技术编号:32968527
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及一种样品台,尤其涉及一种小型真空超低温样品台。背景技术.目前,在真空镀膜研究领域,超低温镀膜越来越得到广泛应用,研究者希望在不破坏真空的情况下使镀膜均匀,但目前这种传统设备中安装的样品台很难达到真空超低温的镀膜效果,镀膜不够均匀,效率偏低,甚至影响镀膜结果。本实用新型凭借结构改造与选型,能够完成在真空超低温环境下镀膜,高效且实用,在很大程度上解决了这一棘手的问题,为此我们带来了一种小型真空超低温样品台。实用新型内容.为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的之一在于提供一种小...
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