技术编号:3352887
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种离子镀膜装置,具体地说是涉及一种双室可交替作业的离子镀膜机。背景技术镀膜技术由蒸发镀发展到多弧离子镀,在镀膜质量方面有很大提高,镀层硬度及膜层与基体的结合都得到很大改善,且膜的品种大大增加。目前,多弧离子镀膜方法多数采用单室离子镀膜机,这种机型存在以下缺陷1、本机制造成本高及镀膜生产成本高;2、单室多弧离子镀膜机一般采用8套或12套蒸发离化源,由于某些原因往往出现熄弧,弧头越多镀膜时灭弧的几率越大,从而导致镀膜质量下降。发明内容本实用新型...
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