专利名称：可实现自动翻转的基片架的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空镀膜设备的基片架，尤其涉及一种可实现自动翻转的基片架。
背景技术：
真空镀膜设备根据其镀膜原理及形式的不同，主要分为物理气相沉积设备及化学气相沉积设备。其中真空溅射镀膜设备和真空蒸发镀膜设备是最为常见、应用最广的镀膜设备。在镀膜设备(无论是真空溅射镀膜设备还是真空蒸发镀膜设备)各部分结构中，基片架的结构是最为重要的。它是被镀产品——基片安装、固定的机构，基片架结构设计的 合理性直接关系到镀膜的效果和质量。由于溅射镀膜和蒸发镀膜绕射性差(即基片面对镀膜材料的一面可以沉积上薄膜而背对膜材的一面却不能沉积上薄膜)，而更多的产品例如精密天文望远镜镜片、晶体膜厚测控仪晶振片等都要求在基片两面上沉积一种或几种相同或不同的薄膜。采用现有技术中的基片架结构，就只能在完成基片一面的镀膜工作后打开真空室，换成另一面进行镀膜，不但影响了工作效率，而且损害了镀膜质量。
发明内容本实用新型的目的是提供一种可实现自动翻转的基片架，该基片架能实现在镀膜工艺过程中基片的自由翻转，使基片的两个表面在一次镀膜工艺过程中都能均匀、牢固地沉积上薄膜。本实用新型的目的是通过以下方案实现的本实用新型的可实现自动翻转的基片架，基片架包括基片卡具，所述基片卡具通过回转轴安装在支座上，所述回转轴的后端设有棘轮，所述支座固定在镀膜设备的旋转机构上；与所述棘轮对应的部位设有棘爪，所述棘爪连接有升降装置；当所述棘爪上升时，所述棘爪与棘轮啮合；当所述棘爪下降时,所述棘爪与棘轮分离。由上述本实用新型提供的技术方案可以看出，本实用新型实施例提供的可实现自动翻转的基片架，由于基片卡具通过回转轴安装在支座上，回转轴的后端设有棘轮，与棘轮对应的部位设有棘爪，棘爪连接有升降装置；当棘爪上升时，棘爪与棘轮啮合；当棘爪下降时，棘爪与棘轮分离。通过棘轮-棘爪机构可以在镀膜过程中实现基片的自由翻转，克服真空溅射镀膜设备和真空蒸发镀膜设备绕射性差的特点，使基片的两个表面在一次镀膜工艺过程中都能均匀、牢固的沉积上薄膜，以达到完成工艺要求、保证镀膜质量同时提高工作效率的目的。
图I为本实用新型实施例提供的可实现自动翻转的基片架的结构示意图；图2为本实用新型实施例中基片架与棘轮的结构示意图；图3为本实用新型实施例中棘爪-棘轮的状态示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型实施例作进一步地详细描述。本实用新型的可实现自动翻转的基片架，其较佳的具体实施方式
是基片架包括基片卡具，所述基片卡具通过回转轴安装在支座上，所述回转轴的后端设有棘轮，所述支座固定在镀膜设备的旋转机构上；与所述棘轮对应的部位设有棘爪，所述棘爪连接有升降装置；当所述棘爪上升时，所述棘爪与棘轮啮合；当所述棘爪下降时,所述棘爪与棘轮分离。所述升降装置包括气缸，也可以采用直线电机或其它的升降装置。所述棘爪和棘轮的材料选择40Cr。本实用新型可以在保证镀膜质量同时实现自动翻转的基片架，使基片两面的镀膜在一次镀膜工作中完成，提高工作效率。具体实施例如图I、图2所示，基片架包括基片卡具2，基片卡具2通过回转轴5安装在支座3上，回转轴的后端设有棘轮4，支座3固定在镀膜设备的旋转机构6上。基片I是镀膜材料沉积的区域，为最终的产品，其安装、固定在基片卡具2上。可以通过棘轮4的旋转来带动基片架的自由翻转，棘爪7与棘轮4啮合，是基片架实现自动翻转的动力装置，棘爪7连接有升降装置，本实施例中采用的是气缸8，通过气缸杆的伸缩运功带动棘爪7的升降，使棘爪7与棘轮4啮合或分离，来提供或消除基片架自动翻转的动力。具体工作的过程是如图3所示，当基片I装入基片架后，开启旋转机构6，进行基片I的一个表面的镀膜工作，完成后气缸杆自动收缩带动棘爪7上升与棘轮4啮合71，在旋转机构6旋转过程中，棘爪7便可以带动棘轮4旋转，提供基片架翻转动力，使基片架自动翻转；当基片I全部完成翻转后，气缸杆自动拉伸，带动棘爪7下降与棘轮4脱离72，使基片架停止翻转，然后进行基片I另一表面的镀膜工作。本实用新型可根据真空镀膜设备的具体尺寸及基片架的具体数量来实际设计棘爪的尺寸。在本实用新型中，通过棘爪与棘轮的准确设计保证了棘爪与棘轮啮合良好，尤其通过设计确保了棘爪能够通过棘轮旋转带动了基片架翻转到位及时、准确。避免出现了棘爪卡住棘轮或是翻转不到位的现象。具体实施例中，在一些关键部件的选材上，如棘爪、棘轮，材料选择了 40Cr，并进行了表面热处理工艺，具有较高的硬度及较强的耐磨性。以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵 盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。
权利要求1.一种可实现自动翻转的基片架，其特征在于，基片架包括基片卡具，所述基片卡具通过回转轴安装在支座上，所述回转轴的后端设有棘轮，所述支座固定在镀膜设备的旋转机构上； 与所述棘轮对应的部位设有棘爪，所述棘爪连接有升降装置； 当所述棘爪上升时，所述棘爪与棘轮啮合；当所述棘爪下降时，所述棘爪与棘轮分离。
2.根据权利要求I所述的可实现自动翻转的基片架，其特征在于，所述升降装置包括气缸或直线电机。
3.根据权利要求I或2所述的可实现自动翻转的基片架，其特征在于，所述棘爪和棘轮的材料选择40Cr。
专利摘要本实用新型公开了一种可实现自动翻转的基片架，基片架包括基片卡具，基片卡具通过回转轴安装在支座上，回转轴的后端设有棘轮，与棘轮对应的部位设有棘爪，棘爪连接有升降装置；当棘爪上升时，棘爪与棘轮啮合；当棘爪下降时，棘爪与棘轮分离。通过棘轮-棘爪机构可以在镀膜过程中实现基片的自由翻转，克服真空溅射镀膜设备和真空蒸发镀膜设备绕射性差的特点，使基片的两个表面在一次镀膜工艺过程中都能均匀、牢固的沉积上薄膜，以达到完成工艺要求、保证镀膜质量同时提高工作效率的目的。
文档编号C23C14/50GK202499902SQ20122010166
公开日2012年10月24日 申请日期2012年3月16日 优先权日2012年3月16日
发明者李辉 申请人:北京北仪创新真空技术有限责任公司