技术编号:3286546
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种用于铜的化学机械抛光浆料及其应用,该浆料包括研磨颗粒、络合剂、氧化剂,腐蚀抑制剂,和至少一种磷酸酯类表面活性剂。使用本发明的浆料的可以保持较高的铜的去除速率,改善抛光后铜线的碟形凹陷和过抛窗口,抛光后的铜表面污染物少,无腐蚀等缺陷。专利说明一种金属化学机械抛光浆料及其应用[0001]本发明涉及一种化学机械抛光浆料及其应用,尤其涉及一种用于铜的化学机械抛光浆料及其应用。背景技术[0002]随着半导体技术的发展,电子部件的微小化,一个集成电路中包...
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