专利名称：一种真空镀膜系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空镀膜系统，尤其是一种适用于大批量生产的自动镀膜系统。
背景技术：
大批量的真空镀膜应用越来越普遍，为了提高生产效率，镀膜系统已经出现了许多连续方式的生产设备，但目前这种设备多适用于平板型工件或带状工件，如中国专利CN94219770.4就公开了一种卧式圆筒型镀膜仓的真空镀膜机，可对平板玻璃和不锈钢等基体镀膜，但这种真空镀膜机主要应用于大量平板型的基体；而目前现有技术中大量的立体工件的镀膜大都采用了单机工作模式和单个镀膜仓/腔体。其工艺流程是装入工件后关闭镀膜仓、排气至低真空以便启动高真空排气系统并排气至高真空，再充入工作气体进行镀膜；镀膜完成后向腔体内充气至一个大气压后再开门取出工件，如此循环。该工艺流程存在的明显缺陷是在镀膜仓体内从大气至高真空的不断循环带来沉重的排气负担，费时、费力和动力消耗大等问题带来了高成本和低工效，而且充入大气时带来污染及靶材的氧化等问题，还会使工件膜层质量下降，明显不适应大批量生产需要。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是克服上述现有技术缺陷，提供一种可省时、省力、减少动力消耗和大气污染的镀膜系统。本实用新型的另一个目的在于提供一种可保持一定真空度的连续方式的真空镀膜系统。
本实用新型提供了一种真空镀膜系统，其中设置一个或多个固定式镀膜仓和移动式切换仓，切换仓可选择性移动至各个镀膜仓上方，并且切换仓及镀膜仓上设有相匹配的对接口，实现切换仓与镀膜仓的对接。镀膜仓最好为两个或两个以上，并设有与其相连接的满足真空镀膜要求的高真空排气装置。切换仓连接一真空排气装置，该真空排气装置可将切换仓和与其对接的镀膜仓一起排气至真空度为0.1～20Pa范围内，对于特殊应用也可排气至更高真空度。
切换仓的个数可根据实际需要设置，通常为一个。在切换仓中设有两个可放置工件架的工位I和工位II，并设置一移动换位机构来实现工位I和工位II相互换位。
所述镀膜仓优选采用环形或直线形布局定位。在所述的镀膜仓靠近对接口处设有上盖板。
利用本实用新型的上述装置，可以实现镀膜过程与工件的放(装炉)及取(出炉)过程相分离，即通过移动式切换仓，可在镀膜仓镀膜期间，脱离镀膜仓，轮流完成工件从待镀膜工件平台到镀膜仓的转移或者从镀膜仓到镀膜成品平台的转移，并完成启动镀膜仓高真空排气之前所必须的低真空排气或者从镀膜仓到镀膜成品平台转移所必要的充气。
由于采用上述的技术方案，本实用新型具有以下的有益效果适于大批量生产；避免镀膜仓从大气压至高真空不断循环带来的排气负担和污染；提高生产效率；降低成本。
图1是本实用新型真空镀膜系统主体结构示意图；图2是本实用新型的切换仓及镀膜仓结构示意图。
其中，1-装卡有工件的工件架，2-切换仓，3-镀膜仓，4-切换仓内工位I，5-对接机构，6-低真空排气装置，7-高真空排气装置，8-切换仓内的工位II，9-配重或起重装置，10-切换舱内的移动换位机构，11-切换仓的对接口，12-镀膜仓的对接口，13-上盖板。
具体实施方式
以下结合附图以太阳能集热管沉积AlN薄膜为例，对本实用新型的实施进行进一步说明如图1和图2所示，开始先将装卡有工件的工件架1首先置于切换仓2内的工位I(罗马数字1)4，移动切换仓2并利用对接机构5使移动切换仓2的对接口11与镀膜仓3的对接口12相对接，并将工件架1及其上部连接的密封上盖板13装入镀膜仓3内，配重9设在切换仓2的另一侧以平衡切换仓2的重量使切换仓逥转平稳，配重9也可设置为起吊装置用于设备部件的起吊检修。利用与切换仓2相连接的真空排气装置6将切换仓连同镀膜仓3一起排气至真空0.1Pa～20Pa范围内。上盖板启动镀膜仓3的高真空排气装置7，排气至镀膜过程所需的高真空度，并使工件架1上固定的工件在镀膜仓中进行镀膜；同时，将切换仓2充气至大气压并与镀膜仓3的对接口(即所述的对接口11和12)脱开，然后移动至工件架取放位置，再在工位I装上新的工件架及其工件和上盖板13，然后将切换仓逥转至镀膜仓3的上方，利用切换仓中的移动换位机构10，使工位II与镀膜仓3对接，并排气至低真空。
