影区域隔开的位置上(即，投影区域的不同的 多侧上，例如如果是矩形的投影区域则从X侧，-X侧，十Y侧、- Y侧的至少二侧区域)同时进行液体的供给，可以在投影光学系统和 基板之间形成所希望的液浸区域。此外，因为在多个方向上隔开的多 个位置上同时进行液体的供给，所以在一边移动基板一边曝光处理时， 即使改变基板的移动方向也可以始终良好地形成液浸区域。如果在投 影区域的两侧同时提供液体，因为不需要切换液体的供给位置，所以 可以防止液体的振动(水锤)的发生，可以把图案像高精度地投影到 基板上。
如果采用本发明的第2方式，则提供通过隔着液体(1)把规定 图案的像投影到基板(P)上曝光基板的曝光装置(EX)，包括
在基板上投影上述图案的像的投影光学系统(PL);
为了在包含投影光学系统(PL)的投影区域(AR1)的基板(P) 上的一部分上形成液浸区域(AR2)，向基板(P)上提供液体(1) 的'液体供给才几构(10、 11、 12、 13、 13A、 14、 14A);
从在不同的多个方向上与投影区域(AR1)隔开的多个位置上同 时进行基板(P)上的液体(1)的回收的液体回收机构(20、 21、 22、 22A)。
如果采用本发明，则用于回收液体的液体回收机构因为从在不同 的多个方向上与投影区域隔开的多个位置上(即，投影区域的不同的 多侧，例如，如果是矩形的投影区域则是从X侧、-X侧、十Y侧、 -Y侧的至少二侧)同时进行液体的回收，所以可以可靠地进行液体 的回收。因而，可以防止在基板上残留液体的状态的发生，可以防止 曝光模糊的发生和放置基板的环境变化，可以把图案像高精度地投影 到基板上。
如果采用本发明的第3方式，则提供通过隔着液体(1)把规定 图案的像投影到基板(P)上曝光基板的曝光装置(EX),
包括在基板上投影上述图案的像的投影光学系统(PL);
为了在包含投影光学系统(PL)的投影区域(AR1)的基板(P) 上的一部分上形成液浸区域(AR2),向基板(P)上提供液体(1) 的液体供给机构(10、 11、 12、 13、 13A、 14、 14A);
在多个位置上同时进行基板(P)上的液体(1)的回收的液体回
收机构(20、 21、 22、 22A、 22D、 24)，
液体回收才几构(20、 21、 22、 22A、 22D、 24)才艮据液体回收位 置用不同的回收力回收液体。
如果采用本发明，则在基板上的多个位置同时进行液体的回收的 液体回收机构因为与液体回收位置相应以不同的回收力回收液体，所 以可以平滑地进行液体回收动作。因而，可以以适宜的量的液体充满 投影光学系统和基板间，可以在基板上的所希望的区域内形成液浸区 域。例如，通过对于基板的移动(扫描)方向把前方侧(下游侧)的 液体的回收力设定为比后方侧(上游侧)大，可以平滑地进行液体回 收动作。或者，通过使沿着基板的移动(扫描)方向的位置配置的液 体回收机构的液体回收力，比沿着和移动方向交叉的方向的位置配置 的液体回收机构的液体回收力大，也可以平滑地进行液体回收动作。
如果采用本发明的第4方式，则提供通过隔着液体(1)把规定 图案的像投影到基板(P)上曝光基板的曝光装置(EX)，包括
在基板上投影上述图案的像的投影光学系统(PL);
为了在包含投影光学系统(PL)的投影区域(AR1)的基板(P) 上的一部分上形成液浸区域(AR2)，向基板(P)上提供液体(1) 的液体供给机构(10、 11、 12、 13、 13A、 14、 14A);
在从投影区域(AR1)隔开的回收位置上进行基板(P)上的液 体(1)的回收的液体回收才几构(20、 21、 22、 22A)，
相对投影区域(AR1 )被配置在液体回收才几构(20， 21, 22， 22A) 的液体回收位置的外侧上，形成有捕捉液体(1)的液体收集面(31) 的收集部件(30)。
如果采用本发明，则在液体回收机构的液体回收位置的外侧上， 通过设置形成有捕捉液体的规定长度的液体收集面的收集部件，即使 假设液体回收机构不能彻底回收液体，通过用该收集部件捕捉液体， 也可以防止液体向周围的流出或飞溅等的异常的发生。因而，可以防 止配置有基板的环境的变化的发生，可以以所希望的图案精度把图案像投影到基板上。
如果采用本发明的第5方式，则提供通过把规定的图案的像隔着 液体(1)投影到基板(P)上啄光基板的曝光装置(EX):
包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统(PL);
为了在包含投影光学系统(PL)的投影区域(AR1)的基板(P) 上的一部分上形成液浸区域(AR2)，向基板(P)上提供液体(1) 的液体供给机构(10, 11， 12， 13， 13A， 14， 14A);
在从投影区域(AR1)隔开的回收位置上进行基板(P)上的液 体(1)的回收的液体回收机构(20, 21， 22， 22A)，
通过液体供给机构(10、 11、 12、 13、 13A、 14、 14A)进行的 液体(1)的供给在液体回收才几构(20、 21、 22、 22A)的液体回收位 置和投影区域(AR1)之间进行。
如果采用本发明，则因为液体提供机构进行的液体的提供在液体 回收机构的液体回收位置和投影区域之间进行，所以在把液体平滑地 提供给投影区域的同时，可以把已提供的液体从基板上平滑地回收。
如果采用第6方式，则提供通过隔着液体(1)把规定图案的像 投影到基板(P)上曝光基板的曝光方法，包括
为了在包含投影光学系统(PL)的投影区域(AR1)的基板(P) 上的一部分上形成液浸区域(AR2)，提供和投影光学系统(PL)的 前端的液体接触面(2a)的亲和性比和基板(P)表面的亲和性还高 的液体(1);
经由提供给上述液浸区域(AR2)的液体(1)把规定图案的像 投影到基板(P)上。
如果采用本发明，则可以使液体与投影光学系统的前端的液体接 触面密实接触，在可以把投影光学系统和基板之间的光路设置成稳定 的液浸状态的同时，可以平滑地回收基板上的液体。
本发明的器件制造方法其特征在于^^用上述形态的曝光装置 (EX )或者曝光方法。如果采用本发明则具有以良好的图案精度形成 的图案，可以提供能够发挥所希望的性能的器件。
如果采用本发明的第7方式，则提供隔着液体(1)把规定图案 的像投影到基板(P)上曝光基板的曝光装置(EX):
在基板上投影上述图案的像的投影光学系统(PL);
具有向基板(P )上提供液体(1)的供给流路(94A， 95A， 94B， 95B)的液体供给才几构(10， 11， 12, 41， 42);
具有回收所提供的液体的回收流路(96A， 97A, 98A， 99A， 96B， 97B， 98B, 99B， 96T， 97T， 98T， 99T)的液体回收才/L构(20, 61， 62， 63, 64, 71， 72， 73， 74)，
上述供给流路以及回收流路的至少一方^皮形成在叠层了多块板 状部件(91， 92， 93)的叠层部件上。
在液浸啄光期间，需要把均匀的液体流提供给液浸区域并且需要 从那里回收，而本发明的曝光装置具备的叠层部件通过把分别形成有 流路的多块板状部件如这些流路连通分别形成供给流路以及回收流路 的至少一方那样叠层形成。因而，即使是复杂的流路构造，也可以极 其紧凑、容易、并且低成本地形成。
如果采用本发明的第8方式，则提供通过隔着液体(1)把规定 的图案像投影到基板(P)上膝光基板的爆光装置(EX):
包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统(PL);
为了在包含投影光学系统(PL)的投影区域(AR1)的基板(P) 上的一部分上形成液浸区域(AR2)，向基板(P)上提供液体(1) 的液体供给机构(10)，
液体供给机构(10)和投影光学系统(PL)在振动性上彼此隔离。
如果采用根据第8方式的膝光装置，则把投影光学系统和液体供 给机构在振动性上彼此隔离。即，即使在液体供给机构中发生振动， 该振动也不会传递到投影光学系统。因而，可以防止由于投影光学系 统振动导致图案像劣化的异常的发生，可以把图案像高精度地投影到 基板上。
爆光装置进一步包括支撑光学系统(PL)的第1支撑部件(100);和第1支撑部件(100 )在振动性上彼此隔离，支撑液体供给机构(10 ) 的第2支撑部件(102)。如果采用该结构，则因为支撑投影光学系统 的第l支撑部件，和支撑液体供给机构的第2支撑部件分离振动，所 以在液体供给机构中发生的振动不会传递到投影光学系统。此外，例 如通过设置成把用于测量基板载台的位置信息的干涉计安装在第1支 撑部件上，把参照镜(固定镜)安装在投影光学系统的镜筒上等的结 构，因为不向这些干涉计和参照镜传递振动，所以可以高精度地进行 基板载台的位置信息的测量和基于该测量结果的位置控制。
如果采用本发明的第9方案，则提供隔着液体(1)把规定图案 的像投影到基板(P)上啄光基板的曝光装置(EX):
把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统(PL);
回收提供给包含投影光学系统(PL)的投影区域(AR1)的基板 (P)上的一部分的液体(1)的液体回收机构(20),
液体回收机构20和投影光学系统(PL)在振动性上彼此隔离。
如果采用本发明的第9方式的曝光装置，则因为投影光学系统和 液体回收机构在振动性上彼此隔离，所以即使在液体回收机构中发生
振动，该振动也不会传递到投影光学系统。因而，可以防止因投影光 学系统振幅导致图案像劣化的异常的发生，可以高精度地把图案的像 投影到基板上。
第9方式的曝光装置(EX)可以进一步包括支撑投影光学系 统(PL)的第1支撑部件(100);和第1支撑部件(100)在振动性 上彼此隔离，支撑液体回收机构(20)的第2支撑部件(102)。如果 采用该结构，因为支撑投影光学系统的第1支撑部件，和支撑液体回 收机构的第2支撑部件被在振动性上彼此隔离，所以在液体回收机构 上发生的振动不会传递到投影光学系统。此外，例如通过设置成把用 于测量基板载台的位置信息的干涉计安装在第1支撑部件上，把参照 镜筒(固定镜)安装在投影光学系统的镜筒上等的结构，因为不会向 这些干涉计和参照镜传递振动，所以可以高精度地进行基板载台的位 置信息的测量和基于该测量结果的位置控制。
如果采用本发明的第10方式，则提供把规定图案的像隔着液体
(1)投影到基板(p)上，顺序曝光该基板上的多个拍摄区域的曝光
装置(EX):
包括把上述图案的像投影到上述基板上的投影光学系统(PL);
为了在包含该投影光学系统的投影区域的基板上的一部分上形 成液浸区域，从配置成和上述基板相对的供给口 (13A， 14A)提供液 体的液体供给才几构(10， 11， 12， 13， 14),
该液体供给机构在进行上述基板上的多个拍摄区域的曝光处理 期间从上述供给口连续提供液体。
如果采用本发明的第10方式的曝光装置，则在进行基板上的多 个拍摄区域的曝光处理期间，因为不按照基板的移动方向，而是从被 配置在规定位置上的供给口连续提供液体，所以可以防止液体供给机 构自身的振动和液体的振动(水锤现象)，可以高精度地把图案像投 影到基板上。
如果采用本发明的第11方式，则提供把规定图案的像隔着液体 (1)投影到基板(P)上，顺序膝光该基板上的多个拍摄区域的曝光 装置(EX)
把上述图案的像投影到上述基板上的投影光学系统(PL);
为了在包含该投影光学系统的投影区域的基板上的一部分上形 成液浸区域，从配置在规定位置上的供给口 (13A, 14A)提供液体的 液体供给才几构(10, 11， 12， 13， 14)，
具有被配置成和上述基板相对的回收口 (22A)，回收从上述液 体供给机构提供的液体的液体回收机构(20， 21， 22)，
该液体供给机构在进行上述基板上的多个拍摄区域的曝光处理 期间从上述供给口连续回收液体。
如果釆用本发明的第11方式的曝光装置，则在进行基板上的多 个拍摄区域的曝光处理期间，不按照基板的移动方向，而是从回收口 连续回收液体。由此，在可以更可靠地回收液体的同时，可以抑制随 着回收开始和停止的液体回收机构自身的振动，可以高精度地把图案
像投影到基板上。
本发明的器件制造方法的特征在于使用上述形态的曝光装置
(EX)。如果采用本发明，则可以提供具有以良好的图案精度形成的 图案，可以发挥所希望性能的器件。
如果采用本发明，则即使在投影光学系统和基板之间形成了液浸 区域的状态下曝光处理时也可以高精度地曝光处理。
图l是展示本发明的曝光装置的一种实施方式的概略构成图。
图2是展示作为本发明的特征部分的液体供给机构以及液体回收 机构的概略构成的平面图。
图3是展示作为本发明的特征部分的液体供给机构以及液体回收 机构的概略构成的斜视图。
图4是展示作为本发明的特征部分的液体供给机构以及液体回收 机构的概略构成的侧断面图。
图5是展示被设置在基板上的拍摄区域的图。
图6 U)以及(b)是展示液体行迹的模式图。
图7是展示液体供给机构以及液体回收机构的另一实施方式的图。
图8是展示液体供给机构以及液体回收机构的另一实施方式的图。
图9是展示液体供给机构以及液体回收机构的另一实施方式的
图。 '
图10 (a)以及(b)是展示液体供给机构的另一实施方式的图。
图ll是展示收集部件的另一实施方式的侧断面图。
