技术编号:2817820
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抗蚀剂添加剂及包含该抗蚀剂添加剂的抗蚀剂组合物,该添加剂可以通过增加抗蚀剂膜表面的疏水性来抑制在浸没式光刻工艺时被水引起浸出,并且可以形成具有优异的敏感度和分辨率的抗蚀剂微图案。背景技术随着近来大规模集成电路(LSI)的高集成化和处理速度提高的趋势,需要精细地制造光致抗蚀剂图案。作为在形成抗蚀剂图案时所用的曝光光源,已主要使用汞灯的g_线(436nm)或 i_ 线(365nm)等。然而,由于通过曝光波长获得的分辨率增加基本接近极限,所以已建议使得...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。