专利名称：一种手机和真空镀膜制作方法
技术领域：
本发明涉及塑胶基材的产品外壳及其表面处理工艺领域，尤其涉及的是一种设置在塑胶手机外壳表面可替代光学镀膜效果、生产成本低、生产周期短的真空镀膜及其制作方法。
背景技术：
随着手机的普及和发展，用户对手机的外观要求也呈现出多元化的趋势，例如，要具有若隐若现的彩色细花纹、类似水晶或光学玻璃材质的视觉效果，又如，要可折射出美丽的细花纹、类似光滑陶瓷表面的外观效果，进而使产品外观更加美观精致。
传统装饰所采用的喷涂工艺或真空镀工艺都难以在塑胶的手机外壳上达到上述更加精致美丽的外观效果，而现有技术中只有光学镀工艺，即在手机外壳表面镀上一层光学镀膜材料，可达到上述更加精致美丽的外观效果。但是，现有光学镀工艺复杂、周期长，效率低，设备昂贵，成本高。因此，现有技术尚有待改进和发展。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明提供一种手机塑胶外壳真空镀膜制作方法，可使手机外壳的装饰达到光学镀膜的外观效果。同时，本发明还提供一种外观装饰效果精美的手机，生产成本低，生产周期短。本发明的技术方案如下一种真空镀膜制作方法，包括以下步骤
A、利用真空蒸镀设备在塑胶基材的产品外壳表面蒸镀一层二氧化硅镀膜；
B、利用所述真空蒸镀设备在所述二氧化硅镀膜上蒸镀一层二氧化钛镀膜。所述的真空镀膜制作方法，其中在所述步骤A之前，先将所述真空蒸镀设备的炉内环境抽至真空度为
'X I Cf3 S..>. 10" 的真空。所述的真空镀膜制作方法，其中在所述步骤A中，将氧化硅的镀膜材料放置在第一电极上，通入氧气，所述第一电极在K Kr-1,46 λ. KrPa的氧气压力环境下通电升温至 170(T2(KKrC。所述的真空镀膜制作方法，其中在所述步骤B中，将五氧化三钛的镀膜材料放置第二电极上，通入氧气，所述第二电极在2.6 XIii2Pa的氧气压力环境下通电升温至200(r2200°C。—种手机，包括塑胶基材的手机外壳，其中所述手机外壳的表面设置有一层二氧化硅镀膜和一层二氧化钛镀膜，所述二氧化钛镀膜位于所述二氧化硅镀膜的外层。所述的手机，其中所述二氧化硅镀膜与所述手机外壳的塑料基材之间设置有一层UV下涂层，所述UV下涂层由5 20%的聚氨酯丙烯酸树脂、10 30%的甲基异丁基酮、5 15%的丙二醇甲醚、10 30%的醋酸乙酯、15 25%的醋酸丁酯、10 20%的甲苯、5 20%的活性单体和I 10%的光引发剂组成。所述的手机，其中在所述二氧化钛镀膜表面设置有一层中涂层，所述中涂层由10 15%的聚氨酯丙烯酸树脂、20 30%的甲基异丁酮、15 20%的丙烯酸酯树脂、15 20%的醋酸丁酯、15 20%的丁酮、I 2%的光引发剂和3 5%的活性单体组成。所述的手机，其中在所述中涂层表面设置有一层UV上涂层，所述UV上涂层由10 15%的聚氨酯丙烯酸树脂、10 15%的甲基异丁酮、15 20%的丙烯酸酯树脂、15 20%的丁酮、15 20%的醋酸丁酯、10 15%的甲苯、I 2%的光引发剂和3 5%的活性单体组成。所述的手机，其中所述活性单体采用硅烷偶联剂制作，所述硅烷偶联剂的通用式
为Y(CH:)nSiX3,其中，η = O 3，X表示包括氯基、甲氧基、乙氧基、甲氧基乙氧基或乙 酰氧基在内的可水解基团，Y表示包括乙烯基、氨基、环氧基、甲基丙烯酰氧基、巯基或脲基在内能与树脂起反应的有机官能团。本发明所提供的一种手机和真空镀膜制作方法，由于采用了先蒸镀二氧化硅后蒸镀二氧化钛的二次真空镀工艺，使得塑胶产品外壳的装饰达到了光学镀膜的精美外观效果；而与现有光学镀膜的生产工艺相比，本发明的两层真空镀膜却无需价格昂贵的光学镀膜设备，由此大大降低了生产成本，同时本发明的两层真空镀膜也无需五次的光学镀膜流程，进而大大缩短了生产周期，此外现有真空镀膜设备每炉装炉的产品数量更多，产出率会更高。
图I是本发明真空镀膜制作方法的流程图。
具体实施例方式以下将结合附图，对本发明的具体实施方式