图12是展示收集部件的另一实施方式的侧断面图。
图13是展示收集部件的另一实施方式的斜视图。
图14是展示本发明的液体供给机构以及液体回收机构的另一实
施方式的概略斜视图。
图15是展示图14中的缝隙管部的另一实施方式的图。 图16是展示本发明的液体供给机构以及液体回收机构的另一实 施方式的概略斜视图。
图17是展示在流路形成部件中展示第l部件的斜视图。
图18 (a)以及(b)是在流路形成部件中展示第2部件的斜视图。
图19 (a)以及(b)是在流路形成部件中展示第3部件的斜视图。
图20是展示本发明的曝光装置的另一实施方式的概略构成图。 图21是展示半导体器件的制造工序的一例的流程图。
具体实施例方式
以下，参照
本发明的曝光装置。图l是展示本发明的膝 光装置的一实施方式的概略构成图。在图1中，曝光装置EX包括 支撑掩模M的掩模载台MST;支撑基板P的基板载台PST;用曝光 光束EL照明被掩模载台MST支撑的掩模M的照明光学系统IL;把 用曝光光束EL照明的掩模M的图案像投影曝光在被基板载台PST 支撑的基板P上的投影光学系统PL;总控制曝光装置EX的整体动作 的控制装置CONT。
此外，本实施方式的曝光装置EX是在实际上缩短曝光波长提高 解像度的同时，为了实际扩大焦深而适用液浸法的液浸啄光装置，包 括向基板P上提供液体1的液体供给机构10;回收基板P上的液体 1的液体回收机构20。曝光装置EX至少在把掩模M的图案像转印到 基板P上期间，用从液体供给机构10提供的液体1在包含投影光学 系统PL的投影区域AR1的基板P的一部分上形成液浸区域AR2。具 体地说，曝光装置EX在投影光学系统PL的前端部分的光学元件2 和基板P的表面之间充满液体1，经由该投影光学系统PL和基板P 间的液体l以及投影光学系统PL，把掩模M的图案像投影到基板P 上，曝光基板P。
在此，在本实施方式中，作为曝光装置EX使用在扫描方向中的 相互不同的方向(反方向)上同步移动掩模M和基板P，同时把被形 成在掩模M上的图案膝光在基板P上的扫描型曝光装置(所谓扫描步 进曝光装置)的情况为例子说明。在以下的说明中，把和投影光学系 统PL的光轴AX—致的方向作为Z轴方向，在与Z轴方向垂直的平 面内把掩模M和基板P的同步移动方向(扫描方向)设置为X轴方 向，把与Z轴方向以及Y轴方向垂直的方向(非扫描方向)设置为Y
轴方向。此外，把围绕x轴、Y轴以及z轴的方向分别设置为ex， eY, ez方向。进而，这里所说的"基板"包含在半导体晶片上涂布了 作为感光性材料的光刻胶的基板，"掩模"包含形成有缩小投影到基板 上的器件图案的掩模原版。
照明光学系统IL是用曝光光束EL照明被掩模载台MST支撑的 掩模M的系统，包括膝光用光源、均匀化从曝光用光源射出的光束 的照度的光学积分仪、聚光来自光学积分仪的曝光光束EL的聚光透 镜、中继透镜、把采用曝光光束EL的掩模M上的照明区域设定为缝 隙状的可变视野光圏等。掩模M上的规定的照明区域用照明光学系统 IL以均匀的照度分布的啄光光束EL照明。作为从照明光学系统IL 射出的膝光光束EL,例如使用从水银灯射出的紫外区域的亮线(g线， h线，i线)以及KrF准分子激光(波长248nm )等的远紫外光(DUV 光)，和ArF准分子激光光束(波长193nm )以及F;j激光(波长157nm ) 等的真空紫外光(VUV光)等。在本实施方式中使用ArF准分子激 光光束。
掩模载台MST是支撑掩模M的载台，可以在与投影光学系统 PL的光轴AX垂直的平面内，即在XY平面内可以2维移动以及可以 在ez方向上微小转动。掩模载台MST由线性电机等的掩模载台驱动 装置MSTD驱动。掩模载台驱动装置MSTD由控制装置CONT控制。 在掩模载台MST上设置移动镜50。此外，在与移动镜50相对的位置 上设置激光干涉计51。掩模载台MST上的掩模M的2维方向的位置 以及旋转角用激光干涉计51实时测量，测量结果被输出到控制装置
CONT。控制装置CONT通过根据激光干涉计51的测量结果驱动掩 模载台驱动装置MSTD，确定被支撑在掩模载台MST上的掩模M的 位置。
投影光学系统PL是以规定的投影倍率P在基板P上投影曝光掩 模M的图案的系统，用包含被设置在基板P侧的前端部分上的光学元 件(透镜)2的多个光学元件构成，这些光学元件用镜筒PK支撑。 在本实施方式中，投影光学系统PL是投影频率P例如是1/4或者1/5 的缩小系统。进而，投影光学系统PL也可以是等倍系统以及放大系 统之一。此外，本实施方式的投影光学系统PL的前端部分的光学元 件2被设置成相对镜筒PK可以装拆(更换)，液浸区域AR2的液体 1与光学元件2接触。
光学元件2用萤石形成。萤石因为和水的亲和性高，所以可以使 液体1与光学元件2的液体接触面2a的大致整个面密实接触，即，在 本实施方式中因为提供和光学元件2的液体接触面2a的亲和性高的液 体(水)1,所以光学元件2的液体接触面2a和液体l的密实性高， 可以用液体1可靠充满光学元件2和基板P之间的光路。进而，光学 元件2也可以是和水的亲和性高的石英。此外也可以对光学元件2的 液体接触面2a实施亲水化(亲液化)处理，进一步提高和液体1的亲 和性。
基板载台PST是支撑基板P的载台，包括经由基板架保持基 板P的Z载台52;支撑Z载台52的XY载台53;支撑XY载台53 的基座54。基板载台PST由线性电机等的基板载台驱动装置PSTD 驱动。基板载台驱动装置PSTD被控制装置CONT控制。通过驱动Z 栽台52，控制被Z栽台52保持的基板P的在Z轴方向上的位置(聚 焦位置)以及在eX， eY方向上的位置。此外，通过驱动XY载台53， 控制在基板P的XY方向上的位置(与投影光学系统PL的像面实际 平行方向的位置)。即，Z载台52控制基板P的聚焦位置以及倾斜角， 以自聚焦方式以及自动找水平方式(auto-leveling)使基板P的表面 与投影光学系统PL的像面匹配，XY载台53进行在基板P的X轴方 向以及Y轴方向上的定位。进而，当然也可以一体地设置Z载台和 XY载台。
在基板栽台PST (Z载台52)上，和基板载台PST—同设置相 对投影光学系统PL移动的移动镜55。此外，在与移动镜55相对的位 置上设置激光干涉计56。基板载台PST上的基板P的2维方向的位 置以及旋转角用激光干涉计65实时测量，测量结果被输出到控制装置 CONT。控制装置CONT通过根据激光千涉计56的测量结果驱动基 板载台驱动装置PSTD进行被支撑在基板载台PST上的基板P的定 位。
此外，在基板载台PST (Z载台52)上，如包围基板P那样设 置辅助板57。辅助板57具有和被保持在基板架上的基板P的表面大 致同样高度的平面。在此，在基板P的边缘和辅助板57之间有 0.1 2mm左右的间隙，而因液体l的表面张力的作用几乎不会发生液 体l流入该缝隙的情况，即使在曝光基板P的边缘附近的情况下，也 可以用辅助板57在投影光学系统PL的下面保持液体1。
液体供给机构io是在基板P上提供规定的液体1的机构，包括 可以供给液体1的第1液体供给部11以及第2液体供给部12;具有 经由具有流路的供给管11A与第1液体供给部11连接，把从该笫1 液体供给部ll送出的液体1提供给基板P的供给口 13A的第1供给 部件13;具有经由具有流路的供给管12A与第2液体供给部12连接， 把从该第2液体供给部12送出的液体1提供给基板P的供给口 14A 的第2供给部件14。第1、第2供给部件13、 14被接近配置在基板 P的表面上，在基板P的面方向上设置在相互不同的位置上。具体地 说，液体供给机构10的第1供给部件13相对投影区域AR1设置在 扫描方向一侧(-X侧)上，第2供给部件14被设置在另一侧(+X 侧)上。
第1、第2液体供给部件11、 12的各自具备收容液体1的罐以及 加压泵等，经由供给管11A、 12A以及供给部件13、 14的各自向基板 P上提供液体1。此外，第1、第2液体供给部11、 12的液体供给动
作由控制装置CONT控制，控制装置CONT可以分别独立控制由第1 、 第2液体供给部11、 12对基板P上的每单位时间的液体供给量。
在本实施方式中，液体l使用纯水。纯水并不只是可以透过ArF 准分子激光，例如也可以使从水银灯射出的紫外区域的亮线(g线，h 线，i线)以及KrF准分子激光(波长248nm )等的紫外光(DUV光) 透过。
液体回收机构20是回收基板P上的液体1的机构，包括具有 与基板P的表面接近配置的回收口 22A的回收部件22;经由具有流 路的回收管21A与该回收部件22连接的液体回收部21。液体回收部 21例如具备真空泵等的吸引装置以及收容回收的液体1的罐等，基板 P上的液体1经由回收部件22以及回收管21A回收。液体回收部21 的液体回收动作用控制装置CONT控制，控制装置CONT可以控制 由液体回收部21进行的每单位时间的液体回收量。
此外，在液体回收机构20的回收部件22的外侧上，配置形成有 捕捉液体1的规定长度的液体收集面31的收集部件30。
图2是展示液体供给机构10以及液体回收机构20的概略构成的 平面图，图3是局部剖开展示的斜视图。如图2所示，投影光学系统 PL的投影区域AR1被设定成把Y轴方向(非扫描方向)作成为长度 方向的矩形形状，充满液体1的液浸区域AR2如包含投影区域AR1 那样被形成在基板P上的一部分上。而后，用于形成投影区域AR1 的液浸区域AR2的液体供给机构10的第l供给部件13被相对投影区 域AR1设置在扫描方向一侧(-X侧)上，第2供给部件14被设置 在另一侧(+ 乂侧)上。
如图2以及图3所示，第1、第2供给部件13、 14分别包括使从 第1、第2液体供给部件11、 12送出的液体1流通的内部空间(内部 流路)13H、 14H;把流通在内部空间13H、 14H的液体l提供给基板 P上的供给口13A、 14A。进而，虽然在图3中第2液体供给部12未 图示，但构造和第1液体供给部11 一样。第1、第2供给部件13、 14 的供给口 13A、14A被分别形成为平面看大致圆孤形状，该供给口 13A、
14A的Y方向上的尺寸被设定成至少比投影区域AR1的Y轴方向上 的尺寸大。而后，被形成在平面看大致圓弧状的供给口 13A、 14A被 配置成相对扫描方向(X方向)夹着投影区域AR1。液体供给机构10 由供给口 13A、 14A，从相对投影区域AR1在不同的多个方向上隔开 的多个位置上，即，从矩形的投影区域AR1的不同侧(在该例子中， 是投影区域AR1的两侧(+X方向侧，-X方向侧))同时提供液体
液体回收机构20的回收部件22是双重环状部件，包括如向着基 板P的表面那样;故形成为环状连续的回收口 22A; 4吏从回收口 22A回 收的液体1流通的环状的内部空间(内部流路)22H。液体回收机构 20的回收部件22 ^:配置成包围液体供给机构10的供给部件13、 14 以及投影区域AR1。而后，在回收部件22的内部以规定间隔设置把 其内部空间22H在圆周方向上分割为许多空间(分割空间)24的隔板 部件23。即，设置成如包围投影区域AR1那样在连续形成的回收口 22A的内部设置隔断部件23的结构。用隔断部件23分割的分割空间 24的各自在上下方向上贯通。而后，回收部件22中具有回收口 22A 的下端部分与基板P的表面接近，另一方面，上端部分是空间上聚合 多个分割空间24的作为聚合空间部的岐管部25。而后，在该岐管部 25上连接回收管21A的一端部分，另一端与液体回收部21连接。液 体回收机构20通过驱动液体回收部21,经由回收口 22A (回收部件 22)以及回收管21A回收基板P上的液体1。即，回收口22A的i殳置 位置是进行基板P上的液体1的回收的回收位置，液体回收机构20 在从投影区域AR1隔开的回收位置上进行基板P上的液体1的回收。 在此，液体回收机构20的回收口 22A是平面看大致圆环状包围投影 区域AR1的结构。即，回收口 22A存在于矩形的投影区域AR1的4 侧(+X方向侧，-X方向侧，十Y方向侧，-Y方向侧)，换句话 说，在相对投影区域AR1正交的4个方向上隔开的4个位置上。因而， 液体回收才几构20用械 没置成包围投影区域AR1的回收口 22A,可以 在相对投影区域AR1不同的许多方向上隔开的位置上同时进行基板P
上的液体1的回收。
而后，液体供给机构10的第1、第2供给部件13、 14各自的供 给口 13A、 14A的设置位置，即相对基板P上的液体1的供给位置的 结构是被设置在液体回收位置(回收口 22A的位置)和投影区域AR1 之间。即，由液体供给机构10进行的液体1的供给在液体回收机构 20的液体回收位置和投影区域AR1之间进行。
图4是展示与基板P接近配置的第1、第2供给部件13、 14以 及回收部件22的主要部分放大侧断面图。如图4所示，液体供给机构 10的第1、第2供给部件13、 14各自的内部流路13H、 14H被设置成 相对基板P的表面大致垂直。同样，液体回收机构20的回收部件22 的内部流路22H (分割空间24 )也被设置成相对基板P的表面大致垂 直。而后，由第1、第2供给部件13、 14进行的对基板P的液体1的 供给位置(供给口 13A、 14A的设定位置)被设定在液体回收机构20 的液体回收位置(回收口 22A的设置位置)和投影区域AR1之间。 此外，在投影光学系统PL和笫1、第2供给部件13、 14各自在被配 置成隔开规定距离的同时，回收部件22和第1、第2供给部件13、 14 的各自都被设置成只隔开规定距离。此外，在本实施方式中，基板P 的表面和供给口 13A、 14A的距离、基板P的表面和回收口 22A的距 离，基板P的表面和投影光学系统PL的下端面的距离被设置成大致 相同。换句话说，供给口 13A、 14A、回收口 22A以及投影光学系统 PL的下端面各自的Z轴方向上的位置(高度)祐 没置成大致相同。
