技术编号：2849906
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种等离子体刻蚀装置，包括工艺腔；位于所述工艺腔内的第一电极、第二电极，第一电极与第二电极相对放置，所述第一电极包括至少两块极板；激励射频单元，激励射频单元的数目与极板的数目相等，各个极板与各个激励射频单元一对一电连接，所述激励射频单元用于通过第一电极的各个极板向工艺腔内的刻蚀气体提供激励能量。通过设置所述各个激励射频单元的输出频率不同，或所述各个激励射频单元的发射射频之间存在相位差，或者发射射频的频率、相位均不同，该装置可以避免工艺腔内的电磁波发生相向传...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。