和实施例加以详细说明，所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并非用于限定本发明的具体实施方式
。如图I所示，图I是本发明真空镀膜制作方法的流程图，具体包括以下步骤
步骤S110、准备好待真空镀的产品外壳，以手机为例，手机外壳的塑料基材包括但不限
于PC、ABS、PC+ABS或PMMA (聚甲基丙烯酸甲酯，俗称亚克力或者亚加力，其实就是有机玻璃)；
步骤S120、在真空镀之前，先在所述手机外壳的塑料基材表面设置一层UV下涂层，以提高蒸镀的外观效果；所述UV下涂层可由5 20%的聚氨酯丙烯酸树脂、10 30%的甲基异丁基酮、5 15%的丙二醇甲醚、10 30%的醋酸乙酯、15 25%的醋酸丁酯、10 20%的甲苯、5 20%的活性单体和I 10%的光引发剂组成；
步骤S130、利用真空蒸镀设备在塑胶基材的手机外壳表面蒸镀一层二氧化硅镀膜，在
此步骤之前可先将所述真空蒸镀设备的炉内环境抽至真空度为-X Icr3-S ' ICr3Pa的真
空，以提高气体环境的纯度；然后进行第一次真空镀，此过程中需将氧化硅的镀膜材料放置
在第一电极上，通入氧气，所述第一电极在2.6_ > Κ；Γ - 5.46X l(r2Pa的压力环境下通电升温至170(Γ2(ΚΚ) V，氧化硅蒸发气化后被氧气氧化成二氧化硅，并凝结在手机外壳表面形成二氧化硅镀膜；再进行第二次真空镀，在所述二氧化硅镀膜上再蒸镀一层二氧化钛镀膜，此过程中需将五氧化三钛的镀膜材料放置第二电极上，并同样通入氧气，所述第二电极在
2.6" X. Hf2^ 3.46X 10"2Pa的氧气压力环境下通电升温至200(T2200°C,五氧化三钛蒸发
气化后被氧气氧化成二氧化钛，并凝结在二氧化硅镀膜表面形成二氧化钛镀膜；
步骤S140、可在所述二氧化钛镀膜表面设置一层中涂层，以提高蒸镀的外观效果；所述中涂层可由10 15%的聚氨酯丙烯酸树脂、20 30%的甲基异丁酮、15 20%的丙烯酸酯树脂、15 20%的醋酸丁酯、15 20%的丁酮、I 2%的光引发剂和3 5%的活性单体组成；
步骤S150、最后还可在所述中涂层表面设置有一层UV上涂层，以保护真空镀膜，并进一步提高蒸镀的外观效果；所述UV上涂层可由10 15%的聚氨酯丙烯酸树脂、10 15%的甲基异丁酮、15 20%的丙烯酸酯树脂、15 20%的丁酮、15 20%的醋酸丁酯、10 15% 的甲苯、I 2%的光引发剂和3 5%的活性单体组成。基于上述真空镀膜制作方法，本发明还提出一种手机，包括塑胶基材的手机外壳，其中，所述手机外壳的表面设置有一层二氧化硅镀膜和一层二氧化钛镀膜，所述二氧化钛镀膜位于所述二氧化硅镀膜的外层，所述二氧化硅镀膜和所述二氧化钛镀膜通过真空蒸镀设备采用双电极镀的方法实施，且可在所述二氧化硅镀膜与所述手机外壳的塑料基材之间设置有一层所述UV下涂层，也可在所述二氧化钛镀膜表面设置有一层所述中涂层和一层所述UV上涂层。在本发明手机和真空镀膜制作方法的优选实施方式中，所述活性单体可采用硅烷偶联剂制作，以提高真空镀膜层与涂料层之间的附着力；所述硅烷偶联剂的通用式为Y(CH2)nSiX3,其中，η = O 3，X表示包括氯基、甲氧基、乙氧基、甲氧基乙氧基或乙酰
氧基在内的可水解基团，Y表不包括乙稀基、氣基、环氧基、甲基丙稀酸氧基、疏基或服基在内能与树脂起反应的有机官能团。此外，所述光引发剂为本领域技术人员所熟知，是一类能在紫外光区(250 420nm)或可见光区(400 800nm)吸收一定波长的能量，产生自由基、阳离子等，从而引发单体聚合交联固化的化合物，在此不再赘述。生产实践的结果表明，现有的光学镀膜设备价格较高，每炉可装产品数量为150件，需5次镀膜过程，耗时约50分钟；而现有的真空镀膜设备价格一般，可装产品数量为280件，制作本发明的真空镀膜只需2次镀膜过程，耗时约20分钟。而且本发明的两层真空蒸镀镀膜也确实实现了与现有光学镀膜同等的表面光滑陶瓷感觉，同样具有折射美丽细花纹的外观效果。