而后，在相对基板面大致垂直的方向上从第1、第2供给部件13、 14的供给口 13A、 14A向基板P提供的液体1被提供成在投影光学系 统PL的前端部分(光学元件2)的下端面和基板P之间渍湿扩散。 此外，相对投影区域AR1流出到供给部件13、 14的外侧的液体1， 用相对投影区域AR1被配置在该供给部件13、 14外侧的回收部件2 的回收口 22A，从基板面在大致垂直方向上被回收(吸收)。
在此，构成液体供给机构10以及液体回收机构20的各部件中至 少液体1流通的部件例如用聚四氟乙烯等的合成树脂形成。由此，可
以抑制在液体l中包含杂质。
在液体回收机构20的回收部件22中相对投影区域AR1的外侧 上，设置形成有捕捉用液体回收机构20的回收部件22不能彻底回收 的液体1的长度的液体收集面31的收集部件30。收集部件30被设置 在回收部件22的外侧面上。回收面31在回收部件30中是向基板P 侧的面(即下面)，如图4所示，相对水平面倾斜。具体地说，收集 面31随着相对投影区域AR1 (液浸区域AR2)朝向外侧，如相对基 板P的表面隔开(向上)那样倾斜。收集部件30例如用不锈钢等的 金属形成。
如图2所示，收集部件30是平面看环状部件，如与回收部件22 嵌合那样与回收部件22的外侧面连接。而后，收集部件30的收集面 31被配置成包围投影区域AR1 (液浸区域AR2),本实施方式中的 液浸部件30以及其下面的收集面31为平面看大致椭圆形状。即，收 集部件30的收集面31以投影光学系统PL的光轴AX为基准，设置 成放射方向的长度与其位置相应而不同。在本实施方式中，在扫描方 向(X轴方向)中的收集面31的长度相对非扫描方向(Y轴方向)长。 更具体地说，在与投影区域AR1的Y轴方向中央部分对应的位置上 的收集面31的长度最长。
在收集面31上实施提高和液体1的亲和性的亲液化处理(亲水 化处理)。在本实施方式中，因为液体l是水，所以对收集面31实施 适合于和水的亲和性的表面处理。进而，在基板P的表面上涂布防水
性(接触角70~80°左右)的ArF准分子激光用的感光材料(例如， 东京应化工业林式会社产TARF-P6100),收集面31相对液体1的液 体亲和性比基板P的表面相对液体1的液体亲和性还高。
对收集面31的表面处理与液体1的极性相应地进行。因为本实 施方式中的液体1是极性大的水，所以作为对收集面31的亲水化处理， 例如通过用醇等极性大的分子构造的物质形成薄膜，对该收集面31 赋予亲水性。或者，对于收集面31，例如也可以通过使用氧气(02) 作为处理气体实施等离子处理的02等离子处理赋予亲水性。这样，当
作为液体1使用水的情况下，希望在收集面31上配置具有OH基等极 性大的分子构造的表面的处理。在此，用于表面处理的薄膜相对液体 l用非溶解性的材料形成。此外，亲液化处理根据所使用的液体1的 材料特性可以适宜变更其处理条件。
以下，说明使用上述的曝光装置EX在基板P上曝光掩模M的 图案像的方法。
在此，在本实施方式中的曝光装置EX是一边使掩模M和基板P 在X轴方向(扫描方向)上移动一边把掩模M的图案像投影曝光在 基板P上的装置，在扫描爆光时，在投影光学系统PL的前端部分之 下的矩形状的投影区域AR1上投影掩模M的一部分的图案像，对于 投影光学系统PL，与掩模M在-X方向(或者+ X方向)上以速度 V移动同步，经由XY载台53基板P在+ X方向(或者-X方向)上 以速度P.V (p是投影倍率)移动。而后，如图5的平面图所示，在 基板P上设定多个拍摄区域S1 S12,在对1个拍摄区域的膝光结束后， 通过基板P的步进移动，下一拍摄区域移动到扫描开始位置，以下， 一边用步进式扫描方式使基板P移动一边顺序进行对各拍摄区域的扫 描曝光处理。进而，在本实施方式中，控制装置CONT假设如投影光 学系统PL的光轴AX沿着图5的虛线箭头58前进那样监视激光干涉 计56的输出同时移动XY载台53。
首先，在掩模M被放置在掩模载台MST上的同时，基板P被放 置在基板载台PST上(参照图1)，以下，在进行扫描膝光处理时， 控制装置CONT驱动液体供给机构10，开始对基板P上进行液体的 供给动作。为了形成液浸区域AR2，从液体供给机构10的第1、第2 液体供给部ll、 12各自提供的液体1在通过供给管IIA、 12A后，经 由第1、第2供给部件13、 14提供给基板P上，在投影光学系统PL 和基板P之间形成液浸区域AR2。在此，如图4所示，流过供给管IIA、 12A的液体1在供给部件13、 14的内部流路13H、 14H的宽度方向上 扩散，由供给口 13A、 14A向基板P上的宽的范围提供。此时，供给 口 13A、 14A被配置在投影区域AR1的X轴方向(扫描方向)两侧，
控制装置CONT由液体供给机构10的供给口 13A、 14A从投影区域 ARl的两侧向基板P上同时进行液体1的供给。
液体供给机构10由被设置在投影区域ARl的两侧上的供给口 13A、 14A，即从在相对投影区域ARl不同的多个方向(+X方向， -X方向)上隔开的多个位置同时提供液体。由此，从供给口 13A、 14A提供给基板P上的液体1以至少比投影区域AR1宽的范围形成液 浸区域AR2。
在本实施方式中，在从投影区域AR1的扫描方向两侧对基板P 提供液体1时，控制装置CONT控制液体供给机构10的第1、第2 液体供给部ll、 12的液体供给动作，相对于扫描方向，把从投影区域 ARl的跟前提供的每单位时间的液体供给量设定成比在其相反侧提供 的液体供给量还多。例如，当一边使基板P在+ X方向上扫描一边曝 光处理的情况下，控制装置CONT相对投影区域ARl使来自-X侧 (即供给口 13A)的液体量比来自十X侧(即供给口 14A)的液体量 还多，另一方面，当一边使基板P在-X方向移动一边曝光处理的情 况下，对投影区域AR1使来自+乂侧的液体量比来自-X侧的液体量 多。
此外，控制装置CONT驱动液体回收机构20，并行进行液体供 给机构10的液体1的供给动作，进行基板P上的液体回收动作。由 此，如图4所示，从供给口 13A、 14A对投影区域ARl流到外侧的基 板P上的液体1用回收口 22A回收。从回收口 22A回收的液体l在由 隔断部件23隔开的分割空间24的各自中流通后，聚集在岐管部25 中。聚集在岐管部25中的液体1通过回收管21A,皮液体回收部21回 收。这样在本实施方式中，具备相对1个液体回收部21连接多个分割 空间24的构造。而后，液体回收机构20由被设置成包围投影区域ARl 的回收口 22A，从相对投影区域ARl在不同的多个方向上隔开的多个 位置上，即，从矩形的投影区域ARl的4侧(十X方向侧，-X方向 侧，十Y方向侧，-Y方向侧)同时进行基板P上的液体的回收，
控制装置CONT由液体供给机构10以及液体回收机构20并行
进行对基板P的表面的液体1的供给和基板P上的液体1的回收，同
时一边使支撑基板P的基板载台PST在X轴方向(扫描方向)移动， 一边经由投影光学系统PL和基板P之间的液体1以及投影光学系统 PL把掩模M的图案像投影曝光在基板P上。此时，因为液体供给机 构10相对于扫描方向从投影区域AR1的两侧通过供给口 13A、 14A 同时进行液体1的供给，所以可以均匀并且良好地形成液浸区域AR2。 此外，液体回收机构20因为经由包围投影区域AR1的回收部件22的 回收口 22A在包含投影区域AR1的扫描方向两侧的投影区域AR1周 围的多个位置上同时进行液体1的回收，所以防止了液体1对基板P 的周围的流出或飞'减。进而，在本实施方式中，因为把和基板P表面 的感光材料的亲和性低的纯水作为液体1供给，所以可以平滑地由液 体回收才几构20进4于回收。
图6 ( a )是展示一边在+ X方向上移动基板P —边曝光处理被 设定在基板P上的第1拍摄区域(例如图5的Sl， S3等)时的液体l 的行迹的模式图。在图6(a)中，对于投影光学系统PL和基板P之 间的空间从供给口 13A、 14A同时提供液体1，由此如包含投影区域 AR1那样形成液浸区域AR12。在此，从相对投影区域AR1被设置在 -X侧上的供给口 13A提供的液体l的每单位时间的液体量因为被设 定成比从被设置在+ X侧的供给口 14A提供的液体l的每单位时间的 液体量多，所以从供给口 13A提供的液体l牵引到向十X方向移动的 基板P，平滑地配置在投影光学系统PL和基板P之间的空间。此外， 要从供给口 13A、 14A流向外侧的液体1用回收口 22A回收，抑制流 向基板P周围的异常的发生。
在此，由于基板P向+X方向移动，因而相对投影区域AR1向 + X侧移动的液体量增加，存在在+ X侧上设置了液体回收位置的回 收口 22A不能完全回收液体1的情况。可是，如图6(a)所示，在+ X侧的回收口 22A上不能彻底回收的液体l因为从该液体回收位置用 被设置在+ X侧上的收集部件30的收集面31捕捉，所以不会流出或 者分散到基板P的周围等上。在此，收集面31相对液体1被进行亲
液处理，而且因为具有比基板P的表面高的液体亲和性，所以从回收
口 22A的液体回收位置要流到外侧的液体1未被基板P —侧牵引，而 被收集面31 —侧牵引。由此，抑制在基板P上残存液体1等的异常 的发生。
在此，因为收集面31把包含投影区域AR1的液浸区域AR2作 为基准随着向外侧方向而向上方向倾斜，所以可以进一步有效地防止 液体l向外部流出。即，通过向上方向倾斜，对于基板P和投影光学 系统PL之间的第l体积(与基板P的单位面积对应的体积)，因为 基板P和收集面31间的第2体积一方大，所以要流出的液体l被平 滑地保持在第2体积部分。此外，由于向上方倾斜，因而由于要流出 到外侧的流体能量沿着收集面31向上方向移动被变换为势能，因而可 以有效地防止液体1向外侧的流出。
此外，从被设置在+ X侧上的供给口 14A提供的液体量被设定成 相对从被设置在-X侧上的供给口 13A提供的液体量少。即，因为被 设定成相对+X侧的回收口 22A在来自比供给口 13A近的位置上的供 给口 14A的液体供给量少，所以即使液体1被牵引到向+X侧移动的 基板P，也可以抑制要从基板P的+ 乂侧流出到外部的液体量。
如果第1拍摄区域的膝光处理结束，则控制装置CONT为了把 投影光学系统PL的投影区域AR1配置在和上述第1拍摄区域不同的 第2拍摄区域上，步进移动基板P。具体地说，例如在相对拍摄区域 Sl的扫描膝光处理结束后，为了对拍摄区域S2进行扫描曝光处理， 控制装置CONT在基板P上的2个拍摄区域Sl、 S2间在Y轴方向上 步进移动。此时，液体供给机构10使在基板P上的2个拍摄区域间 的步进移动期间的液体1的供给量相对在拍摄区域的曝光期间的供给 量不同。具体地说，控制装置CONT使从在步进移动期间的液体供给 机构对基板P上的每单位时间的液体供给量，比拍摄区域的扫描曝光 期间的液体供给量少。由此，抑制在不进行曝光处理的步进移动期间 的基板P的液体供给量，可以抑制在曝光处理全体(把基板P搭载在 基板载台PST上，对全部拍摄区域S1 S12的曝光处理结束直至从基
板载台PST卸载)中的液体使用量。这样，控制装置CONT与构成 曝光处理执行动作的一部分的基板P的移动动作(步进移动或者扫描 移动)相应，改变第1、第2液体供给部11、 12各自每单位时间的液 体供给量。
在此，液体供给机构10在基板P的步进移动期间降低液体1的 每单位时间的供给量，而维持(连续)液体1的供给动作。即，液体 供给机构IO通过改变拍摄区域而改变扫描方向，或者即使在步进动作 时，也维持(连续)来自供给口 13A、 14A的液体供给动作。这样， 液体供给机构10在顺序膝光基板P上的多个拍摄区域时，连续从被 设置在多个位置上的供给口 13A、 14A提供液体l，根据扫描方向改 变液体供给位置，或者在步进移动时不改变液体供给位置，换句话说， 液体供给机构10在对1块基板P的一连串的曝光处理动作结束前(把 基板P放置在基板载台PST上对全部拍摄区域S1 S12的曝光处理结 束，直至从基板载台PST卸载)，从多个位置上连续提供液体l。由 此，可以防止因液体1的供给以及停止引起的液体的振动(水锤现象) 的发生。
图6 ( b )是展示一边使基板P在-X方向上移动一边曝光处理 被设置在基板P上的第2拍摄区域(例如图5的S2、 S4等)时的液 体l的行迹的模式图。在图6(b)中，对于投影光学系统PL和基板 P之间的空间从供给口 13A、 14A提供液体l，由此如包含投影区域 AR1那样形成液浸区域AR2。在此，从相对投影区域AR1被设置在 十X侧上的供给口 14A提供的液体1的每单位时间的液体量因为被设 定成比从被设置在-X侧上的供给口 13A提供的液体1的每单位时间 的液体量多，所以从供给口 14A提供的液体l被在-X方向上移动的 基板P牵引，被平滑地配置在投影光学系统PL和基板P之间的空间 上。这样控制装置CONT与构成膝光处理执行动作的一部分的基板P 的移动方向(移动动作)相应，改变第1、第2供给口 11、 12各自的 每单位时间的液体供给量。此外，要从供给口 13A、 14A流出到外侧 的液体1被回收口 22A回收，抑制要流出到基板P周围的异常的发生。
