技术编号:31833543
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本公开涉及基板处理装置和基板处理方法。背景技术.专利文献记载的基板处理系统包括:多个清洗装置,其对晶圆供给清洗液并进行清洗处理;以及多个超临界处理装置,其使在清洗处理的晶圆残留的干燥防止用的液体(例如ipa)与超临界状态的处理流体(例如二氧化碳)接触而将该干燥防止用的液体去除。.现有技术文献.专利文献.专利文献:日本特开-号公报发明内容.发明要解决的问题.本公开的一技术方案提供一种提高多个基板处理部依次对基板进行处理的基板处理装置的生产率的技术。.用于解决...
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