应当理解的是，以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不足以限制本发明的技术方案，对本领域普通技术人员来说，在本发明的精神和原则之内，可以根据上述说明加以增减、替换、变换或改进，而所有这些增减、替换、变换或改进后的技术方案，都应属于本发明所附权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种真空镀膜制作方法，其特征在于，包括以下步骤 A、利用真空蒸镀设备在塑胶基材的产品外壳表面蒸镀一层二氧化硅镀膜； B、利用所述真空蒸镀设备在所述二氧化硅镀膜上蒸镀一层二氧化钛镀膜。
2.根据权利要求I所述的真空镀膜制作方法，其特征在于在所述步骤A之前，先将所述真空蒸镀设备的炉内环境抽至真空度为^ '>； ICT1 .S X Kf3Pa 的真空。
3.根据权利要求I所述的真空镀膜制作方法，其特征在于在所述步骤A中，将氧化硅的镀膜材料放置在第一电极上，通入氧气，所述第一电极在:￡"+ X ICT'、3,46 X IO"'Pa的氧气压力环境下通电升温至170(T200(TC。
4.根据权利要求I所述的真空镀膜制作方法，其特征在于在所述步骤B中，将五氧化三钛的镀膜材料放置第二电极上，通入氧气，所述第二电极在2,6了+X IO'2 3M >.: 10'Ta的氧气压力环境下通电升温至200(Γ2200 。
5.—种手机,包括塑胶基材的手机外壳,其特征在于所述手机外壳的表面设置有一层二氧化硅镀膜和一层二氧化钛镀膜，所述二氧化钛镀膜位于所述二氧化硅镀膜的外层。
6.根据权利要求5所述的手机，其特征在于所述二氧化硅镀膜与所述手机外壳的塑料基材之间设置有一层UV下涂层，所述UV下涂层由5 20%的聚氨酯丙烯酸树脂、10 30%的甲基异丁基酮、5 15%的丙二醇甲醚、10 30%的醋酸乙酯、15 25%的醋酸丁酯、10 20%的甲苯、5 20%的活性单体和I 10%的光引发剂组成。
7.根据权利要求5所述的手机，其特征在于在所述二氧化钛镀膜表面设置有一层中涂层，所述中涂层由10 15%的聚氨酯丙烯酸树脂、20 30%的甲基异丁酮、15 20%的丙烯酸酯树脂、15 20%的醋酸丁酯、15 20%的丁酮、I 2%的光引发剂和3 5%的活性单体组成。
8.根据权利要求7所述的手机，其特征在于在所述中涂层表面设置有一层UV上涂层，所述UV上涂层由10 15%的聚氨酯丙烯酸树脂、10 15%的甲基异丁酮、15 20%的丙烯酸酯树脂、15 20%的丁酮、15 20%的醋酸丁酯、10 15%的甲苯、I 2%的光引发剂和3 5%的活性单体组成。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的手机，其特征在于所述活性单体采用硅烷偶联剂制作，所述硅烷偶联剂的通用式为Υ_Χ : USiX;,其中，η = O 3，Χ表示包括氯基、甲氧基、乙氧基、甲氧基乙氧基或乙酰氧基在内的可水解基团，Y表示包括乙烯基、氨基、环氧基、甲基丙稀酸氧基、疏基或服基在内能与树脂起反应的有机官能团。
全文摘要
本发明公开了一种手机和真空镀膜制作方法，该方法包括利用真空蒸镀设备在塑胶基材的手机外壳表面蒸镀一层二氧化硅镀膜，然后再在所述二氧化硅镀膜上蒸镀一层二氧化钛镀膜。由于采用了先蒸镀二氧化硅后蒸镀二氧化钛的二次真空镀工艺，使得塑胶手机外壳的装饰达到了光学镀膜的精美外观效果；与现有的光学镀膜工艺相比，本发明的两层真空镀膜并不需要价值高昂的光学镀膜设备，由此大大降低了生产成本，同时本发明的两层真空镀膜也不需要五次以上的光学镀膜过程，从而大大缩短了生产周期，而且现有的真空镀膜设备每炉装炉的产品数量更多，产出率也更高。
文档编号H04M1/02GK102816993SQ201210304539
公开日2012年12月12日 申请日期2012年8月24日 优先权日2012年8月24日
发明者小林千秋, 中村段次, 廖肇敏, 黄锡锋 申请人:捷荣模具工业(东莞)有限公司