技术编号：2880440
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种用于磁控溅射机台的新型RF屏蔽罩，所述的RF屏蔽罩安装在RF腔体内，包括安装在腔体盖子下方的顶部离子密封屏蔽罩和上阳极屏蔽罩，顶部离子密封屏蔽罩下方对应设有底部离子密封屏蔽罩，底部离子密封屏蔽罩上还设有陶瓷放置环和陶瓷环及陶瓷压环，顶部离子密封屏蔽罩的罩顶及上阳极屏蔽罩均为圆形，材质为钼金属，内表面均设有正方形突起。本实用新型能够增强RF屏蔽罩吸附有机物的能力，防止因最外层的有机物剥落而掉落在wafer表面，造成产品的不良。专利说明一种用...
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