技术编号：2920535
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于例如在半导体晶片等被处理基板上实施等离子体蚀刻等规定处理的等离子体处理装置及聚焦环。背景技术 目前，在半导体装置和LCD的制造工序等中，在半导体晶片或LCD基板等被处理基板上作用等离子体而进行所规定的处理，例如进行成膜处理和蚀刻处理等的等离子体处理。在这样的等离子体处理中，例如在使用了平行平板型蚀刻装置的等离子体蚀刻处理中，将被处理基板搭载在设置于等离子体处理室内的载置台(基座)上，使等离子体在等离子体处理室内产生，使该等离子体作用在被处理基板...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。