技术编号：2907457
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，尤其的涉及离子注入机，属于半导体器件制造设备领域。背景技术在半导体制造工艺设备离子注入机中，离子束从离子源引出后，由于离子间相互电荷力的作用机离子初始运动方向的不同，导致离子束在传输过程中会发生发散，为了使最终打在靶上的离子束流满足生产的要求，需要对离子束进行聚焦。本专利所涉及的宽带束离子束流宽度超过了 300_，为了满足这么大宽度的束流中离子运动方向的一致性及束流大小的均匀性，本专利设计了一种多电极束流聚焦调节装置，能够对宽带离子束流经过的空...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。