在此，通过使基板P在-X方向移动，被+ X侧的收集面31捕 捉的液体1沿着收集面31下降，从液体回收机构20的回收口 22A回 收。由此，可以可靠地防止液体1的残存和对外部的流出。而后，伴 随基板P向-X侧的移动，向-X侧移动的液体量增加，由此即使不 能用-X侧回收口 22A全部回收液体1，也如图6(b)所示，从该液 体回收位置上用被设置在-X侧上的收集部件30的收集面31捕捉液 体l。
进而在此，收集面31是被形成为相对投影区域AR1随着向外侧 方向而向上方倾斜，但也可以是水平(0度)。另一方面，如果收集 面31向下方倾斜，则因为要流出的外侧的流通能量未被转换为势能， 而且即^f吏基板P在相反方向上移动时如流体1沿着收集面31下降那 样不移动到回收口 22A，所以不能用回收口 22A平滑地回收液体l。 因而，理想的是收集面31是水平面(0度)或者向上方向的倾斜面。
进而，在相对基板P上的每单位时间的液体供给量多的情况下， 和扫描速度高速的情况下，因为要流出到外侧的液体量多，所以收集 面31的倾斜角度根据这些液体供给量以及扫描速度被设定在最佳角 度。即，当液体供给量多的情况下和扫描速度高速的情况下，收集面 31的倾斜角度被设定得大。另一方面，当收集面31的倾斜角度过大 时，存在不能用收集面31彻底捕捉(保持)液体1的情况。在此，因 为通过采用亲液化处理增强亲液性，收集面31的液体保持力增大，所 以在增大倾斜角度的情况下，通过改变亲液化处理的处理条件对收集 面31赋予最佳的亲液性，即使增大倾斜角度也可以保持液体l。因而， 收集面31的倾斜角度根据液体供给量、扫描速度以及液体的材料特性 (收集面的液体亲和性)等的各参数，被设定在最佳角度。
可是，本实施方式的回收材料22的构成包括被连续地形成为 圆环状的回收口 22A、被设置在回收口 22A的内部的隔断部件23、用 该隔断部件23分割的多个分割空间24，在聚合多个分割空间24的岐 管部25上经由回收管21A接触液体回收部21。由此，因为包含真空 泵等构成的液体回收部21设置1个即可，所以可以简化装置构成。在
此，在回收部件22的外周方向的各位置的各自上产生用于回收液体1 的吸引负荷不同的状态，由此液体回收部21的吸引力降低，存在不能 平滑地进行回收动作的情况。但是，通过设置隔断部件23可以平滑地 进行回收动作。即，例如因液体1的行迹的原因，相对在回收部件22 中在+ X侧的回收口 22A中只回收(吸引)液体1相反，在-X侧的 回收口 22A中发生包含空气(吞入空气)吸引的状态。这种情况下， 扩大在-X侧的回收口 22A中的空气吞入区域，如本实施方式所示当 用一系统的液体回收部21回收液体的情况下，由于吞入的空气产生构 成液体回收部21的真空泵的吸引力降低的异常。可是，在连续形成的 回收口 22A的内部(内部空间22H)上i殳置隔断部件23，通过i殳置相 互独立的分割空间24，因为可以相对吞入空气的区域把只吸引液体1 的区域在空间上分离，所以可以防止由于空气吞入区域的扩大或者吞 入的空气的影响液体回收部21的吸引力降低这种异常的发生，由此即 使液体回收部21是一系统，液体回收机构20也可以平滑地回收液体 1。
如上所述，为了形成液浸区域AR2，因为设置在相对投影区域 AR1在不同的多个方向上隔开的位置上(从投影区域AR1的相互不 同的多侧)同时进行基板P上的液体1的供给的液体供给机构10，所 以即使基板P在包含扫描方向(土X方向)以及步进方向(士Y方向) 的多个方向上移动的情况下，也可以在投影光学系统PL和基板P之 间始终平滑并且良好地形成液浸区域AR2。因而，可以在高解像度以 及宽焦深下进行曝光处理。
在顺序曝光处理基板P上的多个拍摄区域的各自时，因为用液体 供给机构IO从多个位置连续提供液体1，所以可以防止伴随液体1的 提供以及停止的液体振动(水锤现象)的发生，由此可以防止被转印 的图案的劣化。
此外，液体供给机构10因为由供给口 13A、14A从投影区域AR1 的扫描方向两侧提供液体1，所以为了使所提供的液体1被在扫描方 向上移动的基板P牵引而在投影区域AR1上渍湿扩散，如包含投影区
域AR1那样平滑地形成液浸区域AR2。而后，在本实施方式中，液 体供给机构10因为相对扫描方向，使从投影区域AR1的跟前提供的 液体量比在其相反侧提供的液体量还多，所以被提供给基板P上的液 体1被移动的基板P牵引沿着基板P的移动方向流动，被吸引进投影 光学系统PL和基板P之间的空间平滑地配置。因而，从液体供给机 构10提供的液体1即使其供给能量小也在投影光学系统PL和基板P 之间被平滑地配置，可以良好地形成液浸区域AR2。而后，与扫描方 向相应通过变更从供给口 13A、 14A各自提供的液体量，可以切换液 体l的流动方向。由此即使在+ X方向，或者-X方向的某一方向上 扫描基板P的情况下，也可以平滑地在投影光学系统PL和基板P之 间形成液浸区域AR2，可以得到高解像度以及宽焦深。
此外，液体回收机构20的回收部件22如包围投影区域AR1以 及供给部件13、 14那样被形成为圆环状，因为在相对投影区域AR1 不同的多个方向上隔开的多个位置上(从投影区域AR1的不同的多 侧)同时进行基板P上的液体1的回收，所以可以可靠地防止液体l 对基板P外侧流出或飞'减等的异常的发生。即，液体回收机构20在 与1个基板P有关的一连串的曝光处理动作结束前(直至相对基板P 上的全部拍摄区域S1 S12的膝光处理结束，形成液浸区域AR2的液 体1的回收完成前)，因为连续从如包围投影区域AR1那样配置的回 收口 22A进行回收动作，所以即使在基板P的一连串的曝光处理动作 中液体1向任何方向上扩散，也可以良好地回收液体l。此外，在与 基板P有关的一连串的膝光处理动作中，因为不需要停止来自回收口 22A的液体的吸引，所以可以抑制伴随液体吸引停止的振动。
此外，通过设置捕捉不能用液体回收机构20彻底回收的液体1 的收集部件30，可以防止液体1对基板P外侧的流出或飞溅等的异常 的发生。而后，在本实施方式中，收集面31因为被形成为把沿着液体 1最容易向基板P外侧流出的扫描方向(X轴方向)作为长度方向的 平面看椭圆形状，所以可以可靠地防止液体1流出到外部。此外，因 为对收集面31实施提高和液体1的亲和性的亲液化处裤，所以可以良
好地捕捉要流出的液体l。进而，收集面31的液体亲和性因为通过表 面处理比基板P表面的液体亲和性还高，所以因为要流出到外部的液 体1不附着在基板P上而被收集面31捕捉，所以可以防止在基板P 的表面上残存液体l的异常的发生。此外，因为收集面31相对投影区 域AR1随着向外侧方向而向上方倾斜，所以可以良好地捕捉要流出到 外部的液体l，而且，在基板P的扫描方向是相反方向时，因为被捕 捉的液体1在收集面31上向下方传递，所以可以用与该收集面31连 接的回收口 22A良好地回收。
此外，因为为了液浸曝光用而从液体供给机构10提供和投影光 学系统PL的前端的液体接触面2a的亲水性比和涂布在基板P表面上 的感光材料的亲水性还高的液体(水)1，所以在可以用液体1可靠充 满投影光学系统PL和基板P之间的光路的同时，提供给基板(P)上 的液体(1)被平滑地回收，可以防止液体1的流出或飞溅等的异常。
进而，在本实施方式中在从投影区域AR1的扫描方向两侧提供 液体l时，在扫描方向上使从在接近投影光学系统的一侧提供的液体 量比在远离投影光学系统的一侧提供的液体量还多，但也可以把从投 影区域AR1的两侧提供的液体l设置为同样量。这种情况下，因为在 切换扫描方向时也不发生液体1的供给量的变化，所以可以更可靠地 防止水锤现象的发生。另一方面，通过一边连续提供液体1， 一边根 据扫描方向使从投影区域AR1的扫描方向两侧提供的液体量变化，可 以在抑制水锤现象发生的同时抑制液体1的使用量。
进而，在本实施方式中其构成是，在对1块基板P的曝光处理动 作中，连续进行来自供给口 13A、 14A的液体l的供给，在中途不停 止。例如，其构成可以是，在使基板P向+乂侧扫描移动时，停止来 自供给口 14A的液体供给只从供给口 13A提供液体1，在使基板P向 -X侧扫描移动时，停止来自供给口 13A的液体提供只从供给口 14A 提供液体l。进而其构成可以是，在基板P的步进移动时，液体供给 机构10停止对基板P的液体1的供给。这种情况下，在开始扫描曝 光时，只要在规定时间进行液体1的供给等待液体振动平息后扫描曝
光即可。通过设置成这样的结构可以抑制液体1的使用量。另一方面。 通过连续供给液体1,因为不需要设定直到液体振动平息的等待时间， 所以可以提高生产量。
在本实施方式中的构成是，液体供给机构10的的供给口 13A、 14A相对投影区域AR1被设置在扫描方向两侧上，但例如如全部包围 投影区域AR1的四周那样也可以在投影区域AR1的非扫描方向两侧 设置供给口 (供给部件)。而后也可以从如包围投影区域AR1那样设 置的供给口各自向基板P上提供液体1。在此，在对投影区域AR1在 扫描方向两侧的各自和非扫描方向两侧的各自上"&置供给口时，即， 在如包围投影区域AR1那样相互独立设置的4个供给口时，在一边使 基板P在扫描方向上移动一边膝光处理时，可以从4个供给口的全部 提供液体l，也可以只从设置在扫描方向两侧的供给口提供液体l，而 停止(或者少量提供)从被设置在非扫描方向两侧上的供给口的液体 供给。而后，在向非扫描方向移动基板P时，也可以从^L设置在非扫 描方向两侧上的供给口提供液体。或者，也可以是这样的结构，如包 围投影区域AR1那样设置环状的供给部件，经由该供给部件向基板P 上提供液体1。这种情况下，因为把液体1发送到供给部件的液体供 给部用l个即可，所以可以简化装置结构。另一方面，如上述实施方 式所示，如果相对投影区域AR1在扫描方向两侧上有供给口 13A、 14A,则可以把投影区域AR1充分设置在液浸区域AR2上，可以抑制 液体1的使用量。
此外，在本实施方式中的结构是，液体供给机构IO的供给口 13A、 14A相对投影区域API被设置在扫描方向两侧上，当投影光学系统 PL和基板P之间用液体1充分充满的情况下，可以从接近投影区域 AR1配置的1个供给口提供液体。这种情况下，直至1块基板P上的 全部拍摄的曝光结束前，通过从该1个供给口连续提供液体，可以抑 制水锤现象的发生，可以抑制液体的使用量。
进而，在上述实施方式中，第1、第2供给部件13、 14和回收部 件22隔开，但也可以连接第1、第2供给部件13、 14和回收部件22，
还可以设置在第1、第2供给部件13、 14和回收部件22之间连接它 们的连接部件。此外，在上述实施方式中，说明了供给部件13、 14 的内部流路13H、 14H和回收部件22的内部流路22H相对基板P的 表面垂直的情况，但也可以倾斜。例如，也可以设置成使供给部件13、 14的内部流路13H、 14H(或者供给口 13A、 14A )向着投影区域AR1 側。进而，也可以4吏供给口 13A、 14A和回收部件22的回收口 22A 的相对基板P的表面的距离(高度)不同。
进而，包含供给部件13、 14的液体供给机构10以及包含回收部 件22的液体回收机构20的各自理想的是，用投影光学系统PL以及 支撑该投影光学系统PL的支撑部件以外的支撑部件支撑。由此，可 以防止在液体供给机构10和液体回收机构20中发生的振动传递到投 影光学系统PL。此外相反，由于使投影光学系统PL和供给部件13、 14无缝隙接触，还可以期待防止大气混入液体1的效果。
以下，说明本发明的另一实施方式。在此，在以下的说明中，对 和上述实施方式相同或者相等的构成部分标注相同的符号，简化或者 省略其说明。
上述实施方式的液体回收才几构20的结构包括1个液体回收部 21;在该液体回收部21上经由回收管21A连接，具有连续形成为圆 环状的回收口 22A的回收部件22，但也可以i殳置多个液体回收部。由 此可以抑制在回收口 22A的各回收位置上的回收力的离散。此外，控 制装置CONT也可以根据液体回收位置使该多个液体回收部的各自 的回收力不同。参见图7。
图7是展示本发明的另一实施方式的图，是展示液体回收机构20 的另一例子的平面模式图。在图7中，液体回收机构20包括第1 液体回收部26;第2液体回收部27;在该第1液体回收部26上经由 回收管26A连接的第1回收部件28、在第2液体回收部27上经由回 收管27A连接的第2回收部29。第1、第2回收部件28、 29的各自 被形成为平面看大致圓弧状，第1回收部件28被配置在投影区域AR1 的-X侧，另一方面，第2回收部件29被配置在投影区域AR1的+X侧上。进而，第1、第2回收部件28、 29和上述实施方式一样，具 备向基板P—侧的回收口和被设置在其内部的隔断部件。此外，第1、 第2液体回收部件26、 27的回收动作由控制装置CONT分别独立进 行。
