技术编号:32312273
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种pvd与ald复合涂层及其制备方法技术领域.本申请涉及原子层沉积领域,更具体地说,它涉及一种pvd与ald复合涂层及其制备方法。背景技术.传统的物理气相沉积方法(pvd)常用于在工件表面沉积所需的涂层从而形成装饰膜,磁控溅射就属于其中一种物理气相沉积方法。.然而,对于结构比较复杂的三维工件,采用磁控溅射沉积法对其表面进行彩色涂层的沉积时,由于磁控溅射的方向是固定的,而三维工件的形状比较复杂且表面凹凸不平,导致三维工件表面不同区域沉积的涂层厚度不同,进而容易导致pvd沉积后三维工件表面产...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。