技术编号：2852253
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种用于使用了电子束的显微镜或者分析装置的试样加热架、以及使用了该试样加热架的试样加热方法，所述试样加热架不需要进行超高真空化，能在不导致试样表面的破坏的情况下稳定地防止试样表面的污染。该用于使用了电子束的显微镜或者分析装置的试样加热架，对于观察和分析期间的碳污染的生长和热漂移的抑制能力优异，其特征在于，具备正温度系数（PTC）热敏电阻作为发热体。专利说明用于使用了电子束的显微镜或者分析装置的试样加热架、以及使用了该试样加热架的试样加热方法[00...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。