技术编号:3314863
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供的一种用于加速惰性硅化合物薄膜生长在衬底表面上的化学组合物,包括以下重量百分数的组分氟硅酸或氟硅酸盐类化合物0.1-25%,氨基酸类化合物0.1-15%,铵类化合物0.05-15%,无机酸0.001-30%,有机酸0.001-30%,表面活性剂0.001-0.05%,核心添加剂0.01-10%,余量为水。该辅助化学组合物成本低廉、使用方便、重复性好,将该辅助化学组合物应用于在硅片表面生成惰性硅化合物薄膜,制得的硅片整面色泽均匀,硅片表面惰性硅化合...
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