在扫描曝光基板P上的拍摄区域时，控制装置CONT在由液体 供给机构10把液体1提供给基板P上的同时，在液体回收机构20中 驱动第1、第2液体回收部26、 27的各自，回收基板P上的液体1。 在此，控制装置CONT根据液体回收位置控制液体回收机构20的液 体回收力使其不同。具体地说，控制装置CONT相对于扫描方向，把 在投影区域AR1的跟前的每单位时间的液体回收量(回收力)设定为 比在其相反侧的液体回收量还少。即，增加在扫描方向前方侧(液体 1流过的下游侧)上的液体回收力。具体地说，在基板P向+X方向 移动时，相对投影区域AR1把被设置在+ X侧上的第2回收部件29 (第2液体回收部件27)的回收力设置成比由被设置在-X侧上的第 1回收部件28 (第l液体回收部26)的回收力大。由此，在可以防止 流体1向外部流出的同时可以平滑地进行基板P上的液体回收动作。
进而，在上述实施方式中其构成是同时进行采用第1、第2液体 回收部件26、 27的液体回收动作，但也可以是分别进行的结构。例如 其结构是，在基板P向-X方向移动时，只由相对投影区域AR1被设 置在+ X侧上的第2回收部件29 (第2液体回收部27)进行液体回收 动作，停止由第1回收部件28 (第1液体回收部26)进行的液体回收 动作。这种情况下，因为液体1主要在+ X侧流动，所以只通过第2 液体回收部27的回收动作也可以回收液体1。
此外，在上述各实施方式中，配置液体回收才几构20的回收部件 包围投影区域AR1的全部，但其结构也可以是只在投影区域AR1的 扫描方向两侧上。
此外，在上述各实施方式中，如包围投影区域AR1那样连续形 成液体回收机构20的回收部件，而如图8所示其构成也可以是，断续 配置多个回收部件22D。同样其结构也可以是，对于液体供给机构IO也是断续配置多个供给部件13D、 14D。这种情况下，因为用如包围 投影区域ARl那样配置的回收口连续进行回收动作，所以即使液体1 向某一方向扩散，也可以良好地回收液体l。
此外，在设置有多个液体回收机构20的回收部件的情况等中， 液体回收机构20通过使相对投影区域ARl在扫描方向上隔开的位置 上的液体回收力(每单位时间的液体回收量)，比在和它不同的位置 上，具体地说是在非扫描方向上隔开的位置上的液体回收力还大，可 以在扫描曝光时，平滑地回收基板P上的液体1。
此外，通过对用隔断部件23分割的分割空间24的各自经由回收 管分别连接具有真空泵等的多个液体回收部，独立控制这些多个液体 回收部的回收动作，可以才艮据液体回收位置4吏回收力不同。进而，在 分割空间24的各自上不各自连接液体回收部，而用多个回收管连接l 个液体回收部和多个分割空间24的各自，在这些回收管的各自上设置 阀门，通过调整阀门的开度，可以与液体回收位置相应地使回收力不 同。进而，通过改变上述多个回收管各自的长度，也可以通过压力损 失使在各分割空间24上的回收力不同。
进而，在上迷各实施方式中，液体供给机构10的供给部件是平 面看大致圓弧形状，而如图9所示，也可以是直线形状。在此，图9 所示的平面看直线状的供给部件13、 14分别被设置在投影区域AR1 的扫描方向两侧上。同样，液体回收机构20的回收部件22也并不限 于圆环状，如图9所示可以是矩形形状。
如图10(a)所示，也可以在液体供给机构IO的供给部件13(14) 的内部流路13H (14H)上设置多孔质体40。或者如图10 (b)所示， 也可以设置隔断部件41形成缝隙状的流路。通过这样，可以整流从供 给部件13 (14)提供给基板P上的液体1，可以抑制在基板P上产生 紊流或者液体振动的异常的发生。
在上述各实施方式中，说明了收集部件30 (收集面31)是平面 看椭圆形状，但也可以是圆形或者矩形形状。另一方面，因为液体1 容易流出的地方是投影区域AR1的扫描方向两侧，所以如上所述，通过把收集部件30设置成椭圆形状，可以良好地捕捉要流出的液体1。 此外，在上述实施方式中其构成是，收集部件30(收集面31)是椭圆 形状，在回收部件22的液体回收位置的外侧全部上如包围回收部件 22那样设置，例如可以设置成只设置在投影区域AR1的扫描方向两 侧，不设置在相对投影区域AR1在非扫描方向上隔开的位置上。因为 液体1不容易流出的位置在扫描方向两侧，所以即使只在投影区域 AR1的扫描方向两侧上设置收集部件30，也可以良好地捕捉要流出的 液体l。此外，也可以设置成收集面31的倾斜角度根据其位置不同。 例如，在收集面31中也可以使投影区域AR1的扫描方向两侧附近的 倾斜角度比其他的部分大。此外，收集面31不需要是平面，例如可以 是组合多个平面的形状。
图11是展示收集部件30的收集面31的另一实施方式的图。如 图11所示，收集面31可以是曲面形状。具体地说，如图11所示，收 集面31可以是断面看例如2维曲线形状或者圆弧形状。在此，收集面 31理想的是向基板P—侧胀出的曲面。即使是这样的形状也可以良好 地捕捉液体1。
或者，如图12所示，可以对收集面31实施表面积扩大处理，具 体地说实施粗面处理。通过粗面处理收集面31的表面积扩大，可以更 进一步良好地捕捉液体l。进而，粗面处理不需要在收集面31的整个 面上，其构成可以是在收集面31中，例如只在沿着扫描方向的一部分 的区域上实施粗面处理。
如图13所示，也可以用多个扇形部件32构成收集部件30。在图 13中，扇形部件32是侧面看大致三角形，与基板P相对的边(下边) 随着相对投影区域AR1向外侧而向上方倾斜。而后，这多个扇形部件 32在回收部件22的外侧面上，使其长度方向向着外侧安装成放射状。 在此，多个扇形部件32之间隔开，在各扇形部件32之间形成空间部 分33。用回收部件22不能彻底回收的液体1通过靠表面张力捕捉扇 形部件32之间的空间部分33，防止液体l流到基板P的外部。
进而，多个扇形部件32可以以等间隔设置，也可以以不等间隔
设置。例如，也可以把沿着扫描方向的位置设置的扇形部件32的间 隔设定成比被设置在沿着非扫描方向的位置设置的扇形部件32的间 隔小。此外，多个扇形部件32各自的长度(放射方向的大小)可以相 同，被设置在沿着扫描方向的位置的扇形部件32的长度也可以比被 设置在此外的位置上的扇形部件32长。此外，在收集部件30中，也 可以用扇形部件构成一部分的区域，用收集面构成剩下的区域。进而 其构成也可以是，在参照图4等说明的收集面31上安装扇形部件32。 进而理想的是，对于扇形部件32的表面，也实施提高和液体l的亲 和性的亲液化处理。
在上述各实施方式中，当对收集面31 (或者扇形部件32)实施 亲液化处理的情况下，也可以使该收集面31具有亲液性分布。换句话 说，可以通过实施表面处理使对于表面处理的面上的多个区域的液体 接触角是各自不同的值。例如，在收集面31中也可以相对投影区域 AR1使外侧的一部分区域的亲液性相对内侧区域降低。进而其构成也 可以是，不需要亲液化处理收集面31的全部，例如只亲液化处理沿着 扫描方向的一部分的区域。
进而，在上述实施方式中，说明了对收集面31实施亲液化处理， 但在液体供给机构10的液体回收部20中对液体1流过的流路的表面 也可以实施亲水化处理。特别是通过对液体回收机构20的回收部件 22实施亲液化处理，可以平滑地进行液体回收。或者也可以对包含液 体1接触的镜筒PK的投影光学系统PL的前端部分实施亲液化处理。 进而，当在光学元件2上形成薄膜的情况下，因为被配置在膝光光束 EL的光路上，所以用相对曝光光束EL具有透过性的材料形成，其膜 厚度也被设置成可以透过曝光光束EL的程度。
此外，用于表面处理的薄膜是单层膜，也可以是由多层组成的膜。 此外，其形成材料如果是金属、金属化合物以及有机物等可以发挥所 希望的性能的材料，则也可以使用任意的材料。
此外，在基板P的表面上也可以和液体1的亲和性一致地实施表 面处理。进而，如上所述，收集面31的液体亲和性理想的是比基板P
表面的液体亲和性还高。
以下，参照图14说明本发明的液体供给机构10以及液体回收机 构20的另一实施方式。
在图14中，液体供给机构10包括第1液体供给部件11以及 第2液体供给部件12;相对投影区域AR1被设置在扫描方向一侧(-X侧)上的第l供给部件13;被设置在另一侧(十X侧)上的第2供 给部件14;连接第1液体供给部11和第1供给部件13的第1供给管 41;连接第2液体供给部件12和第2供给部件14的第2供给管42。 第1、第2供给部件13、 14和参照图2以及图3说明的实施方式一样， 分别具备内部流路13H、14H和被形成在其下端部分上的供给口 13A、 14A，被形成为平面看大致圆弧形状。
连接第1供给部11和第1供给部件13的第1供给管41具有直 管部43、缝隙管部44。直管部43的一端部分与第1液体供给部11 连接，直管部43的另一端部分与缝隙管部44的一端连接。此外，缝 隙管部44的另一端与第1供给部件13的内部流路13H的上端部分连 接。缝隙管部44的一端部分被形成为和直管部43大致同样大小，另 一端被形成为和第1供给管部件13的上端部分大小大致相同。而后， 缝隙管部44从一端部分向另一端部分在水平方向上逐渐扩大形成为 平面看大致三角形形状，被形成在缝隙部44上的缝隙状的内部流路 44H从一端部分向另一端部分形成为在水平方向上逐渐扩大。
连接第2液体供给部12和第2液体供给部14的第2供给管42 具有直管部45;缝隙管部46。直管部45的一端部分与第2液体供给 部12连接，直管部45的另一端与缝隙管46的一端部分连接。此外， 缝隙管部46的另一端与第2供给部件14的内部流路14H的上端部分 连接。缝隙管部46的一端部分和直管部45形成为大小大致相同，另 一端部分和第2供给部件14的上端部分形成大致大小相同。而后，缝 隙管部46从一端部分向另一端部分形成为在水平缝隙上逐渐扩大那 样的平面看大致三角形形状，被形成在缝隙管部46上的缝隙状的内部 流路46H被形成从一端部分向另 一端部分在水平方向上逐渐扩大。
液体回收机构20包括被形成在平面看环状的回收部件22;多 个液体回收部件61 ~ 64;连接回收部件22和液体回收部61 ~ 64的各 自的多根回收管71~74。在本实施方式中，液体回收部用第1~第4 液体回收部61~64的4个构成，如与之对应那样回收管用第1~第4 回收管71 ~74的4个构成。回收部件22和参照图2以及图3说明的 实施方式一样，包括环状的内部流路22H、被形成在其下端部分上的 回收口 22A。进而，在图14所示的实施方式的内部流路22H上不设 置隔断部件(23)。液体回收机构20的回收部件22被配置在液体供 给机构10的第1、第2供给部件13、 14的外侧上。
在多个液体回收部件中连接第1液体回收部61和回收部件22的 第1回收管71具有直管部75、缝隙管部76。直管部75的一端部分与 第1液体回收部61连接，直管部75的另一端与缝隙管部件76的另一 端连接。此外，缝隙管部76的另一端与回收部件22的内部流路22H 的上端部分连接。在此，缝隙管部76的一端部分被形成为和直管部 75大小大致相同，另一方面，缝隙管部76的另一端被形成为圆环状 的回收部件22的上端部分的大致1/4的大小。而后，缝隙管部76如 从一端部分向另一端部分在水平方向上逐渐扩大那样被形成为平面看 大致三角形形状，被形成在缝隙管部76上的缝隙状的内部流路76H 被形成为从一端部分向另一端部分逐渐扩大。
同样，连接第2液体回收部件62和回收部件22的第2回收管72 具有直管部77、缝隙管部78，缝隙管部78的一端部分被形成为和直 管部77大致同样大小，另一方面，缝隙管部78的另一端被形成为圆 环状的回收部件22的上端部分的大致1/4的大小。而后，缝隙管部78 被形成为平面看大致三角形形状，被形成在缝隙管部78上的缝隙管状 的内部流路78H从一端部分向另一端被形成为在水平方向上逐渐扩 大。此外，连接第3液体回收部63的回收部件22的第3回收管73 具有直管部79、缝隙管部80，连接第4液体回收管部64和回收部件 22的第4回收管74具有直管部81和缝隙管部82。而后，缝隙管部 80、 82的另一端分别被形成为圆环状的回收部件22的上端部分的大
致l/4的大小。而后，缝隙管部80、 82的各自被形成为平面看大致三 角形形状，被形成在缝隙管80、 82上的缝隙状的内部流路80H、 82H 的各自被形成为从一端部分向另 一端部分在水平缝隙上逐渐扩大。
在构成液体供给机构10以及液体回收机构20的部件中液体流通 的部件，具体地说供给管41、 42以及回收管71 ~ 74如上所述，可以 用聚四氟乙烯等合成树脂形成，例如也可以用不锈钢和铝等的金属形 成。在本实施方式中，液体流通的部件是金属制。特别是把在液体供 给机构10以及液体回收机构20中构成液体流路的部件设置成铝，因 为铝和液体(水)的接触角小，所以可以平滑地流通液体。此外，虽 然在图14中未图示，但在液体回收机构20的回收部件的周围上和前 面的实施方式一样设置收集部件30。
以下，说明液体供给机构10以及液体回收才几构20的动作。为了 形成液浸区域(AR2)，控制装置CONT驱动液体供给机构10的第1、 第2液体供给部11、 12的各自。从第1、第2液体供给部11、 12各 自送出的液体l在使第l、第2供给管41、 42的各自流通后，经由第 1、第2供给部件13、 14提供给基板P上。在此，从第l液体供给部 件11送出的液体1在第1供给管41的直管部43上流通后，通过在缝 隙管44上流通在水平方向(横方向)上扩散，在缝隙管部44的另一 端上，在扩大到第1供给部件13的内部流路13H (供给口 13A)的大 致Y轴方向的大小后，经由第1供给部件13的内部流路13H提供给 基板P上。由此，液体1在把Y轴方向作为长度方向的大致圆弧形状 的供给口 13A的各位置上以大致均匀的液体供给量提供给基板P上。 同样，从第2液体供给部12送出的液体1也在流过第2供给管42的 直管部45后，在经由缝隙管46在水平方向(横方向)上扩大后，因 为提供给第2供给部件14,所以在供给口 14A的各位置上以大致均匀 的液体供给量提供给基板P上。
