技术编号:31723220
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及甲乙硅烷混合气体的纯化和分离技术,特别涉及一种甲硅烷和乙硅烷混合气的纯化分离系统。背景技术.甲、乙硅烷是目前半导体集成电路、光伏、光纤应用最为广泛的硅烷类电子气体产品。乙硅烷在薄膜晶体管液晶显示和芯片制造,以及在晶硅薄膜太阳能电池生产中有着极其重要的作用。作为沉积源时,与相同作用的甲硅烷比,乙硅烷的优点包括沉积速度快、沉积温度要求低,其附加值更高。.传统的甲、乙硅烷生产纯化工艺中采用精馏和冷凝的方法对气体组分进行分离,而在间歇性生产及试验中,单批次反应产气量小,导致精馏稳定...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。