技术编号:3253223
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种增强型等离子氧化膜沉积装置腔盖冷却水管道。技术背景增强型等离子氧化膜沉积装置是美国应用材料公司(AMAT)制造的CVD (化学气相沉积)新型装置。其腔盖冷却水管道经常会发生老化及开裂漏 水,而且频率较高,严重的影响了正常的生产和使用。现有的增强型等离子氧化膜沉积装置腔盖冷却水管道结构可参见图1 所示,其包括有腔盖1和腔体2,所述腔盖1扣在所述上腔体2上,在所述 腔盖1上设置有腔盖杆座3,所述腔体2上设置有腔体杆座5,所述腔盖杆 座3与所述...
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