喷淋头以及气相沉积反应腔的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种喷淋头以及包括所述喷淋头的气相沉积反应腔。所述喷淋头包括壳体部和密封部，所述壳体部包括相对间隔设置的顶板和底板以及多个第一气管，所述多个第一气管贯穿所述顶板和底板并与所述顶板和底板相互固定；所述壳体部具有开口，所述密封部用于密封所述壳体部的开口。由于开口的存在，使得对喷淋头内部进行的清洗变得方便，可以更好的控制喷淋头内部的洁净度。
【专利说明】喷淋头以及气相沉积反应腔
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体设备【技术领域】，特别是一种喷淋头以及气相沉积反应腔。
【背景技术】
[0002]化学气相沉积例如有机金属化学气相沉积(MOCVD)工艺的基本生长过程是，将反应气体从气源引入反应腔室，利用以加热器加热的衬底引发化学反应，从而在基片上生成单晶或多晶薄膜。在MOCVD过程中，薄膜生长所需要的反应物依靠气体运输(例如流动和扩散)到达生长表面，在运输过程的同时还发生着化学反应，最终生长粒子通过吸附和表面反应，结合进薄膜晶格。而MOCVD腔室是用来完成MOCVD工艺主要设备。
[0003]现在的MOCVD腔室主要包括喷淋头，所述喷淋头通常由三部分组成，如图1所示，包括主体1，通气管2及上盖3，三者之间通过焊接的方式连接，主要目的用于将不同种类的气体(例如气体I和气体II)分隔开，并在流出出气口之后混合均匀，此时喷淋头内部会根据气体种类的多少形成至少一个独立的气体腔，每个气体腔含有自己进气孔组和出气孔组，如图1，在上盖3上方具有第一气体腔(未图示)，或直接接通气源，气体I通过第一通气管21传递至喷淋头下方的反应区域，上盖3和主体I之间形成第二气体腔，气体II通过进气孔组4先到达所述第二气体腔，然后从出气孔组(在此为第二通气管22)传递至喷淋头下方的反应区域。由此，可以保证多种气体在从出气口混合之前，相互之间没有接触和污染。
[0004]然而喷淋头中用于分配气体的气体腔必须有洁净度要求，这是判断喷淋头效果至关重要的标准。现有技术中的喷淋头结构中的三个组成部分由焊接的方式连接，制造完成后三者无法再次分离，所以无法直接观测到气体腔内部的情况；而且，内部用于气体分配的气体腔，由于进气口和出气孔大小的限制，十分难以清洗，制造时留在气体腔内的污染物很难排出。这就会导致清洗所需的时间和人力成本过高，此外，由于喷淋头工作过程中在所述气体腔内积聚的污染物无 法得到有效的清洗，所以喷淋头的使用寿命较短，必须经常更换，这也使目前产品成为一个高成本的消耗品。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种喷淋头和气相沉积反应腔，以解决现有技术中的喷淋头不容易清洗的问题。
[0006]为解决上述技术问题，一种喷淋头，用于向反应区域提供反应气体，所述喷淋头包括壳体部和密封部，所述壳体部包括相对间隔设置的顶板和底板以及多个第一气管，所述多个第一气管贯穿所述顶板和底板并与所述顶板和底板相互固定，所述反应区域位于所述底板远离顶板的一侧；所述壳体部具有开口，所述密封部用于密封所述壳体部的开口。
[0007]本发明还提供一种气相沉积反应腔，其包括腔体、用于装载衬底的托盘和喷淋头，所述托盘设置于所述腔体的底部，所述喷淋头设置在所述腔体的顶部并与所述托盘相对设置，所述托盘与所述喷淋头之间限定气体反应区域，所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体，所述喷淋头为如上所述的喷淋头。[0008]本发明提供的喷淋头以及气相沉积反应腔中，所述喷淋头包括壳体部和密封部，所述壳体部具有开口，所述密封部用于密封所述壳体部的开口。与现有技术相比，由于开口的存在，使得对喷淋头内部进行的清洗变得方便，而且，根据开口的结构，可以将清洗器件例如水管等轻易的深入喷淋头内部，提高清洗效率；甚至可以将喷淋头进行拆分，从而使得对喷淋头内部的清洗效果大大提升，可以更好的控制喷淋头内部的洁净度，有效延长使用寿命，并能够缩短所用时间，减少投入的人力物力。而且，由于设置有开口，能够及时观察到喷淋头内的情况，避免可能带来的不良影响。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为现有技术的喷淋头的结构示意图；
