专利名称：一种分离沉积膜层制法的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种广泛应用于各类电子、光学产品上的高质量沉积膜层的制法，尤指一种能使该膜层具有极佳界面平整性及表面洁净度的制法。
背景技术：
现有相关技术便如中国台湾专利申请第086107342号的剥离薄膜及其制造方法和第097130916号的多层薄膜的分离方法等前案所示般，请参看图IA至图1F，其分离沉积膜层的释出步骤包括有a、提供一具有基准面的基板11，并将该基板11安装至喷涂设备S上；b、提供一有机涂料，将该有机涂料以喷涂设备S涂布在基板11基准面上，使之形成一可溶于水的置换膜12 ；C、将具有置换膜12的基板11移至镀膜机，以便在置换膜12上镀覆有一介于 Inm IOOOnm厚度的超薄金属膜层13，用以构成三层迭接结构；d、以水作为溶剂L，将其盛装在容器20中，并将该三层迭接结构置入该容器20中， 用以溶解中间的置换膜12，从而释出一膜层13 ；e、然后将该膜层13烘干处理而得一成品。但是，该制法具有以下缺点一、前案置换膜12由于是采用涂布的方式而形成在基板11基准面上，其接受膜层 13的表面，不管在平整性及组织密度上均未到最佳，导致所形成的膜层13接口平整性难以达到高质量的要求。二、前案需在基板11上先行由喷涂设备S涂布置换膜12，再移至镀膜机镀上膜层 13，如此转换过程难以确保置换膜12表面的洁净与平整性，且该需移动基板11及置换膜12 的工序，相当不具效率。三、前案是以有机聚合物或有机偏光膜形成可溶水的置换膜12，该等有机物在真空中会释放碳、氮气体而污染膜层13。四、前案是以有机聚合物或有机偏光膜为溶水的置换膜12，该等有机物不耐高温只能适用于150°C以下制程，相当不利于膜层13形成。有鉴于此，本发明人乃经不断构思和创研，乃研发出具实用性的本发明。
发明内容
本发明的目的在于提供一种成型出的膜层具有极佳界面平整性及表面洁净度的分离沉积膜层制法。为了达成上述目的，本发明的解决方案是一种分离沉积膜层制法，其中，包括下列步骤A、提供一具有基准面的基板和一供基板安装的镀膜机；B、操作镀膜机进行第一次镀膜作业，使之在基板基准面镀覆形成一可溶于溶剂的置换膜；C、操作同一台镀膜机进行第二次镀膜作业，使之在该置换膜上镀覆有一金属或化合物膜层，用以构成置换膜位于中间的三层迭接结构；D、将该三层迭接结构置入溶剂中，溶解中间的置换膜，从而释出一膜层。进一步，该金属或化合物膜层的厚度介于Inm lOOOnm。进一步，该置换膜选用在真空中不会释放碳、氮气体的无机材料镀覆形成。进一步，该无机材料选用可耐高温至450°C的金属氧化物或化合物，并该无机材料镀覆于基板基准面能形成一可溶于水的置换膜，该溶剂选用水，并控制该溶剂温度介于 99°C至70°C之间，使该置换膜能在水中溶解而释出一膜层。进一步，该溶剂是采溢流的水平层流及不断更换方式而溶解置换膜。进一步，该无机材料选用氧化镁、五氧化二钒、冰晶石或氯化钠。进一步，该无机材料选用可耐高温至450°C的碘元素，该无机材料镀覆在基板基准面能形成一可溶于水或酒精的置换膜，该溶剂能为水或酒精，并使该置换膜能在溶剂中溶解而释出一膜层。进一步，该溶剂选用酒精时，该溶剂温度控制在25°C至18°C之间。进一步，该膜层选用金。采用上述结构后，本发明涉及的制法主要是通过原位的方法，在同一台镀膜机内， 而在基板上依次镀上置换膜和膜层，从而通过该置换膜优良的平整性和无机材料在镀膜的特性，从而确保释出的膜层具有接口平整性及表面洁净度的增进，从而能使膜层形成更有效率。
图1A、图1B、图1C、图1D、图IE和图IF为现有技术的动作流程示意图；图1D’为图ID中A部的放大示意图；图2A、图2B、图2C、图2D、图2E和图2F为本发明的动作流程示意图；图2 :’为图2D中B部的放大示意I