当镀膜仓3完成镀膜后，充入氩气(Ar)至50Pa～100Pa范围，打开镀膜仓3的上盖板13，并利用切换仓的工位II将镀膜仓3内完成了镀膜的工件架取出，然后在切换仓2内将载有完成了镀膜的工件架的工位II与载有新工件架的工位I互相换位，并与镀膜仓3第二轮对接，再将新工件架1装入镀膜仓3内，利用与切换仓2相连接的低真空排气装置6将切换仓2连同镀膜仓3一起排气至低真空；第二次启动镀膜仓3的高真空排气装置7，关紧上盖板、排气至高真空后对新工件进行镀膜等，重复上述第一轮的操作过程；切换仓2再次充气至大气压并移动至工件架取、放位置，取下第二次已完成镀膜的工件及其工件架1，再装上新的工件架及其工件，可将切换仓2移动至镀膜仓B，重复上述镀膜仓A的工作过程，其它镀膜仓C、D、E、F等也是利用切换仓如此循环，从而可以使各个镀膜仓能同时很少间断地进行大批量镀膜生产。利用本实用新型的上述装置，可以实现镀膜过程与工件的放、取过程相分离，全面完成每个镀膜仓全部工件的取、放和取、放期间内低真空与大气之间的排气和充气过程，从而可以大幅度地增加多个镀膜仓同时进行镀膜工作时间。
最后应说明的是以上实施例只是用以说明本实用新型而并非限制本实用新型所描述的技术方案；因此，尽管本说明书参照上述的各个实施例对本实用新型已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本实用新型进行修改或等同替换；而一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围中。
权利要求1.一种真空镀膜系统，其特征在于在真空镀膜系统中设置固定式镀膜仓和移动式切换仓，切换仓可移动至镀膜仓上方，并且切换仓及镀膜仓上设有相匹配的对接口，实现切换仓与镀膜仓的对接。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于在切换仓中设有两个可放置工件架的工位I和工位II，并设置一移动换位机构来实现工位I和工位II相互换位。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于所述镀膜仓设有与其相连接的高真空排气装置。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于切换仓连接真空排气装置。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于所述固定式镀膜仓为两个或两个以上。
6.根据权利要求5所述的真空镀膜系统，其特征在于所述镀膜仓采用环形或直线形布局。
7.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于在所述的镀膜工件架的顶部连接一密封盖板上盖板。
8.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于所述的切换仓至少为一个。
9.根据权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于该系统采用PLC或计算机自动控制。
专利摘要本实用新型公开了一种真空镀膜系统，其中包括一个移动式切换仓、两个或两个以上的镀膜仓、镀膜仓的高真空排气装置、切换仓的真空排气装置，移动式切换仓可分别与各个镀膜仓对接；镀膜仓和切换仓分别设有相互匹配的对接口；在切换仓内设有两个可放置工件架的工位，并以一移动换位机构连接。采用本实用新型具有以下的有益效果适于大批量生产；避免镀膜仓从大气压至高真空不断循环带来的排气负担和污染；提高生产效率；降低成本。
文档编号C23C14/22GK2832828SQ20052013017
公开日2006年11月1日 申请日期2005年10月27日 优先权日2005年10月27日
发明者刘阳 申请人:北京实力源科技开发有限责任公司, 刘阳