技术编号:3361060
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。,和衬底处理方法本申请属于材料沉积,涉及用于在衬底上沉积材料的设备,尤其涉及一 种具有改进的材料利用率的,和衬底处理方法。背景技术材料沉积广泛用于窗玻璃涂布,平板显示器制造,柔性膜(比如网幅)涂布,硬盘 涂布,工业表面涂布,半导体晶片处理,光电面板,及其他应用。材料从靶源溅射或汽化并沉 积在衬底上。常规的沉积系统在材料利用率上具有多个缺点。例如,参考图1A-1E,沉积系 统100包括真空室120中衬底115上的矩形靶110。固定的磁控管130固定于靶110...
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