即，在参照图2以及图3说明的实施方式中，因为供给管IIA全 部用直管构成，所以从该直管的供给管11A向把Y轴方向作为长度方 向的第1供给部件13直接提供液体，则由于该流路面积的不同，因而
在第1供给部件13的供给口 13A的长度方向的中央部分、即在供给 管11A的正下位置上的液体供给量与在供给口 13A的长度方向端部、 即在和供给管11A隔开的位置上的液体供给量之间产生差，出现液体 供给量在供给口 13A的各位置上不均匀的现象。具体地说，在供给口 13A的长度方向中央部分(供给管11的正下的位置)中的液体供给量 比在供给口 13A的长度方向端部(和供给管11A隔开的位置)中的液 体供给量多，产生不能均匀提供液体，液浸区域AR2不均匀的可能性。 但是，在把Y轴方向设置为长度方向的第l供给部件13(供给口 13A) 上在由第1液体供给部11提供液体1时，供给管41的至少一部分的 流路大小与第1供给部件13的大小相应地设定，如本实施方式所示， 通过把供给管41的一部分设置成向着第1供给部件13具有在水平方 向逐渐扩大的喇叭形状的内部流路44H的缝隙管部44，可以在把Y 轴方向作为长度方向的第1供给部件13的供给口 13A的各位置中用 大致均匀的液体供给量向基板P上提供液体1。同样，从第2液体供 给部12送出的液体1也经由第2供给管42以及第2供给部件14均匀 地提供给基板P上。
此外，控制装置CONT驱动液体回收机构20的第1 第4液体回 收部61 ~64的各自，经由回收部件22以及第1 ~第4回收管71 ~74 的各自回收基板P上的液体1。第1~第4液体回收部件61~64的各 自通过经由第1 ~第4回收管71 ~74吸引基板P上的液体1回收。而 后，基板P上的液体1在圆环状的回收部件22的回收口 22A的各位 置中以大致均匀的回收量(回收力)回收。
即，和上述一样，如果直接连接直管的回收管和回收部件22，则 由于其流路面积不同，在回收口 22A的各位置中的液体回收量(回收 力)中产生差异，产生液体回收量在回收口 22A的各位置上不均匀的 情况。例如，在回收管的正下的位置中的液体回收量比在此外的位置 上的液体供给量多，不能均匀地回收液体，产生液浸区域AR2不均匀 的可能性。但是，如本实施方式所示，通过把回收管的一部分设置成 具有向着回收部件22在水平方向上逐渐扩大的的喇叭形状的内部流
路的缝隙管部76、 78、 80、 82，在圆环状的回收部件22的回收口 22A 的各位置上可以以大致均匀的液体回收量回收基板P上的液体。
这样，在供给口 13A、 14A各自的各位置上在可以均匀提供液体 的同时，因为可以在回收口 22A的各位置上均匀回收，所以可以形成 均匀的液浸区域AR2。
在参照图14说明的实施方式中，缝隙管部44 (46 )的内部流路 44H (46H)是空洞形状，如图15所示，在构成液体供给机构10的供 给管41 (42)的一部分的缝隙管部44 (46)的内部流路44H ( 46H ) 上，沿着液体l的流通方向(从缝隙管部的一端部分向另一端部分) 可以设置多个扇形部件85。由此，可以在整流液体1后经由供给部件 13 (14)向基板P上提供。进而，也可以把该扇形部件85延伸到供 给部件13 (14)的内部流路13H (14H)。此外，在构成液体供给机 构20的回收管的缝隙管部76、 78、 80、 82的内部流路76H、 78H、 80H、 82H的各自上设置扇形部件85。
进而，例如在基板P高速扫描移动的情况等下，考虑即使在图 14所示的实施方式中，也不能彻底回收基板P上的液体1，基板P上 的液体l流出到回收部件22的外侧的情况。这种情况下，可以把沿着 基板P的扫描方向(X轴方向)的位置设置的平面看大致三角形形状 的缝隙管部44、 46的下面，代替收集部件30作为收集面使用。
进而，在本实施方式中，其构成是对于1个回收部件22连接多 条回收管71~74，而其构成也可以是如与多条回收管71 ~74对应那 样把多个回收部件(回收口)接近基板P设置。
以下，参照图16~图19说明本发明的液体供给机构IO以及液体 回收才几构20的另一实施方式。
图16是展示本实施方式的液体供给机构(10)以及液体回收机 构(20 )的斜视图。在图16中，液体供给机构(10 )包括第1、第 2液体供给部11、 12;与第l、第2液体供给部11、 12的各自连接的 第1、第2供给管41、 42。液体回收机构(20)包括第1~第4液 体回收部61 64;与第1~第4液体回收部61~64的各自连接的第1~ 第4回收管71 ~74。而后，第1、第4供给管41、 42的各自的一端与 第1、第2液体供给部11、 12连接，另一端与用流路形成部件90形 成的以后叙述的供给流路连接。第1~第4回收管71~74的各自的一 端与第1~第4液体回收部件61~64连接，另一端与用流路形成部件 90形成的以后叙述的回收流路连接。
流路形成部件90包括第1部件91;被配置在第1部件91的上 部的第2部件92;被配置在第2部件92的上部的第3部件93。流路 形成部件90被配置成包围投影光学系统PL，构成该流路形成部件90 的第1~第3部件91~93的各自是同一尺寸矩形的板状部件，具有可 以在其中央部分上配置投影光学系统PL的孔部分91A ~ 93A。孔部分 91A 93A被形成为相互连通。此外，第1、第2供给管41、 42在第 1 ~第3部件中与最上端的第3部件93连接，第1 ~第4回收管71 ~ 74与中段的第2部件92连接。
图17是展示在第1 ~第3部件中被配置在最下段上的第1部件 91的斜视图。第l部件91包括被形成在投影光学系统PL的-X侧 上，形成向基板l上提供液体l的供给口的第1供给孔部94A;被形 成在投影光学系统PL的+ X侧上，形成向基板1上提供液体的供给 口的第2供给孔部95A。第1供给孔部94A以及第2供给孔部95A的 各自平面看被形成为大致圆弧状。进而，第l部件91包括被形成在 投影光学系统PL的-X侧上，形成回收基板P上液体的回收口的第 1回收孔部96A;被形成投影光学系统PL的-Y侧上的，形成回收基 板P上的液体的回收口的第2回收孔部97A;被形成在投影光学系统 PL的+ X侧上，形成回收基板P上的液体的回收口的第3回收孔部 98A;被形成在投影光学系统PL的+Y侧上，形成回收基板P上的液 体的回收口的第4回收孔部99A。第1~第4回收孔部96A 99A的 各自被形成为平面看大致圓弧形状，沿着投影光学系统PL的周围被 设置成大致等间隔。此外，回收孔部96A ~ 99A的各自与供给孔部94A、 95A相比相对投影光学系统PL被设置在外侧。
图18是展示在第1 ~第3部件中被配置在中段上的第2部件92
的斜视图，图18 (a)是从上侧看的斜视图，图18(b)是从下侧看的 斜视图。第2部件92包括被形成在投影光学系统PL的-X侧上， 与第1部件91的第1供给孔94A连接的第3供给孔部94B;被形成 在投影光学系统PL的+乂侧上，与第1部件91的第2供给孔95A连 接的第4供给孔部95B。第3、第4供给孔94B、 95B各自的形状以及 大小与第l、第2供给孔部94A、 95A对应。
进而，第2部件92包括在其下面被形成在投影光学系统PL 的-X侧上，与第1部件91的第1回收孔部96A连接的第1回收沟 部96B;被形成在投影光学系统PL的-Y侧上，与第1部件91的第 2回收孔97A连接的第2回收沟部97B;被形成在投影光学系统PL 的+X侧上，与第1部件91的第3回收孔部98A连接的第3回收沟 部98B;被形成在投影光学系统PL的+Y侧上，与第1部件91的第 4回收孔部99A连接的第4回收沟部99B。第1 ~第4回收沟部96B ~ 99B的各自如与第1 ~第4回收孔部96A~99A的形状以及大小对应 那样被形成为平面看大致圆弧形状，沿着投影光学系统PL的周围大 致等间隔设置。此外，第1回收管71和笫2回收沟部96B经由喇叭 形状沟部96T连接。喇叭形状沟部96T被形成为从相对第1回收管 71的连接部向第1回收沟部96B在水平方向上逐渐扩大。同样，第2 回收管72和第2回收沟部97B经由喇叭形状沟部97T连接，第3回 收管73和第3回收沟部98B经由喇叭形状沟部98T连接，第4回收 管74和第4回收沟部99B经由喇叭形状沟部99T连接。
图19是展示在第1 ~第3部件中被配置在最上段上的第3部件 93的斜视图，图19 (a)是从上侧看的斜视图，图19 (b)是从下侧 看的斜视图。第3部件93包括在其下面形成在投影光学系统PL的 -X侧上，与第2部件92的第3供给孔部94B连接的第1供给沟部 94C;被形成在投影光学系统PL的+X侧上，与第2部件92的第4 供给孔95B连接的第2供给沟部95C。第1、第2供给沟部94C、 95C 各自的形状以及大小如与第3、第4供给孔部94B、 95B(进而第l、 第2供给孔94A、 95A)对应那样被形成为平面看大致圆弧形状。此 外，第l供给管41和第1供给沟部94C经由喇叭形状沟部94T连接。 喇叭形状沟部94T被形成为从与第1供给管41相对的连接部向第1 供给沟部94C在水平方向上逐渐扩大。同样，第2供给管42和第2 供给沟部95C经由带状沟部95T连接。
第1~第3部件91 93例如用不锈钢、钛、铝或者包含它们的合 金等的金属形成，各部件91 ~93的孔部和沟部例如用放电加工形成。 在通过放电加工对各部件91 93加工，通过用粘接剂、热压接法等粘 合这些各部件91~93，形成流路形成部件90。通过叠层各部件91 93粘合，喇叭形状沟部94T、第1供给沟部94C、第3供给孔部94B 以及第1供给孔部94A的各自连接(连通)，由此形成与第l供给管 41连接(连通)的供给流路。同样，通过连接(连通)喇叭形状沟部 95T、第2供给沟部95C、第4供给孔部95B以及第2供给孔部95A 的各自，形成与第2供给管41连接(连通)的供给流路。而后，从第 1、第2液体供给部11、 12各自送出的液体1经由第1、第2供给管 41、 42以及上述供给流路提供给基板P上。即，通过叠层板状部件 91~93，形成液体供给流路。
此外，通过连接(连通)喇叭形状沟部96T、第1回收沟部96B 以及第1回收孔部96A的各自，形成与第1回收管71连接(连通) 的回收流路。同样，通过连接喇叭形状沟部97T、第2回收沟部97B 以及第2回收孔部97A的各自，形成与第2回收管72连接(连通) 的回收流路，通过连接(连通)喇叭形状沟部98T、第3回收沟部98B 以及第3回收孔部98A的各自，形成与第3回收管73连接(连通) 的回收流路，通过连接(连通)喇叭形状沟部99T、第4回收沟部99B 以及第4回收孔部99A的各自，形成与第4回收管74连接(连通) 的回收流路。而后，基板P上的液体经由上述回收流路以及第1~第 4回收管71~74的各自4皮回收。
此时，因为在第1、第2供给管41、 42的各自上连接喇叭形状沟 部94T、 95T，所以和参照图14说明的实施方式一样，在把Y轴方向 设置为长度方向的供给口的各位置上可以均匀进行液体供给。同样，
因为在回收管71~74的各自上也连接喇叭形状沟部，所以可以用均匀 的回收力回收液体。
而后，通过用作为板状部件的第1~第3部件91~93的各自形成 流路形成部件90，例如可以用流路形成部件90吸收在液体回收时吞 入空气吸引液体时发生的振动。此外，因为对于许多板状部件91~93 的各自通过实施放电加工等的加工形成流路的一部分，通过组合它们 形成液体的流路，所以可以容易形成供给流路以及回收流路的各自。
进而，在形成流路形成部件90的多个部件91~93中，在被配置 在最下段上的第1部件91的下面的第1 ~第4回收孔部96A~99A的 周围上设置相对XY平面倾斜的面，通过亲液处理该表面，可以作为 捕捉不能用液体回收机构彻底回收的液体的收集面使用。此外，形成 流路形成部件90的部件91 ~ 93是方形的板状部件，但也可以使用圆 形的板状部件，可以设置成在X方向上长的椭圓状的板状部件。
此外，上述的流路形成部件卯在其内部形成供给流路和回收流 路的双方，也可以只把任意一方设置在流路形成部件90的内部。此外，
而分别提供。
以下，说明本发明的进一步的另一实施方式。如上所述，包含供 给部件13、 14的液体供给机构10以及包含回收部件22的液体回收机 构20的各自理想的是，用投影光学系统PL以及支撑该投影光学系统 PL的支撑部件以外的支撑部件支撑。以下，参照图20说明液体供给 机构10以及支撑液体回收机构20的支撑结构。
