技术编号：3278847
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种双槽加热装置，应用于镀膜制备领域。背景技术在真空镀膜工艺中，加热装置是一种重要的蒸发设备。加热加热装置使其中的物质蒸发，蒸发物质的原子或分子就会以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。在装料量一定、源和基片的距离一定的情况下，膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间，因此，增加加热装置与材料的接触面积，可以加快蒸发速率来满足需要。另一方面，舟内材料在加热过程中有时会溅出到加热装置外。故，需要一种新的产品以解决上述问题。实用新型内容本...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。