技术编号:3265242
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空电镀领域,特别涉及一种低温真空镀膜装置。背景技术常见的真空电镀,被镀的产品一般都是金属制品,因为在真空电镀条件下,温度都比较高,传统的溅射镀膜也必须在高温条件下形成较密的膜 层,塑料制品等不能耐受高温,否则将引起产品变形。实用新型内容为解决前述存在的问题,本实用新型提供一种低温真空镀膜装置,该装置一真空镀膜腔体与过滤阴极离子真空镀膜源连接,真空镀膜腔体设有分子真空泵,并在真空镀膜腔体设有离子束清洗源,清洗被镀工件,真空镀膜腔体温度低于80...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。