图20是展示液体供给机构10以及液体回收机构20的支撑构造 的概略图。图20中，曝光装置EX包括支撑投影光学系统PL的镜 筒平台(第l支撑部件)100;支撑镜筒平台100、掩模载台MST以 及基板载台PST的主框架(第2支撑部件)102。进而，在图20中， Z栽台以及XY载台用一体图示。主框架102在超净间等的地面上通 过脚部分108设置成大致水平。在主框架102上形成向内侧突出的上 侧段部102A以及下侧段部102B。
照明光学系统il用被固定在主框架102的上部的支撑框架120 支撑。在主框架102的上侧段部分102a中，经由防振动装置122支 撑掩模平台124。在掩模载台mst以及掩模平台124的中央部分上形 成使掩模m的图案像通过的开口部。在掩模载台mst的下面上设置 多个作为非接触轴承的气体轴承(空气轴承)126。掩模栽台mst用
空气轴承126相对掩模平台124的上面(引导面)非接触支撑，用掩
模载台驱动装置在xy平面内可以2维移动以及在ez方向上微小旋转。
在保持投影光学系统pl的镜筒pk的外周上设置法兰盘104， 投影光学系统pl经由该法兰盘104支撑在镜筒平台100上。在镜筒 平台100和主框架102的下段部102b之间配置包含空气垫等的防振 装置106，支撑投影光学系统pl的镜筒平台100通过防振装置106 支撑在主框架102的下侧段部分102b上。用该防振装置106如主框 架102的振动不传递到支撑投影光学系统pl的镜筒平台100上那样， 把镜筒平台100和主框架102在振动性上彼此隔离。
在基板载台pst的下面上设置作为多个非接触轴承的气体轴承 (空气轴承)130。此外，在主框架102上，通过包含空气垫等的防振 装置110支撑载台基座112。基板载台pst用空气轴承130相对载台 基座112的上面(引导面)非接触支撑，用基板载台驱动装置可以在
xy平面内2维移动以及在ez方向上微小移动。进而，基板载台pst 还可以在z方向、ex方向以及eY方向上移动。用该防振装置110如
主框架102的振动不传递到非接触支撑基板载台pst的载台座112那 样，载台基座112和主框架102被在振动性上彼此隔离。
在基板载台pst上的+ x侧的规定位置上设置移动镜55，在镜 筒pk的+乂侧的规定位置上设置参照镜(固定镜)114。此外，在与 移动镜55以及参照镜114相对的位置上设置激光干涉计56。激光干 涉计56因为被安装在镜筒平台100上，所以激光干涉计56和液体供 给机构10以及液体回收机构20被在振动性上彼此隔离。激光干涉计 56在向镜筒镜55照射测长光束(测定光)的同时，在参照镜114上
照射参照光束(参照光)。基于被照射的测长光束以参照光束的来自
移动镜55以及参照镜114各自的反射光在激光干涉计56的受光部上 接收光，激光干涉计56干涉这些光，测量以参照光束的光路长度为基 准的测长光束的光路长度的变化量，进而测量以参照镜114为基准的 移动镜55的位置信息，即基板载台PST的位置信息。同样，虽然未 同时，但在基板载台PST上以及镜筒PK的+￥侧也设置移动镜以及 参照镜，在与它们相对的位置上设置激光干涉计。
此外，在镜筒平台100上用于测量基板P的聚焦位置(Z位置) 以及倾斜的自聚焦检测系统和基板P上的校准标志的校准系统等，也 被未图示的测量系统支撑，这些测量系统也是和主框架102、液体供 给机构10、液体回收机构20在振动性上彼此隔离。
液体供给机构io以及液体回收机构20被主框架102的下段部 102B支撑。在本实施方式中的构成是构成液体供给机构10的第1、 第2供给部件13、 14、供给管IIA、 12A以及构成液体回收机构20 的回收部件22、回收管21A等用支撑部件140支撑，该支撑部件140 与主框架102的下段部102B连接。进而，在图20中，供给部件13、 14、回收部件22、供给管IIA、 12A以及回收管21A等简化图示。
这样，通过用和支撑投影光学系统PL的镜筒平台IOO在振动性 上彼此隔离的主框架102支撑液体供给机构10以及液体供给机构20, 液体供给机构io及液体回收机构20和投影光学系统PL被在振动性 上彼此隔离。因而，在液体供给时，或者液体回收时产生的振动，不 会经由镜筒平台IOO传递到投影光学系统PL、激光干涉计56以及自 聚焦检测和校准系统等的测量系统。因而，可以防止由于投影光学系 统振动发生图案像劣化的异常的情况，此外，因为可以高精度进行基 板载台(基板P)的位置控制，所以可以把图案像高精度投影到基板 上。此外，通过用和支撑基板载台PST的载台基座112在振动性上彼 此隔离的主框架102支撑液体供给机构10以及液体供给机构20，液 体供给机构10及液体回收机构20和载台基座112被在振动性上彼此 隔离。因而，在液体供给时，或者在液体回收时产生的振动不会传递
到载台基座112，可以防止产生降低基板载台PST的位置确定精度， 或者移动精度的的异常。
进而，本实施方式中，在主框架102上一体地支撑液体供给机构 10以及液体回收才几构20，但也可以将液体供给才几构10和液体回收机 构20分开安装在主框架102上。进而，主框架102和另一支撑部件配 置在超净间等的地上，在该支撑部件上也可以支撑液体供给机构和液 体回收机构。
如上所述，本实施方式中的液体l使用纯水。纯水在半导体制造 工厂等中在可以容易大量得到的同时，具有对基板P上的光刻胶和光 学元件(透镜)等没有不良影响的优点。此外，纯水在对环境没有不 良影响的同时，因为杂质的含有量极其低，所以还可以期待洗净基板 P的表面以及被设置在投影光学系统PL的前端面上的光学元件的表 面的作用。而后，相对波长193nm左右的啄光光束EL的纯水(水) 的折射率n可以说大致在1.44左右，作为膝光光束EL的光源当使用 ArF准分子激光(波长193nm )的情况下，在基板P上被短波长化为 1/n,即134nm左右而得到高的解像度。进而，焦深与空气中相比因 为约扩大为n倍，即约为1.44倍，所以当在空气中使用的情况下只要 确保同等的焦深即可的情况下，可以进一步增加投影光学系统PL的 数值孔径，这一点也可以提高解像度。
进而，如上所述当使用了液浸法的情况下，投影光学系统的数值 孔径NA为0.9-1.3。当投影光学系统的数值孔径NA这样大的情况下， 在以往作为啄光光束使用的随机偏振光中因偏振光效应成像性能恶 化，所以希望使用偏振光照明。这种情况下，进行与掩模(掩模原版) 的线和间距图案的线图案的长度方向一致的直线偏振光照明，从掩模 (掩模原版)的图案中，可以射出许多S偏振光成分(沿着线图案的 长度方向的偏振光方向成分)的衍射光。与用液体充满投影光学系统 PL和被涂布在基板P表面上的抗蚀剂之间的情况，和用空气(气体) 充满投影光学系统PL和被涂布在基板P表面上的抗蚀剂之间的情况 相比，因为在有利于提高对比度的S偏振光成分的衍射光的抗蚀剂表面上的透过率高，所以即使在投影光学系统的数值孔径NA超过1.0 的情况下，也可以得到高的成像性能。此外，如果适宜地组合与相移 掩模或线图案的长度方向 一致的斜向入射照明法(特别是偶极照明法) 等，则具有进一步效果。进而，对于和线图案的长度方向一致的斜向 入射照明法，例如被公开在特开平6 - 188169号公报上，在由本国际 申请中指定或者选择的国家法令容许的范围中，援引该公开作为本文 的记栽的一部分。
在本实施方式中，在投影光学系统PL的前端上作为光学元件2 安装透镜，可以用该投影进行投影光学系统PL的光学特性，例如像 差(球面像差，彗形像差等)的调整。进而，作为光学元件2也可以 是调整上述光学特性的光学板。另一方面，也可以把和液体l接触的 光学元件2设置成比透镜便宜的平行平面板。通过把光学元件2设置 成平行平面板，在曝光装置EX的运输、组装、调整时等中降低投影 光学系统PL的透过率、基板P上的曝光光束EL的照度以及照明分 布的均匀性的物质(例如硅基有机物质)即使附着在该平行平面板上， 也可以只在提供液体1之前更换该平行平面板，和把和液体1接触的 光学元件设置为透镜的情况相比具有其更换成本低的优点。即，因为 由于因膝光光束EL的照射从抗蚀剂中发生的飞濺粒子，或者液体1 中的杂质的附着等引起与液体1接触的光学元件的表面污浊，所以需 要定期更换该光学元件，而通过把该光学元件设置成便宜的平行平面 板，与透镜相比更换部件的成本降低，并且可以缩短更换所需要的时 间，可以抑制维护成本(运行成本)的上升和生产量的降低。
进而，当因液体l的流动产生的投影光学系统PL的前端的光学 元件和基板P之间的压力大的情况下，不能更换该光学元件，该光学 元件被坚固地固定不能被该压力移动。
进而，本实施方式的液体l是水，而也可以是水以外的液体。例 如在膝光光束EL的光源是F2激光的情况下，该F2激光因为不透过水， 所以作为液体1可以是能够透过F2激光光束的例如过氟化聚醚 (PFPE)或氟元素基油等的氟元素基流体。这种情况下，在和以收集
面31为主的液体1接触的部分上，例如，通过用包含氟元素的极性小 的分子构造的物质形成薄膜进行亲液化处理。此外，作为液体1,除 此以外还可以使用相对曝光光束EL具有透过性，折射率尽可能高， 对于在投影光学系统PL和被涂布在基板P表面上的光刻胶稳定的物 质(例如雪松油)。这种情况下也是表面处理与所使用的液体1的极 性相应地进行。
进而，上述的投影光学系统PL的构成(设计)是，在用液体l (纯水)充满该像面侧的液浸状态下，其成像性能最佳，而也可以设 置(设计)成这样的结构，通过更换投影光学系统PL的一部分的光 学元件(接近基板P的光学元件)，在该像面侧不存在液体的非液浸 状态和用另一液体充满该像面侧的液浸状态下都可以得到所希望的成 像性能。通过这样构成投影光学系统PL，例如当需要大焦深DOF的 情况下在液浸状态下使用曝光装置EX，在要求高生产率的情况下更 换一部分光学元件在非液浸状态下使用曝光装置EX。这种情况下， 为了测定一部分光学元件的更换后的成像性能，希望在基板载台PST 上配置空间像传感器或波面像差测定传感器。此外，可以使用波面像 差测定用的掩模，也可以根据该成像性能的测定结果，如在各状态下 得到所希望的成像性能那样，推动一部分光学元件，或者进行曝光光 束EL的波长的微调整。进而，对于上述空间像传感器的详细，例如 在特开2002- 14005号(对应美国专利7>开20020041377)中7>开， 此外对于波面像差测定传感器的详细，例如在国际公开第02/63664号 公报中公开，在本国际申请中指定或者被选择的国家的法令允许的范 围中，援引这些公开作为本文的记载的一部分。
此外， 一部分的光学元件的更换理想的是在曝光装置EX上安装 投影光学系统PL的状态下进行，而也可以在从膝光装置EX上拆下 投影光学系统PL的状态下进行。
进而，作为上述各实施方式的基板P，不仅适用于半导体器件制 造用的半导体晶片，而且适用于显示器器件用的玻璃基板、薄膜磁头 用的陶瓷晶片，或者在膝光装置中使用的掩模或者掩模原版的原版(合
成石英，硅晶片)等。
作为曝光装置EX除了可以适用使掩模M和基板P同步移动扫 描曝光掩模M的图案的步进式扫描方式的扫描型曝光装置(扫描步进 膝光装置)外，还可以适用在使掩模M和基板P静止的状态下一并曝 光掩模M的图案，使基板P顺序步进移动的步进重复方式的投影曝光 装置(步进膝光装置)。此外，本发明还可以适用于在基板P上至少 局部重叠转移2个图案的步进断续方式的曝光装置。
此外，本发明还可以适用于双载台型的曝光装置。双载台型的曝 光装置的构造以及曝光动作例如在特开平10 - 163099号以及特开平 10 - 214783号(对应美国专利6341007， 6400441， 6549269以及 6590634 ),特表2000 - 505958号(对应美国专利5， 969， 441)或 者美国专利6208407中公开，在本国际申请中指定或者被选择的国家 的法令容许的范围中，援引这些公开作为本文记载的一部分。
作为曝光装置EX的种类，并不限于在基板P上曝光半导体元件 图案的半导体元件制造用的曝光装置，也可以广泛适用于制造液晶显 示元件制造用或者显示器制造用曝光装置，和薄膜磁头、摄像元件 (CCD)或者掩模原版或者掩模等的曝光装置等中。
当在基板载台PST和掩模载台MST中适用线性电机的情况下，
抗力的磁悬浮型之一。此外，各载台PST、 MST可以是沿着导轨移动 的类型，也可以是不设置导轨的无导轨型。在载台中使用了线性电机 的例子在美国专利5， 623， 853以及5， 528， 118中公开，分别在本 国际申请中指定或者被选择的国家的法令容许的范围中，援引这些文 件的记载内容作为本文的记载的一部分。
作为各载台PST、 MST的驱动机构，可以使用使在两维上配置 了磁铁的磁铁组件，和在二维上配置了线圏的电枢組件相对，用电磁 力驱动各栽台PST、 MST的平面电机。这种情况下，只要把磁铁组件 和电枢组件之一连接在载台PST、 MST上，把磁4失组件和电枢组件的 另一方i殳置在载台PST、 MST的移动侧面上即可。 〉
由基板载台PST的移动产生的反作用力可以使用框架部件机械
性地传导到大地，以使其不传递到投影光学系统PL上。其反作用力 的处理方法例如在美国专利5， 528， 118 (特开平8- 166475号公报) 中详细公开，在本国际申请中指定或者被选择的国家的法令容许的范 围中，援引该文献记载的内容作为本文记载的一部分。
