技术编号:3365404
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种广泛应用于各类电子、光学产品上的高质量沉积膜层的制法,尤指一种能使该膜层具有极佳界面平整性及表面洁净度的制法。背景技术现有相关技术便如中国台湾专利申请第086107342号的剥离薄膜及其制造方法和第097130916号的多层薄膜的分离方法等前案所示般,请参看图IA至图1F,其分离沉积膜层的释出步骤包括有a、提供一具有基准面的基板11,并将该基板11安装至喷涂设备S上;b、提供一有机涂料,将该有机涂料以喷涂设备S涂布在基板11基准面上,使之形成...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。