[0010]图2为本发明第一实施例的喷淋头的结构示意图；
[0011]图3为本发明第一实施例的喷淋头的俯视图；
[0012]图4为本发明实施例的喷淋头的密封面的结构示意图；
[0013]图5为本发明第二实施例的喷淋头的结构示意图；
[0014]图6为本发明第三实施例的喷淋头的结构示意图；
[0015]图7为本发明第四实施例的喷淋头的结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]下面将结合示意图对本发明的喷淋头以及气相沉积反应腔进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的 限制。
[0017]为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本发明由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
[0018]在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
[0019]本发明的核心思想在于，本发明提供一种喷淋头，所述喷淋头在壳体上开口，所述开口由一密封部密封，那么使得对喷淋头内部进行的清洗变得方便，从而使得对喷淋头内部的清洗效果大大提升，可以更好的控制喷淋头内部的洁净度，而且，由于设置有开口，能够及时观察到喷淋头内的情况，避免可能带来的不良影响。
[0020]基于上述思想，本发明提供一种喷淋头，用于向反应区域提供反应气体，所述喷淋头包括壳体部和密封部，所述壳体部包括相对间隔设置的顶板和底板以及多个第一气管，所述多个第一气管贯穿所述顶板和底板并与所述顶板和底板相互固定，所述反应区域位于所述底板远离顶板的一侧；其中，所述壳体部具有开口，所述密封部用于密封所述壳体部的开口。优选的，所述开口为 环绕所述多个第一气管的开口，所述密封部为相应的环形密封部。
[0021]请参考图2，其为本发明第一实施例的喷淋头的结构示意图。本实施例中，所述壳体包括底板11、顶板12、侧壁13及多个第一气管101，所述多个第一气管101贯穿所述顶板12和底板11并与所述顶板12和底板11相互固定。所述底板11、顶板12及侧壁13所围绕成的区域为气体腔室10。
[0022]在本实施例中，所述侧壁13位于所述顶板12与所述底板11之间并与所述顶板12和底板11相连接，所述侧壁13优选为圆筒形，开口 120设置在所述顶板12中。请结合图3，较优的，所述开口 120环绕多个第一气管101。进一步的，所述开口 120设置在所述顶板12靠近边缘处的一圈。环形密封部14覆盖住所述开口 120并密封所述开口 120。如图2所示，所述顶板12背离所述底板11 一侧的表面具有密封面，具体的，所述密封面包括围绕所述开口 120的第一环形密封面121和位于所述开口 120内的第二环形密封面122，所述环形密封部14具有与所述第一环形密封面121和所述第二环形密封面122相对应的第三环形密封面141和第四环形密封面142。
[0023]在本实施例中，所述环形密封部14具有呈倒“凸”字型的截面，即包括一个宽部和一个窄部，所述宽部的宽度大于所述开口的宽度，所述窄部的宽度略小于所述开口的宽度，在所述宽部和窄部相结合处的两侧分别是所述第三环形密封面141和第四环形密封面142，在进行密封时，所述环形密封部14的窄部插入所述开口 120中，所述第三环形密封面141和第四环形密封面142分别与所述第一环形密封面121和第二环形密封面122压合密封。采用这种倒“凸”字型截面的环形密封部14能够较好的与所述顶板12接触，使得密封效果较好。此外，所·述环形密封部14也可以仅具有一个宽部，即截面为矩形，而且可以在所述顶板12和环形密封部14的远离所述底板11的一侧设置有固定结构，例如卡锁等，从而提高密封性。