专利名称：双槽加热装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种双槽加热装置，应用于镀膜制备领域。
背景技术：
在真空镀膜工艺中，加热装置是一种重要的蒸发设备。加热加热装置使其中的物质蒸发，蒸发物质的原子或分子就会以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。在装料量一定、源和基片的距离一定的情况下，膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间，因此，增加加热装置与材料的接触面积，可以加快蒸发速率来满足需要。另一方面，舟内材料在加热过程中有时会溅出到加热装置外。故，需要一种新的产品以解决上述问题。
实用新型内容本实用新型的目的是针对现有技术存在的不足，提供一种使用方便、经济实用的双槽加热装置产品。为实现上述发明目的，本实用新型双槽加热装置可采用如下技术方案:一种双槽加热装置，包括梯形槽和半圆槽，所述梯形槽的底部设置有所述半圆槽。更进一步的,所述半圆槽的直径为5_9cm,长度为6_12cm。更进一步的，所述梯形槽的开口处设置有钨丝，所述钨丝的为螺旋形，所述钨丝的两端固定在所述梯形槽的两端。增加了与材料的接触面，节省了蒸发时间，也能减少材料溅出钨舟，节省材料。更进一步的，所述加热装置为钨舟。有益效果:本实用新型的双槽加热装置增加了加热装置内侧接触面积，同时能减少蒸发材料溅出加热装置。
图1是本实用新型的双槽加热装置的俯视图；图2是本实用新型的双槽加热装置的主视图；图3是本实用新型的带钨丝的双槽加热装置的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例，进一步阐明本实用新型，应理解这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围，在阅读了本实用新型之后，本领域技术人员对本实用新型的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。请参阅图1所示，本实用新型的双槽加热装置，具有梯形槽I和半圆槽2，半圆槽2开口设置在梯形槽I的底部。其中，加热装置为钨舟。请参阅图2所示，半圆槽2会增加加热装置与材料的接触面。半圆槽2内材料发生溅射时，会被梯形槽2内壁阻挡。请参阅图3所示，梯形槽I的开口处设置有钨丝3，钨丝3的为螺旋形，钨丝3的两端固定在梯形槽I的两端。此设计增加了与材料的接触面，节省了蒸发时间，也能减少材料溅出钨舟，节省材料。如上所述，本实用新型的半圆槽2增加了加热装置内侧接触面积，同时能减少蒸发材料溅出加热装置。
权利要求1.一种双槽加热装置，其特征在于:包括梯形槽(I)和半圆槽(2)，所述梯形槽(I)的底部设置有所述半圆槽(I)。
2.如权利要求1所述的双槽加热装置，所述半圆槽的直径为5-9cm，长度为6-12cm。
3.如权利要求1所述的双槽加热装置，其特征在于，所述梯形槽(I)的开口处设置有钨丝(3)，所述钨丝(3)的为螺旋形，所述钨丝(3)的两端固定在所述梯形槽(I)的两端。
4.如权利要求1-3任一项所述的双槽加热装置，其特征在于，所述加热装置为钨舟。
专利摘要本实用新型公开了一种双槽加热装置，包括梯形槽(1)和半圆槽(2)，所述梯形槽(1)的底部设置有所述半圆槽(1)。本实用新型增加了加热装置内侧接触面积，同时能减少蒸发材料溅出加热装置。
文档编号C23C14/24GK203007388SQ20122073990
公开日2013年6月19日 申请日期2012年12月30日 优先权日2012年12月30日
发明者陈道理 申请人:盱眙新远光学科技有限公司