技术编号:32487870
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及一种半导体加工设备,尤其涉及干法刻蚀机传送装置。背景技术.干法刻蚀(dry etching),也称为干法蚀刻,是利用等离子体进行薄膜刻蚀的工业技术。当气体以等离子体形式存在时,一方面,这些气体化学活性比常态下时要强很多,根据被刻蚀材料的不同,选择合适的气体,就可以更快地与被刻蚀材料进行反应,实现刻蚀材料的目的;另一方面,利用电场对这些气体进行引导和加速,使其具备一定能量,当其轰击被刻蚀材料的表面时,能够将被刻蚀材料表面的原子击出,从而达到利用能量转移来实现刻蚀的目的。目前,干...
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