技术编号：3276742
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于等离子体，具体涉及一种防着板和防着板-靶材组件及等离子体溅射设备。背景技术在沉积镀膜工艺中，尤其是薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistorLiquid Crystal Display，TFT-LCD)的生产制造过程中，需要使用等离子体溅射设备、例如使用磁控溅射机进行镀膜。采用磁控溅射机进行镀膜时，磁控溅射机中的溅射源在电场的作用下产生加速电子，这些加速电子与磁控溅射机真空腔中预先充入的惰性气体碰撞得到带正电的粒子，带正电的...
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