进一步的，为了达到较好的密封效果，相对应的密封面(即第一环形密封面121与第三环形密封面141，及第二环形密封面122与第四环形密封面142)之间还可以设置有密封垫圈或密封环。所述环形密封部14与所述开口的密封不限于上述的两种方式，只要能够使得二者密封完好，防止漏气，皆可以接受。又如，较佳的，如图4所示，所述第一环形密封面121和第二环形密封面122皆包括具有高度差的两部分，所述第三环形密封面141和第四环形密封面142具有相对应的结构。以图中的第一环形密封面121和第三环形密封面141为例，所示第一环形密封面121左半部分的高度大于右半部分的高度，从而形成了台阶状的密封面，所述第三环形密封面141则是左半部分的高度小于右半部分的高度，则当所述第一环形密封面121和第三环形密封面141贴靠在一起时，便会交错在一起，这种台阶状的密封面能够更好的进行密封。
[0024]请继续参考图2，所述气体腔室10具通气模块131和气体通道111。具体的，所述侧壁13设置有通气模块131，用于向所述气体腔室10通入反应气体；所述底板11设置有气体通道111，用于使得所述反应气体通过并到达所述反应区域。
[0025]在本实施例中，所述通气模块131为穿过所述侧壁13且沿周向均匀分布的通孔(请结合图3);从而外部气源将反应气体直接从通孔中通入所述气体腔室10中。进一步的，为了使得通入的反应气体较均匀，所述通气模块13可以为内嵌于所述侧壁13中且环绕所述侧壁13 —周的均气环，所述均气环具有均匀分布的出气孔，所述出气孔通向所述气体腔室10，所述匀气环还包括进气口，以接收外部气源，并将外部气源输入的反应气体先进入均气环中进行均布，然后再通过出气孔均匀地进入所述气体腔室10中，如此能够使得各个方向进入的反应气体流量和流速基本一致，从而保证气体腔室10中气流场的稳定性。本实施例中采用的通气模块131是均匀分布的通孔，所述通孔具有“L”型的截面，以使得反应气体从靠近所述顶板12的一侧通入。所述通孔的结构可以是多种多样的，例如可以是垂直所述顶板12和底板11排列方向的通孔，这可以根据实际环境的外部气源线的布局而进行设定。
[0026]本实施例的喷淋头，在所述顶板12中设置了一环形的开口 120，相比现有技术进行清洗时将变得更加便捷可靠，例如可以直接将可以将清洗器件例如水管等轻易的深入喷淋头内部进行冲刷，并且由于开口 120的存在，能够及时的观察到内部情况，了解清洗的状况，使得清洗效率得到保障。此外，所述第一气管101可以是通过螺母与所述顶板12固定，则位于所述开口 120内的顶板12可以拆除，如此进行清洗更加便利，也能够对喷淋头内部情况有着较佳的把握。
[0027]请参考图5，其为本发明第二实施例的喷淋头的结构示意图。本实施例与上一实施例相同或相似的部件采用相同的标号，并省略其说明。
[0028]本实施例与上一实施例的区别之处在于，所述侧壁13与所述底板11连接，所述顶板12与所述侧壁13之间形成所述环绕多个第一气管101的开口 120。如图5所示，所述侧壁13远离所述底板11的端面构成所述与所述环形密封部14进行密封的第一环形密封面121 ;所述顶板12背离所述底板13 —侧的表面具有第二环形密封面122，所述第二环形密封面122被所述开口 120环绕；所述环形密封部14具有与所述第一环形密封面121和所述第二环形密封面122相对应的第三环形密封面141和第四环形密封面142。所述环形密封部14与开口 120的密封与上一实施例相同，可作参考。
[0029]相应的，所述侧壁13还可以是位于所述顶板12与所述底板11之间并与顶板12连接，所述底板11与所述侧壁13之间形成所述环绕多个第一气管101的开口 120。这一结构也包括在本实施例的思想中。
[0030]本实施例使得 所述开口 120是由侧壁13与顶板12 (或底板11)构成的，这相比第一实施例在制造过程中的难度会降低，更加的简单，而且能起到相同的效果。
[0031]下面请参考图6，其为本发明第三实施例的喷淋头的结构示意图。本实施例与上一实施例相同或相似的部件采用相同的标号，并省略其说明。
