技术编号：2898696
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种等离子体处理装置，特别是在半导体晶圆片等被处理基板上实施蚀刻等等离子体处理的等离子体处理装置。背景技术 目前，在半导体装置的制造领域中，使处理室内产生等离子体，将该等离子体作用于配置在处理室内的被处理基板(例如，半导体晶圆片等)上，并进行规定处理(例如蚀刻、成膜等)的等离子体处理装置得到了应用。在这种等离子体装置上，要进行良好的处理，必需将等离子体的状态维持在适于进行等离子体处理的良好状态下。因此，目前，具备形成用于控制等离子体的磁场的磁场形...
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