技术编号:3365007
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及的是一种制备NbTi薄膜的方法,尤其涉及的是一种利用磁控溅射法 制备NbTi薄膜的方法。背景技术NbTi超导体具有良好的加工塑性、很高的强度以及良好的超导性能,同时原材料 及制造成本远低于其他超导材料,因此自20世纪60年代初被发现以来得到了广泛应用。目 前NbTi超导体主要应用于核磁共振成像(MRI)、实验室仪器、粒子加速器、电力、扫雷、矿石 磁分离、磁悬浮列车、超导储能(SMES)等领域。近年来一些大型的科学实验如欧洲的LHC 及W72X、韩...
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