[0032]本实施例与上两个实施例的区别之处在于，所述壳体包括顶板12、底板11及多个第一气管101，所述多个第一气管101贯穿所述顶板12和底板11并与所述顶板12和底板11相互固定，所述顶板12的外边缘和底板11的外边缘之间为环绕所述多个第一气管101的开口 120。环形密封部14密封所述开口 120，从而所述顶板12、底板11及环形密封部14之间的区域为气体腔室10。所述顶板12背离所述底板11 一侧的表面具有第一环形密封面121，所述第一环形密封面121设置于所述顶板12的边缘区域；所述底板11朝向所述顶板12 一侧的表面具有第二环形密封面122，所述第二环形密封面122包绕所述顶板12位于所述底板11的上的正投影区域。所述环形密封部14具有与所述第一环形密封面121和所述第二环形密封面122相对应的密封面。具体的，所述环形密封部14具有倒“L”形截面，所述环形密封部14包括圆筒形的侧壁13和环状延伸部143，所述侧壁13包括位于其轴线方向两端的顶端和底端；所述环状延伸部143的外边缘与所述侧壁13的顶端连接；所述环状延伸部143邻近所述侧壁13 —侧的表面上具有第三环形密封面141，所述第三环形密封面141与所述第一环形密封面121配合密封；所述侧壁13底端的端面上具有第四环形密封面142，所述第四环形密封面142与所述第二环形密封面122配合密封。所述侧壁13中设置有通孔作为通气模块131，从而使得反应气体自通孔进入气体腔室10并从气体通道111排出至反应区域。
[0033]本实施例中，所述环形密封部14直接与所述顶板12和底板11连接密封，从而使得制作简单，而且开口较大，更容进行清洗，且当喷淋头发生损坏时，可以根据实际情况局部更换，如此便节省了生产成本。
[0034]上述三个实施例为本发明的几个较优实施例，然而上述3个实施例皆是一个气体腔室，在本发明中，具有2个及2个以上的气体腔室的喷淋头同样也可以实现。
[0035]下面请参考图7，其为本发明第四实施例的喷淋头的结构示意图。本实施例与上述三个实施例相同或相似的部件采用相同的标号，并省略其说明。需要说明的是，本实施例为在第三实施例的基础上加以扩展完成。
[0036]本实施例与第三实施例的区别之处在于，所述壳体包括间隔设置于所述顶板12之上的一附加板15，所述多个第一气管101贯穿所述附加板15、顶板12和底板11并与所述附加板15、顶板12和底板11相互固定。
[0037]所述附加板15在背离所述顶板12 —侧的表面具有第五环形密封面151，所述第五环形密封面151设置于所述附加板15的边缘区域；所述第一环形密封121面包绕所述附加板15位于所述顶板12的上的正投影区域；所述环形密封部还具有与所述第五环形密封面151相对应的密封面。具体的，所述环形密封部的截面呈两个层叠的倒“L”形，所述环形密封部自下而上包括层叠连接的第一侧壁132、第一环状延伸部143、第二侧壁133和第二环状延伸部144 ;所述第一侧壁132和第二侧壁133包括位于其共轴线方向两端的顶端和底端；所述第二环状延伸部144的外边缘与所述第二侧壁133的顶端连接，所述第一环状延伸部143的内边缘与所述第二侧壁133的底端连接，所述第一环状延伸部143的外边缘与所述第一侧壁132的顶端连 接；所述第一环状延伸部143朝向所述底板11 一侧的表面上具有第三环形密封面141，所述第三环形密封面141与所述第一环形密封面121配合密封；所述第一侧壁132底端的端面上具有第四环形密封面142，所述第四环形密封面142与所述第二环形密封面122配合密封；所述第二环状延伸部144朝向所述底板11 一侧的表面上具有第六环形密封面152，所述第六环形密封面152与所述第五环形密封面151配合密封。
[0038]所述顶板12两侧形成由所述顶板12隔离的气体腔室10、20，所述第一侧壁132和第二侧壁133皆设置有通气模块131，用于向所述相隔离的气体腔室10、20通入反应气体；所述通气模块131可以是所述通孔或者匀气环。所述顶板12设置有第二气管201，所述第二气管201贯穿所述顶板12和底板11，所述底板11设置有气体通道111，所述第二气管201用于使得所述气体腔室20中的反应气体通过并到达所述反应区域，所述气体通道111用于使得所述气体腔室中10的反应气体通过并到达所述反应区域。
