技术编号：2817750
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻装置和一种器件制造方法。 背景技术光刻装置是将所需图案应用于基底上通常是基底靶部上的一种 装置。光刻装置是可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况 下，构图部件或者可称为掩模或中间掩模版，它可用于产生形成在 IC的一个单独层上的电路图案。该图案可以被传递到基底(例如硅 晶片)的靶部上(例如包括一部分， 一个或者多个管芯)。通常这种 图案的传递是通过成像在涂敷于基底的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。 一般地，单一的基底将包含相继构图的相邻...
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