技术编号:28366732
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及旋转靶材加工领域,具体涉及一种制备旋转靶材生胚的冷等静压成型模具。背景技术.镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源,常用于半导体加工等行业。旋转靶材作为一种靶材,呈圆筒状,常用在磁控溅射镀膜工艺中。制作旋转靶材,要对原材料进行研磨、造粒等前处理得到待成型粉料,把这些粉料装入到外模为软性胶套而内膜为刚性金属模芯的具有圆筒状模腔的成型模具中。装粉完成后,对模具连同其内的粉料一并进行冷等静压介质压制,就成型得到了旋...
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