[0039]本实施例所提供的喷淋头，具有两个气体腔室10、20，所述环形密封部直接与所述附加板15、顶板12和底板11连接密封,从而使得制作简单,而且开口较大,更容进行清洗，且当喷淋头发生损坏时，可以根据实际情况局部更换，如此便节省了生产成本。
[0040]本实施例还暗示了例如3个及以上气体腔室的情况，业内人士当能够从本实施例中获知其结构，此亦在本实施例的意图中。[0041]结合上述多个实施例，本发明还提供一种气相沉积反应腔，其包括腔体、用于装载衬底的托盘和喷淋头，所述托盘设置于所述腔体的底部，所述喷淋头设置在所述腔体的顶部并与所述托盘相对设置，所述托盘与所述喷淋头之间限定气体反应区域，所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体，其中，所述喷淋头为如上实施例中任意一个所述的喷淋头。进一步的，所述气相沉积反应腔还可以包括加热器，所述加热器设置于所述托盘背离所述反应区域一侧，用于加热所述托盘。
[0042]本发明提供的喷淋头以及气相沉积反应腔中，所述喷淋头包括壳体部和密封部，所述壳体部具有开口，所述密封部用于密封所述壳体部的开口。与现有技术相比，由于开口的存在，使得对喷淋头内部进行的清洗变得方便，而且，根据开口的结构，可以将清洗器件例如水管等轻易的深入喷淋头内部，提高清洗效率，甚至可以将喷淋头进行拆分，从而使得对喷淋头内部的清洗效果大大提升，可以更好的控制喷淋头内部的洁净度，有效延长使用寿命，并能够缩短所用时间，减少投入的人力物力。而且，由于设置有开口，能够及时观察到喷淋头内的情况，避免可能带来的不良影响。
[0043]显然，本领域的技术人员可以对发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包括这·些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种喷淋头，用于向反应区域提供反应气体，所述喷淋头包括壳体部和密封部，所述壳体部包括相对间隔设置的顶板和底板以及多个第一气管，所述多个第一气管贯穿所述顶板和底板并与所述顶板和底板相互固定，所述反应区域位于所述底板远离顶板的一侧；其特征在于:所述壳体部具有开口，所述密封部用于密封所述壳体部的开口。
2.如权利要求1所述的喷淋头，其特征在于，所述开口为环绕所述多个第一气管的开口，所述密封部为相应的环形密封部。
3.如权利要求2所述的喷淋头，其特征在于，所述壳体进一步包括侧壁，所述侧壁位于所述顶板与所述底板之间并与所述顶板和底板相连接，所述环绕多个第一气管的开口设置在所述顶板。
4.如权利要求3所述的喷淋头，其特征在于，所述顶板背离所述底板一侧的表面具有密封面，所述密封面包括围绕所述开口的第一环形密封面和位于所述开口内的第二环形密封面，所述环形密封部具有与所述第一环形密封面和所述第二环形密封面相对应的第三环形密封面和第四环形密封面。
5.如权利要求2所述的喷淋头，其特征在于，所述壳体进一步包括侧壁；所述侧壁位于所述顶板与所述底板之间并与底板连接，所述顶板与所述侧壁之间形成所述环绕多个第一气管的开口。
6.如权利要求5所述的喷淋头·，其特征在于，所述侧壁远离所述底板的端面构成所述与所述环形密封部进行密封的第一环形密封面；所述顶板背离所述底板一侧的表面具有第二环形密封面，所述第二环形密封面被所述开口环绕；所述环形密封部具有与所述第一环形密封面和所述第二环形密封面相对应的第三环形密封面和第四环形密封面。
7.如权利要求2所述的喷淋头，其特征在于，所述顶板外边缘与所述底板的外边缘之间构成所述环绕多个第一气管的开口，所述顶板背离所述底板一侧的表面具有第一环形密封面，所述第一环形密封面设置于所述顶板的边缘区域；所述底板朝向所述顶板一侧的表面具有第二环形密封面，所述第二环形密封面包绕所述顶板位于所述底板的上的正投影区域；所述环形密封部具有与所述第一环形密封面和所述第二环形密封面相对应的密封面。
