技术编号:3265364
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种磁控镀膜机解除靶中毒装置[0001]本实用新型涉及机械生产设备,具体涉及一种磁控镀膜机解除靶中毒装置。技术背景[0002]磁控靶中毒长期存在于磁控镀膜工艺中,其成因包括正离子堆积——靶中毒时,靶面形成一层绝缘膜,正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡,不能直接进入阴极靶面,而是堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电打弧,使阴极溅射无法进行下去。阳极消失——靶中毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。发明内容[00...
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