技术编号:3245468
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及处理气体供给机构及处理气体供给方法、以及具备这 种处理气体供给机构的气体处理装置,其按照对收容在处理容器内的平板显示器(FPD)用的玻璃基板等被处理体实施规定的处理的方式向 处理容器内供给处理气体。背景技术在FPD的制造工艺过程中,为了对作为被处理体的FPD用的玻璃 基板实施蚀刻处理或成膜处理等规定的处理而使用着等离子体蚀刻装 置或等离子体CVD成膜装置等的等离子体处理装置。在等离子体处理 装置中, 一般情况下,玻璃基板是在被载置在处理容器内的载...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。