8.如权利要求7所述的喷淋头，其特征在于，所述环形密封部具有倒“L”形截面，所述环形密封部包括圆筒形的侧壁和环状延伸部，所述侧壁包括位于其轴线方向两端的顶端和底端；所述环状延伸部的外边缘与所述侧壁的顶端连接；所述环状延伸部朝向所述底板一侧的表面上具有第三环形密封面，所述第三环形密封面与所述第一环形密封面配合密封；所述侧壁底端的端面上具有第四环形密封面，所述第四环形密封面与所述第二环形密封面配合密封。
9.如权利要求3、5或8中任一项所述的喷淋头，其特征在于，所述侧壁、顶板和底板之间的区域为气体腔室，所述侧壁设置有通气模块，用于向所述气体腔室通入反应气体；所述底板设置有气体通道，用于使得所述反应气体通过并到达所述反应区域。
10.如权利要求9所述的喷淋头，其特征在于，所述通气模块为穿过所述侧壁且在圆周方向均匀分布的通孔；或者，所述通气模块为内嵌于所述侧壁中且环绕所述侧壁一周的均气环，所述均气环具有均匀分布的出气孔，所述出气孔通向所述气体腔室，所述匀气环还包括进气口，所述进气口输入的反应气体先进入均气环中进行均布，然后再通过出气孔均匀地进入所述气体腔室。
11.如权利要求4、6或8中任一项所述的喷淋头，其特征在于，所述第一环形密封面与第三环形密封面之间，及第二环形密封面与第四环形密封面之间皆设置有密封垫圈或密封环。
12.如权利要求11所述的喷淋头，其特征在于，所述第一环形密封面和第二环形密封面皆包括具有高度差的两部分，所述第三环形密封面和第四环形密封面具有相对应的结构。
13.如权利要求7所述的喷淋头，其特征在于，所述顶板上还间隔设置有一附加板，所述多个第一气管贯穿所述附加板、顶板和底板并与所述附加板、顶板和底板相互固定；所述附加板背离所述顶板一侧的表面具有第五环形密封面，所述第五环形密封面设置于所述附加板的边缘区域；所述第一环形密封面包绕所述附加板位于所述顶板的上的正投影区域；所述环形密封部还具有与所述第五环形密封面相对应的密封面。
14.如权利要求13所述的喷淋头，其特征在于，所述环形密封部的截面呈两个层叠的倒“L”形，所述环形密封部自下而上包括层叠连接的圆筒形的第一侧壁、第一环状延伸部、圆筒形的第二侧壁和第二环状延伸部；所述第一侧壁和第二侧壁包括位于其共轴线方向两端的顶端和底端；所述第二环状延伸部的外边缘与所述第二侧壁的顶端连接，所述第一环状延伸部的内边缘与所述第二侧壁的底端连接，所述第一环状延伸部的外边缘与所述第一侧壁的顶端连接；所述第一环 状延伸部朝向所述底板一侧的表面上具有第三环形密封面，所述第三环形密封面与所述第一环形密封面配合密封；所述第一侧壁底端的端面上具有第四环形密封面，所述第四环形密封面与所述第二环形密封面配合密封；所述第二环状延伸部朝向所述底板一侧的表面上具有第六环形密封面，所述第六环形密封面与所述第五环形密封面配合密封。
15.如权利要求14所述的喷淋头，其特征在于，所述顶板两侧形成由所述顶板隔离的气体腔室，所述第一侧壁和第二侧壁皆设置有通气模块，用于向所述相隔离的气体腔室通入反应气体；所述顶板设置有第二气管，所述第二气管贯穿所述顶板和底板，所述底板设置有气体通道，分别用于使得所述相隔离的气体腔室中的反应气体通过并到达所述反应区域。
16.一种气相沉积反应腔，其包括腔体、用于装载衬底的托盘和喷淋头，所述托盘设置于所述腔体的底部，所述喷淋头设置在所述腔体的顶部并与所述托盘相对设置，所述托盘与所述喷淋头之间限定气体反应区域，所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体，其特征在于:所述喷淋头为如权利要求1-15中任意一项所述的喷淋头。
17.如权利要求16所述的气相沉积反应腔，其特征在于:所述气相沉积反应腔进一步包括加热器，所述加热器设置于所述托盘背离所述反应区域一侧，用于加热所述托盘。
【文档编号】C23C16/455GK103436857SQ201310345361
【公开日】2013年12月11日 申请日期:2013年8月8日 优先权日:2013年8月8日
【发明者】田益西, 黄允文 申请人:光垒光电科技（上海）有限公司