专利名称：低温真空镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及真空电镀领域，特别涉及一种低温真空镀膜装置。
背景技术：
常见的真空电镀，被镀的产品一般都是金属制品，因为在真空电镀条件下，温度都比较高，传统的溅射镀膜也必须在高温条件下形成较密的膜 层，塑料制品等不能耐受高温，否则将引起产品变形。
实用新型内容为解决前述存在的问题，本实用新型提供一种低温真空镀膜装置，该装置一真空镀膜腔体与过滤阴极离子真空镀膜源连接，真空镀膜腔体设有分子真空泵，并在真空镀膜腔体设有离子束清洗源，清洗被镀工件，真空镀膜腔体温度低于80°C，被镀工件放置于真空镀膜腔体内，用过滤阴极离子真空镀膜源对其镀膜，膜源的粒子方向是可调整的，可从不同的角度对被镀工件进行镀膜。被镀工件是金属制品、或是非金属制品、或是塑料制品、或是橡胶制品。本实用新型的优点是，被镀工件即使在小于80°C温度条件下，仍有足够的镀层厚度，而且耐磨、耐腐蚀，并且能够镀制小型、细薄的塑料制品而不使产品变形，特别适用于某些精细加工行业。
附图I是本实用新型主视图；附图2是附图I的侧视图。
具体实施方式
请参阅附图1、2所示，本实用新型是一真空镀膜腔体3与过滤阴极离子真空镀膜源I连接，真空镀膜腔体3设有分子真空泵4，并在真空镀膜腔体3设有离子束清洗源，清洗被镀工件，真空镀膜腔体3温度低于80°C，被镀工件塑料制品，或橡胶制品放置于真空镀膜腔体3内，用过滤阴极离子真空镀膜源I对其镀膜，膜源I经过滤器2后的粒子方向能够调整，可以从不同的角度对被镀工件进行镀膜。本实用新型的过滤阴极离子真空镀膜源I是申请人的专利，属现有技术。
权利要求1.一种低温真空镀膜装置，其特征在于，一真空镀膜腔体与过滤阴极离子真空镀膜源连接，真空镀膜腔体设有分子真空泵，并在真空镀膜腔体设有离子束清洗源，清洗被镀工件，真空镀膜腔体温度低于80°C，被镀工件放置于真空镀膜腔体内，用过滤阴极离子真空镀膜源从不同的角度对被镀工件进行镀膜。
2.按权利I所述低温真空镀膜装置，其特征在于，所述被镀工件是金属制品、或是非金属制品、或是塑料制品、或是橡胶制品。
专利摘要本实用新型公开一种低温真空镀膜装置，该装置一真空镀膜腔体与过滤阴极离子真空镀膜源连接，真空镀膜腔体设有分子真空泵，并在真空镀膜腔体设有离子束清洗源，清洗被镀工件，真空镀膜腔体温度低于800C，被镀工件塑料制品，或橡胶制品放置于真空镀膜腔体内，用过滤阴极离子真空镀膜源对其镀膜，膜源的粒子方向能调整，可从不同角度对准被镀工件进行镀膜。本实用新型的优点是被镀工件即使在小于800C温度条件下，仍有足够的镀层厚度，而且耐磨、耐腐蚀，并且能够镀制小型、细薄的塑料制品而不使产品变形，特别适用于某些精细加工行业。
文档编号C23C14/22GK202465853SQ20122002657
公开日2012年10月3日 申请日期2012年1月20日 优先权日2012年1月20日
发明者史旭 申请人:纳峰真空镀膜(上海)有限公司