技术编号:3280591
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光学薄膜领域,具体涉及一种355nm纳秒激光用高阈值高反射薄膜的镀制方法。背景技术在高功率激光系统领域,355nm高损伤阈值高反膜是强激光系统中关键元件之一,也是大激光装置设计中关键因素之一,其损伤阈值及损伤特性是限制强激光系统性能进一步改善的重要瓶颈,也是直接影响激光系统稳定性和使用寿命的重要因素之一。大量针对355nm激光高反膜损伤机制的理论和实验研究表明,对于纳秒激光系统所用光学薄膜而言,决定其损伤阈值高低的根本因素是镀膜材料本身的能带隙大...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。