技术编号：3252988
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及的是一种高真空卷式镀膜机构，尤指一种具可量产化的卷式镀膜机构，在其具有可增加溅镀腔体结构，既有效控制被镀物的张力，并提供在真空状态下对可绕性PET、PVC、CPP基板及织品实施溅镀，得以达到最佳镀膜效果与镀膜质量的目的。背景技术真空溅镀过程是提供基板或是纺织品等基材实施真空溅镀(sputter)，其是通过靶材原子变成离子后直接镀在基材上，形成膜质致密的连续膜，而传统技术上在实施溅镀时基材为呈固定材积实施镀膜作业，其镀膜方式受到设备限制，无法大...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。