技术编号:3276914
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本实用新型涉及一种激光蒸发镀膜装置。技术背景传统的蒸发镀膜装置,采用接触式加热,会污染真空腔体。另外,其加热熔点较低,无法对高熔点金属材料进行加热使其蒸发。故有必要对现有技术作出改进,以提供一种激光蒸发镀膜装置,实现非接触式加热,且不会污染真空反应腔体。发明内容本实用新型的目的在于提供一种激光蒸发镀膜装置,其结构简单,可对高熔点金属材料进行非接触式加热使其蒸发而实现激光蒸发镀膜,且不会污染真空反应腔体。一种激光蒸发镀膜装置,其特征在于包括一真空反应腔,该...
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