技术编号：3323989
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具有均匀微细的组织、等离子体稳定、膜的均匀性优良的高纯度钽溅射靶。背景技术近年来，在电子学领域、耐腐蚀性材料或装饰领域、催化剂领域、切削/研磨材料或耐磨损性材料的制作等众多领域，正在使用用于形成金属或陶瓷材料等的被膜的溅射。溅射法本身在上述领域是公知的方法，最近，特别是在电子学领域，要求适合用于形成形状复杂的被膜、形成电路或者形成阻挡膜等的钽溅射靶。一般而言，对于该钽靶，通过将对钽原料进行电子束熔炼、铸造而得到的锭或坯料反复进行热锻、退火(热处理...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。