技术编号：29273548
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及微纳结构制备领域的一种纳米压印模板，具体是涉及一种非接触式纳米压印印模。背景技术.近年来，纳米压印光刻技术由于其不受传统光学光刻技术中数值孔径、光衍射效应、光波波长等因素的影响，低成本、可以快速大批量转印的优势，在微纳制造领域取得长足发展。.在纳米压印光刻技术中，会使用具有图形结构的印模作为转移图形结构的介质。该印模容易制造、各种印模材料有非常好的表面性能、可重复压印复制性和印模在脱模时的弹性形变性，可以制造nm至》μm的结构。.热压印和紫外纳米压印工艺中，都...
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