技术编号:3353659
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种中空阴极电弧离子镀涂层系统,属于薄膜。背景技术离子镀技术最早是由D. M. Mottox于1963年提出来。随着其技术的不断发展,目 前主要应用的离子镀技术包括活性反应蒸镀离子镀(ARE)、空心阴极离子镀(HCDIP)、感 应加热离子镀、电弧离子镀(AIP)等等。其中各种方法各有优缺点,但电弧离子镀应用的最 为成功。进入20世纪九十年代后,离子镀技术有了长足的进步。已经取代了其它各种类型 的离子镀成为当前功能镀层应用最为广泛的生产工艺。 电弧...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。