技术编号：32946280
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物以及包括使用其进行显影步骤的形成图案的方法.相关申请的引证.本申请要求于年月日提交给韩国知识产权局的韩国专利申请第--号以及年月日提交给韩国知识产权局的韩国专利申请第--号的优先权和权益，通过引用将其全部内容并入本申请。技术领域.本公开涉及含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物和包括使用其进行显影步骤的形成图案的方法。背景技术.近年来，半导体工业的临界尺寸不断减小，并且这种尺寸的减小要求新...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。