技术编号:3290839
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种喷淋头以及包括所述喷淋头的气相沉积反应腔。所述喷淋头包括壳体部和密封部,所述壳体部包括相对间隔设置的顶板和底板以及多个第一气管,所述多个第一气管贯穿所述顶板和底板并与所述顶板和底板相互固定;所述壳体部具有开口,所述密封部用于密封所述壳体部的开口。由于开口的存在,使得对喷淋头内部进行的清洗变得方便,可以更好的控制喷淋头内部的洁净度。专利说明喷淋头以及气相沉积反应腔[0001]本发明涉及半导体设备,特别是一种喷淋头以及气相沉积反应腔。背景技术[...
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