由掩模载台MST的移动产生的反作用力使用框架部件机械性地 传递到大地，以使其不传递到投影光学系统PL。该反作用力的处理方 法例如被详细7>开在美国专利第5， 874， 820 (特开平8 -330224号 公报)中，在本国际申请中被指定或者选择的国家的法令容许的范围 中，援引该文献的公开作为本文的记栽的一部分。
如上所述，本申请实施方式的曝光装置EX通过如保持规定的机 械精度、电气精度、光学性精度那样组装包含在本申请专利请求的范 围中列举的各构成要素的各种子系统制造。为了确保这些精度，在该 组装的前后，对各种光学系统进行用于实现光学性精度的调整，对各 种机械系统进行用于实现机械性精度的调整、对各种电气系统进行用 于实现电气精度的调整。从各种子系统到膝光装置的组装的工序包含 各种子系统相互的机械连接、电气电路的配线连接、气压回路的配管 连接等。在从各种子系统向曝光装置的组装的工序前，当然有各子系 统各自的组装工序。如果对各种子系统的曝光装置的组装工序结束， 则进行综合调整，确保作为膝光装置整体的各种精度。进而，曝光装 置的制造希望在温度以及清洁度被管理的洁净间中进行。
半导体器件等的微型器件经由如图21所示的以下步骤制造进 行微型器件的功能和性能设计的步骤201;制造基于该设计步骤的掩 模(掩模原版)的步骤202;制造作为器件的基础材料的基板的步骤 203;用上述的实施方式的曝光装置EX把掩模的图案曝光在基板上的 曝光处理步骤204;器件组装步骤(包含切割工序，粘接工序，封 装工序)205;检查步骤206等。
如果釆用本发明，则在投影光学系统和基板之间形成液浸区域的 状态下进行曝光处理时，可以在稳定地形成液浸区域的同时良好地回 收该液体，因为可以防止液体向周边流出等，所以可以高精度地进行 曝光处理。因而，本发明的曝光装置在使用了 ArF准分子激光等的短 波长光源的高解像度的膝光期间极其有效。
权利要求
1、一种曝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来曝光基板，该曝光装置包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统；为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域而向基板上提供液体的液体供给机构；在多个位置上同时进行基板上的液体回收的液体回收机构，上述液体回收机构根据液体回收位置以不同的回收力来回收液体。
2、 权利要求1所述的曝光装置，上述基板上的各拍摄区域一边 向规定的扫描方向移动一边被曝光，上述液体回收机构使在上述扫描 方向上与上述投影区域隔开的规定位置上的液体回收力，比和上述规 定位置不同的位置上的液体回收力还大。
3、 权利要求1所述的曝光装置，进一步包括被配置在相对上述 投影区域由上述液体回收机构进行的液体回收位置的外侧且形成有捕 捉用上述液体回收机构不能彻底回收的液体的规定长度的液体收集面 的收集部件。
4、 一种啄光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上 来曝光基板，该膝光装置包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统； 为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域而向基板上提供液体的液体供给机构；在离开投影区域的回收位置上进行基板上的液体回收的液体回收才几构；被配置在相对投影区域由液体回收机构进行的液体回收位置的 外侧且形成有捕捉液体的液体收集面的收集部件。
5、 权利要求4所述的曝光装置，上述收集面被实施了提高和上 述液体的亲和性的处理。
6、 权利要求5所述的曝光装置，上迷收集面对上述液体的亲和 性比上述基板表面对上述液体的亲和性高。
7、 权利要求4所述的曝光装置，上述收集面相对水平面倾斜。
8、 权利要求4所述的曝光装置，上述收集面被配置成包围上述 投影区域且根据上述收集面的位置其长度不同。
9、 权利要求4所述的曝光装置，在上述收集面上被捕捉到的液 体#皮上述液体回收才几构回收。
10、 权利要求1或4所述的曝光装置，上述液体供给机构在由上 述液体回收机构进行的液体回收位置和上述投影区域之间进行液体的 供给。
11、 一种膝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上 来曝光基板，该曝光装置包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统； 为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域而向基板上提供液体的液体供给机构；在离开投影区域的回收位置上进行基板上的液体回收的液体回收才几构，位置和投影区域之间进行。
12、 权利要求10或11所述的膝光装置，上述液体供给机构根据 执行的动作改变液体的供给量。
13、 权利要求12所述的曝光装置， 一边移动上述基板一边扫描 曝光上述基板上的各拍摄区域，上述液体供给机构使液体的供给量在 上述基板上的2个拍摄区域之间的步进移动期间和各拍摄区域的啄光 期间彼此不同。
14、 权利要求l、 4以及ll的任一项所述的曝光装置，上述液体上述基板表面的亲和性高的液体。
15、 权利要求14所述的曝光装置，上述液体是水，上述投影光学系统的前端的液体接触面被实施了亲水化处理，在上述基板表面上 涂布有防水性的感光材料。
16、 一种器件制造方法，使用权利要求l、 4以及11的任一项所 述的曝光装置。
17、 一种曝光方法，通过隔着液体把规定图案的由投影光学系统 产生的像投影到基板上来曝光基板，该曝光方法包括向包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上提供对投影光 学系统的前端的液体接触面的亲和性比对基板表面的亲和性还高的液 体以形成液浸区域；隔着提供给上述液浸区域的液体把规定图案的像投影到基板上。
18、 权利要求17所述的曝光方法，上述液体是水，上述投影光 学系统的前端的液体接触面被实施了亲水化处理，在上述基板表面上 涂布有防水性的感光材料。
19、 权利要求17所述的曝光方法，在上述基板的曝光期间，在 上述基板上进行上述液体供给的同时，回收上述基板上的液体。
20、 一种器件制造方法，使用权利要求17所述的曝光方法。
21、 一种曝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上 来爆光基板，该膝光装置包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统；具有向上述基板上提供液体的供给流路的液体供给机构；具有回收所供给的液体的回收流路的液体回收机构，上述供给流路以及回收流路的至少一方被形成在叠层有多个板 状部件的叠层部件中。
22、 权利要求21所述的瀑光装置，形成有配置了投影光学系统 的一部分的贯通孔以在上述叠层部件的中央在叠层部件的厚度方向上 贯通叠层部件。
23、 权利要求21或者22所述的啄光装置，上述供给流路以及回 收流路的至少一方被形成为在厚度方向上贯通至少2个板状部件。
24、 一种曝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来膝光基板，该啄光装置包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统； 为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域而向基板上提供液体的液体供给机构，液体供给机构和投影光学系统在振动性上彼此隔离。
25、 权利要求24所述的曝光装置，上述液体供给机构具有设置 在投影上述图案像的投影区域的两侧上的供给口，在上述投影区域的 两侧上同时进行对上述基板上的液体供给。
26、 权利要求25所述的曝光装置，上述基板上的各拍摄区域一 边向规定的扫描方向移动一边被曝光，上述液体供给机构相对于上述 扫描方向从上述投影区域的两侧同时进行上迷液体的供给。
27、 权利要求24所述的曝光装置，还具备回收上述基板上的液 体的液体回收机构，该液体回收机构和上述投影光学系统在振动性上 彼此隔离。
28、 权利要求27所述的啄光装置，上述液体回收机构的回收口 配置成包围上述液体供给机构的供给口 。
29、 权利要求24所述的膝光装置，进一步包括支撑上述投影光 学系统的第1支撑部件；和第1支撑部件在振动性上彼此隔离、支撑 上述液体供给机构的第2支撑部件。
30、 一种膝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上 来啄光基板，该啄光装置包括把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统； 回收提供给包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上的液 体的液体回收机构，液体回收机构和投影光学系统在振动性上彼此隔离。
31、 权利要求30所述的膝光装置，进一步包括支撑上述投影光 学系统的第1支撑部件；和第1支撑部件在振动性上彼此隔离、支撑 上述液体回收机构的第2支撑部件。
32、 权利要求29或31所述的曝光装置，在第1支撑部件和第2 支撑部件之间设置有防振机构。
33、 权利要求29或31所述的曝光装置，进一步包括被上述第l 支撑部件支撑的激光干涉计，该激光干涉计测量保持上述基板且能够 移动的基板载台的位置信息。
34、 权利要求29或31所述的曝光装置，包括支撑保持上述基板 且能够移动的基板载台的基座，上述第2支撑部件和上述基座部件在 振动性上彼此隔离。
35、 一种瀑光装置，隔着液体把规定图案的像投影到基板上且顺 序曝光该基板上的多个拍摄区域，该曝光装置包括把上述图案的像投影到上述基板上的投影光学系统； 为了在包含该投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域，从和上述基板对置配置的供给口供给液体的液体供给机构， 该液体供给机构在进行上述基板上的多个拍摄区域的曝光处理期间从上述供给口连续提供液体。
36、 权利要求35所述的曝光装置，上述液体供给机构具有多个 供给口 。
37、 权利要求36所述的曝光装置，上述供给口被配置在上述投 影区域的两侧。
38、 权利要求35所述的膝光装置， 一边使上述基板在规定方向 上移动一边扫描曝光上述基板上的多个拍摄区域中的一部分拍摄区 域， 一边使上述基板在和上述规定方向相反的方向上移动一边扫描膝 光剩下的拍摄区域。
39、 一种啄光装置，隔着液体把规定图案的像投影到基板上且顺 序曝光该基板上的多个拍摄区域，该膝光装置包括在上述基板上投影上述图案的像的投影光学系统； 为了在包含该投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域，从配置在规定位置上的供给口提供液体的液体供给机构；具有和上述基板对置配置的回收口且回收从上述液体供给机构提供的液体的液体回收机构， 该液体回收机构在进行上述基板上的多个拍摄区域的曝光处理 期间从上述回收口连续回收液体。
40、 权利要求39所述的曝光装置，上述回收口配置成包围上述 投影区域。
41、 权利要求39所述的啄光装置， 一边使上述基板在规定方向 上移动一边扫描曝光上述基板上的多个拍摄区域中的 一部分拍摄区 域， 一边使上述基板在和上述规定方向相反的方向上移动一边扫描曝 光剩下的拍摄区域。
42、 一种器件制造方法，使用权利要求21、 24、 30、 35以及39 的任一项所述的曝光装置。
43、 权利要求1所述的膝光装置，上述液体回收机构具有连续或 不连续地形成为包围上述投影区域的回收口。
44、 权利要求1所述的膝光装置，还包括被配置为包围上述投影 区域并保持上述液体的亲液性下表面。
45、 权利要求44所述的曝光装置，上述亲液性下表面相对于水 平面是倾斜的。
46、 权利要求44所述的曝光装置，上述亲液性下表面对于上述 液体的亲液性大于上述基板的表面。
47、 权利要求46所述的曝光装置，上述基板的表面对于上述液 体是防水性的。
48、 权利要求1所述的曝光装置，在上述液体的回收的同时，上 述液体供给机构向上述基板上供给上述液体。
49、 权利要求48所述的曝光装置，上述液体供给机构根据要执 行的动作来改变上述液体的供给量。
50、 权利要求49所述的曝光装置， 一边移动上迷基板一边扫描 曝光上述基板上的各个拍摄区域，上述液体供给机构被操作使得液体 的供给量在上述基板上的2个拍摄区域之间的步进移动期间和各拍摄 区域的曝光期间彼此不同。
51、 权利要求1所述的膝光装置，上述液体供给机构具有供给口 ， 上述液体回收机构具有回收口 ，上述供给口离开上述基板的表面的距 离与上述回收口离开上述基板的表面的距离不同。
全文摘要
曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
文档编号G03F7/20GK101354540SQ20081016095
公开日2009年1月28日 申请日期2004年2月26日 优先权日2003年2月26日
发明者长坂博之 申请人:株式会社尼康