技术编号:3266622
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种真空镀膜设备的基片架,尤其涉及一种可实现自动翻转的基片架。背景技术真空镀膜设备根据其镀膜原理及形式的不同,主要分为物理气相沉积设备及化学气相沉积设备。其中真空溅射镀膜设备和真空蒸发镀膜设备是最为常见、应用最广的镀膜设备。在镀膜设备(无论是真空溅射镀膜设备还是真空蒸发镀膜设备)各部分结构中,基片架的结构是最为重要的。它是被镀产品——基片安装、固定的机构,基片架结构设计的 合理性直接关系到镀膜的效果和质量。由于溅射镀膜和蒸发镀膜绕射性差(即基...
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