研磨垫及其制造方法技术资料下载

技术编号:3360845

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本发明涉及在对透镜、反射镜等光学材料、硅晶片、硬盘用玻璃衬底以及铝衬底等的表面进行研磨时使用的研磨垫(粗研磨用或者精研磨用)。特别是,本发明的研磨垫优选作为精加工用的研磨垫使用。背景技术一般而言,在硅晶片等半导体晶片、透镜以及玻璃衬底等的镜面研磨中,存在以平坦度及面内均勻度的调节为主要目的的粗研磨和以表面粗糙度的改善及划痕的去除为主要目的的精研磨。上述精研磨通常是通过在可旋转的平台上粘贴由软质发泡氨基甲酸酯形成的仿麂皮风格的人造皮革,向其上供给在碱性水溶液...
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