技术编号：31614021
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及半导体领域，尤其涉及一种显影喷嘴结构。背景技术.显影是用显影液将印版上经过曝光形成的潜影显出来的过程，显影工艺过程包括喷淋显影液、冲洗、烘干等过程。在显影过程中，经过显影液均匀、连续的喷洒，将印版的感光层迅速溶解。.公告号为cnb中国专利公开了一种显影装置，其喷嘴开口为狭缝状的喷出口，喷嘴喷淋时靠近显影液注入口位置的冲击力大，远离注入口位置的冲击力小，难以保证长度方向上喷洒的冲击力的一致性，进而导致基片显影的反应程度不均匀。.因此，有必要开发一种新型喷嘴...
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