技术编号:33640565
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及层叠体,详细而言,涉及具备防污层的层叠体。背景技术.以往,从防止手垢、指纹等污物附着于薄膜基材的表面、光学薄膜等光学部件的表面的观点出发,已知的是形成防污层。.作为具备这种防污层的光学薄膜,提出了例如依次具备薄膜基材、防反射层和防污层的防反射薄膜(例如参照专利文献)。.现有技术文献.专利文献.专利文献:日本特开-号公报发明内容.发明要解决的问题.另一方面,若拭去附着于防污层的污物,则存在防污层的防污性降低的不良情况。.本发明提供即便在拭去附着于...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。