图中
L溶剂S喷涂设备
T、t厚度
11基板12置换膜
13膜层20容器
30基板40置换膜
50膜层
具体实施例方式为了进一步解释本发明的技术方案，下面通过具体实施例来对本发明进行详细阐述。请参阅图2A至图2F，本发明包括有下列步骤A、提供一基板30，该基板30为一玻璃，其至少具有一可供镀膜的基准面，该基准面形成可为一般平整状或特殊形状，其端视成品需求而定，然后将该基板30安装至一镀膜机中；B、提供一可耐高温至450°C的无机材料予镀膜机，操作镀膜机进行第一次镀膜作业，从而将无机材料镀覆在基板30基准面而形成一可溶于溶剂的置换膜40，该无机材料皆不含碳、氮，故而其在真空中不会释放污染气体，具体而言，该无机材料可选自以下任一种1.金属氧化物，例如可溶于水的氧化镁MgO或五氧化二钒V205。2.化合物，例如可溶于水的冰晶石Na3AlF6或氯化钠NaCl。3.可溶于水及酒精(乙醇)的碘I2元素；C、操作同一台镀膜机进行第二次镀膜作业，使之在该置换膜40上镀覆有一介于 Inm IOOOnm厚度的金属或化合物膜层50，用以构成置换膜40位于中间的三层迭接结构， 具体而言，该膜层50可选用金Au金属；D、将该三层迭接结构置入盛装有溶剂L的容器20中，待溶解中间的置换膜40后， 即可将溶剂L排出容器20，其膜层50便会平躺在基板30上，两者呈一分离状态，如此即可释出一膜层50 ；具体而言，当无机材料选用氧化镁MgO、五氧化二钒V2O5、冰晶石Na3AlF6或氯化钠NaCl时，其溶剂则选用水，一般而言置换膜40对水的溶解度会随着水温增加而增大，但是为了避免水100°C向上沸腾而使膜层50破裂，故而该水温须小于100°C，最好控制水温介于99°C至70°C之间，且最好采溢流的水平层流及不断更换方式，从而使该置换膜50 能在水中快速溶解；当无机材料选用碘I2元素时，其溶剂可选用水或酒精(乙醇)，如碘I2 元素所构成的置换膜40选用水作为溶解的溶剂时，其水温控制和氧化镁MgO、五氧化二钒 V2O5、冰晶石Na3AlF6或氯化钠NaCl相同，如碘I2元素所构成的置换膜40选用酒精(乙醇) 作为溶解的溶剂时，其温度控制介于25°C至18°C之间的室温；E、然后将该膜层50烘干处理而得一成品。本发明镀膜机可采用以下任一方式进行第一次镀膜作业、第二次镀膜作业一、热阻真空蒸镀在真空腔中以热阻首先在基板30上蒸镀可溶于水或酒精(乙醇)的置换膜40，然后，再以热阻在置换膜40上以热阻蒸镀沉积膜层50。二、电子枪真空蒸镀在真空腔中以电子枪首先在基板30上蒸镀可溶于水或酒精 (乙醇)的置换膜40，然后，再以电子枪在置换膜40上蒸镀沉积膜层50。三、真空AC/RF溅镀在真空腔中以AC/RF溅镀首先在基板30上溅镀可溶于水或酒精(乙醇)的置换膜40，然后，再以AC/RF溅镀在置换膜40上蒸镀沉积膜层50。四、CVD沉积以CVD化学气象首先在基板30上沉积可溶于水或酒精(乙醇)的置换膜40，然后，再以CVD沉积在置换膜40上蒸镀沉积膜层50。本发明的进步性在于—、本发明置换膜40由于是采用镀膜的方式而形成在基板30基准面，其接受膜层 50的表面，不管在平整性及组织密度上均极为优异，所以可使膜层50的界面平整性，能达到高平整性之质量要求。二、本发明主要通过原位(IN SITU)的方法，在同一台镀膜机依次镀上置换膜40、 膜层50，其基板30完全无需如现有技术般的移动转换，这样，其除能增加生产效率、去除购置喷涂设备成本外，更重要的是，本发明能确保置换膜40表面的洁净与平整性，以使膜层50良品率大幅提升。三、本发明是以无机材料形成置换膜40，该无机材料在镀膜作业的真空环境中，并不会释放出碳、氮气体污染膜层50，如此便可确保膜层50在生产中的表面洁净度。