技术编号：31363181
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及自动化设备技术领域，具体为一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构。背景技术.在太阳能硅晶片的自动加工设备中，需要对硅片进行清洗，以满足硅片在不同工序之间的操作要求，目前的清洗工作，多为人工将叠在一起的硅片分开，然后再移动到清洗池中清洗，这样浪费大量人工，硅片也会因操作不当，造成损毁的情况。实用新型内容.为解决背景技术提出的上述问题，本实用新型提出一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构。.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种双工位硅片自动清洗工作站的上料结构，包...
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