技术编号:3360743
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及一种用于在衬底表面上进行原子层沉积的装置。本发明还涉及一种用于在衬底表面上进行原子层沉积的方法。原子层沉积被认为是用于沉积单层靶材的方法。原子层沉积与诸如化学气相沉积的不同之处在于,原子层沉积具有至少两个工艺步骤。这些工艺步骤中的第一个包括在衬底表面上施加前驱体气体。这些工艺步骤中的第二个包括使前驱体材料反应以形成单层靶材。原子层沉积具有能很好地控制层厚度的优点。但是,已知的原子层沉积方法表现出对前驱体气体的相当低效率的使用。典型地,超过一半的...
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