四、本发明置换膜40由于选用可耐高温至450°C的无机材料，其可增加基板30在镀膜作业时的加温范畴。五、请比较图1的置换膜12厚度T与图2的置换膜40厚度t，即可得知本发明以镀膜机所形成的置换膜40，其厚度t远较现有喷涂设备S更薄及平均，所以本发明具有置换膜40材料使用量较少的环保性，且使其置换膜40在被溶剂L溶解的时间能更为缩减。本发明的产业利用性在于A、本发明所制作出无基板30的超薄膜层50，其厚度在介于Inm IOOOnm时，可直接贴附在电子传输或接收组件上，用以减少讯号通过基板30的损耗与失真。B、本发明所制作出无基板30的超薄钻石膜层50，其厚度在介于Inm IOOnm时， 其可作为声波检测器的振子，用以准确检测微小声波讯号。C、本发明所制作出无基板30的超薄膜层50，其可以当作光学产品上的滤光片使用。D、本发明膜层50可作为转印薄膜使用。上述实施例和图式并非限定本发明的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本发明的专利范畴。
权利要求
1.一种分离沉积膜层制法，其特征在于，包括下列步骤A、提供一具有基准面的基板和一供基板安装的镀膜机；B、操作镀膜机进行第一次镀膜作业，使之在基板基准面镀覆形成一可溶于溶剂的置换膜；C、操作同一台镀膜机进行第二次镀膜作业，使之在该置换膜上镀覆有一金属或化合物膜层，用以构成置换膜位于中间的三层迭接结构；D、将该三层迭接结构置入溶剂中，溶解中间的置换膜，从而释出一膜层。
2.如权利要求1所述的一种分离沉积膜层制法，其特征在于，该金属或化合物膜层的厚度介于Inm lOOOnm。
3.如权利要求2所述的一种分离沉积膜层制法，其特征在于，该置换膜选用在真空中不会释放碳、氮气体的无机材料镀覆形成。
4.如权利要求3所述的一种分离沉积膜层制法，其特征在于，该无机材料选用可耐高温至450°C的金属氧化物或化合物，并该无机材料镀覆于基板基准面能形成一可溶于水的置换膜，该溶剂选用水，并控制该溶剂温度介于99°C至70°C之间，使该置换膜能在水中溶解而释出一膜层。
5.如权利要求4所述的一种分离沉积膜层制法，其特征在于，该溶剂是采溢流的水平层流及不断更换方式而溶解置换膜。
6.如权利要求4或5所述的一种分离沉积膜层制法，其特征在于，该无机材料选用氧化镁、五氧化二钒、冰晶石或氯化钠。
7.如权利要求3所述的一种分离沉积膜层制法，其特征在于，该无机材料选用可耐高温至450°C的碘元素，该无机材料镀覆在基板基准面能形成一可溶于水或酒精的置换膜，该溶剂能为水或酒精，并使该置换膜能在溶剂中溶解而释出一膜层。
8.如权利要求7所述的一种分离沉积膜层制法，其特征在于，该溶剂选用酒精时，该溶剂温度控制在25°C至18°C之间。
9.如权利要求1、2、3、4或7任一项所述的一种分离沉积膜层制法，其特征在于，该膜层选用金。
全文摘要
本发明公开一种分离沉积膜层制法，包括下列步骤A、提供一具有基准面的基板和一供基板安装的镀膜机；B、操作镀膜机进行第一次镀膜作业，使之在基板基准面镀覆形成一可溶于溶剂的置换膜；C、操作同一台镀膜机进行第二次镀膜作业，使之在该置换膜上镀覆有一金属或化合物膜层，用以构成置换膜位于中间的三层迭接结构；D、将该三层迭接结构置入溶剂中，溶解中间的置换膜，从而释出一膜层。本发明通过原位的方法，在同一台镀膜机内，而在基板上依次镀上置换膜和膜层，从而通过该置换膜优良的平整性和无机材料在镀膜的特性，而确保释出的膜层具有接口平整性及表面洁净度的增进。
文档编号C23C16/00GK102383089SQ20101027975
公开日2012年3月21日 申请日期2010年9月3日 优先权日2010年9月3日
发明者叶晋斌, 张金隆 申请人:利科光学股份有限公司