技术编号：3289212
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种具有形状记忆效应的氧化物薄膜材料的制备方法利用脉冲激光沉积技术在高品格失配单晶衬底上制备两相共存的BiFe03薄膜；利用聚焦离子束刻蚀技术在上步制得的两相共存的BiFe03薄膜中制备纯相纳米结构。还公开了所述薄膜纳米结构的应用。本发明的效果是利用外延生长技术和聚焦离子束刻蚀手段，成功制备出一种具有巨大形状记忆效应的铁电氧化物材料。电场、温度、应力都可以对此材料的形状记忆应变产生作用，其最大可逆应变高达14％。由于电场也可以实现对此材料的形状记忆效应的调...
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