技术编号：33193437
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于抛光液领域，具体涉及一种基于双氧水体系弱酸性的钼阻挡层化学机械抛光液及其制备方法。背景技术.金属钼被广泛应用于医疗、化学、冶金以及电子等行业。钼因其低膨胀系数、高电导率以及优良的热导性，使其在集成电路制造行业同样有着好的发展前景。作为最具有发展潜质的阻挡层材料，钼能够满足低技术节点集成电路的许多需求。金属钼具有较高的熔点(℃)和较低的电阻率(.μω·cm)。除此之外，钼对铜的黏附性要优于钽，且能够在℃的条件下保持稳定的阻隔效果。为了满足低技术节点的要求，钼阻挡...
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